RU95110393A - Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления - Google Patents
Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществленияInfo
- Publication number
- RU95110393A RU95110393A RU95110393/07A RU95110393A RU95110393A RU 95110393 A RU95110393 A RU 95110393A RU 95110393/07 A RU95110393/07 A RU 95110393/07A RU 95110393 A RU95110393 A RU 95110393A RU 95110393 A RU95110393 A RU 95110393A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- ion
- plasma
- current
- sources
- accelerated
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Техническим результатом изобретения является повышение диссоциативно-ионизационных процессов в газовом разряде, интенсивности тока в пучке ускоренных ионов, содержания в нем атомарных одно/многозарядных ионов при неизменной мощности и газовом разряде и сохранение срока службы катода источника иоенов, повышение интенсивности тока ионов бора B+ в пучке ускоренных ионов на облучаемой мишени имплантора при доминирующем пике B+ в спектре пучка ионов, повышение стабильности тока в пучке ускоренных ионов вследствие устранения ротационной неустойчивости в источнике ионов без конструктивных изменений в импланторах. Технический результат достигается тем, что в способе получения пучка ионов нет ограничений в методе образования плазмы в магнитном поле. Для егo использования в плазму помещают дополнительный электрод с малой рабочей поверхностью по сравнению с поверхностью стенок разрядной камеры и подают на него положительный потенциал по отношению к разрядной камере, чем сосредотачивают на его рабочей поверхности полный ток разряда и повышают концентрацию плазмы и температуру электронов. Одновременно с этим в объеме плазмы образуют дрейфовый поток всех видов заряженных частиц плазмы в скрещенных Е х B полях к экстракционной щели поперек силовых линий магнитного поли вдоль стационарного двойного электрического слоя, образующегося в плазме без нарушения ее квазинейтральности, вызывая повышение концентрации плазмы у экстракционной щели и плотности тока в пучке ускоренных ионов при неизменном режиме разряда. Способ может быть осуществлен с помощью источника ионов с введенным в него дополнительным электрод
Claims (1)
- Техническим результатом изобретения является повышение диссоциативно-ионизационных процессов в газовом разряде, интенсивности тока в пучке ускоренных ионов, содержания в нем атомарных одно/многозарядных ионов при неизменной мощности и газовом разряде и сохранение срока службы катода источника иоенов, повышение интенсивности тока ионов бора B+ в пучке ускоренных ионов на облучаемой мишени имплантора при доминирующем пике B+ в спектре пучка ионов, повышение стабильности тока в пучке ускоренных ионов вследствие устранения ротационной неустойчивости в источнике ионов без конструктивных изменений в импланторах. Технический результат достигается тем, что в способе получения пучка ионов нет ограничений в методе образования плазмы в магнитном поле. Для егo использования в плазму помещают дополнительный электрод с малой рабочей поверхностью по сравнению с поверхностью стенок разрядной камеры и подают на него положительный потенциал по отношению к разрядной камере, чем сосредотачивают на его рабочей поверхности полный ток разряда и повышают концентрацию плазмы и температуру электронов. Одновременно с этим в объеме плазмы образуют дрейфовый поток всех видов заряженных частиц плазмы в скрещенных Е х B полях к экстракционной щели поперек силовых линий магнитного поли вдоль стационарного двойного электрического слоя, образующегося в плазме без нарушения ее квазинейтральности, вызывая повышение концентрации плазмы у экстракционной щели и плотности тока в пучке ускоренных ионов при неизменном режиме разряда. Способ может быть осуществлен с помощью источника ионов с введенным в него дополнительным электродом с протяженной рабочей поверхностью, закрепленной параллельно оси разрядной камеры. Электрод выполнен из тугоплавкого материала. Это в приложении к ионным источникам, работающим на импланторах, становится значительным в связи с получением существенно увеличенных токов в пучках ускоренных ионов при сохранении времени жизни их катодов.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU95110393A RU2082255C1 (ru) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU95110393A RU2082255C1 (ru) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU95110393A true RU95110393A (ru) | 1996-08-10 |
RU2082255C1 RU2082255C1 (ru) | 1997-06-20 |
Family
ID=20169135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU95110393A RU2082255C1 (ru) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2082255C1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110798958A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-02-14 | 合肥杰硕真空科技有限公司 | 一种圆腔体内环形电极等离子体放电的装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2151438C1 (ru) * | 1999-09-23 | 2000-06-20 | Бугров Глеб Эльмирович | Плазменный источник ионов с ленточным пучком (варианты) |
-
1995
- 1995-06-20 RU RU95110393A patent/RU2082255C1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110798958A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-02-14 | 合肥杰硕真空科技有限公司 | 一种圆腔体内环形电极等离子体放电的装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2082255C1 (ru) | 1997-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5212760B2 (ja) | イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ | |
US8357912B2 (en) | Techniques for providing a multimode ion source | |
US8153993B2 (en) | Front plate for an ion source | |
Gavrilov et al. | Development of technological sources of gas ions on the basis of hollow-cathode glow discharges | |
JPS5843861B2 (ja) | イオン・ビ−ム衝撃装置 | |
US20130287963A1 (en) | Plasma Potential Modulated ION Implantation Apparatus | |
US7223984B2 (en) | Helium ion generation method and apparatus | |
Gavrilov et al. | High-current pulse sources of broad beams of gas and metal ions for surface treatment | |
US6501081B1 (en) | Electron flood apparatus for neutralizing charge build up on a substrate during ion implantation | |
CA1252581A (en) | Electron beam-excited ion beam source | |
RU95110393A (ru) | Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления | |
Ehlers et al. | Increasing the efficiency of a multicusp ion source | |
JP2000048734A (ja) | 高周波イオン源 | |
Lee et al. | Axial energy spread measurements of an accelerated positive ion beam | |
Walther | Characterization of a Bernas ion source for multiply charged ion implantation | |
Miura et al. | Characteristics of negative ion current by control of bias voltage to second anode in Cs-free negative ion source using TPDSheet-U | |
JPS63301455A (ja) | イオンビ−ム照射装置 | |
Crow et al. | High Performance, Low Energy Ion Source | |
Bugaev et al. | Technological ion sources based on a vacuum arc discharge | |
Keller | High-current ion sources for ion implantation | |
Bugaev et al. | Producing of gas and metal ion beams with vacuum arc ion sources | |
SU669982A1 (ru) | Способ получени отрицательных ионов | |
WO2013096519A1 (en) | Method and apparatus for surface plasma source (sps) with anode layer plasma accelerator | |
MARTEV et al. | BROAD-BEAM LOW-ENERGY ION SOURCE FOR RESEARCH AND TECHNOLOGY APPLICATIONS | |
Benveniste et al. | ULE beamline optics |