RU95107368A - Устройство для нанесения покрытий - Google Patents

Abstract

Изобретение относится к ионно-плазменным устройствам для покрытия металлами различных материалов и может быть использовано в светотехнике, оптике, электронике, в частности микроэлектронике, для получения тонких покрытий катодным распылением. Целью изобретения является повышение производительности устройства, а также увеличение рабочей площади подложек, покрываемых металлом. Поставленная цель достигается тем, что для нанесения покрытий на подложки цилиндрической или близкой к ней формы в известном устройстве, состоящем из вакуумной камеры с давлением 0,1 - 0,01 мм рт.ст., магнитной системы, электродной системы из распыляемых металлов, источника питания, подложкодержателя, подложки, электродная система выполнена в виде чередующихся колец, расположенных на расстоянии 1 - 5 мм друг от друга, а внутренняя поверхность колец выполнена ребристой с углом при вершине 20 - 45. Магнитная система расположена коаксиально и обеспечивает индукцию магнитного поля 0,03 - 0,1 Тл. Для нанесения покрытий на подложки плоской геометрии электродная система выполнена в виде чередующихся пластин, расположенных в одной плоскости, а подложкодержатель представляет собой плоскость для крепления подложек на расстоянии 10 - 20 мм от плоскости электродов, при этом поверхность электродной системы выполнена ребристой.

Claims (1)

1. Изобретение относится к ионно-плазменным устройствам для покрытия металлами различных материалов и может быть использовано в светотехнике, оптике, электронике, в частности микроэлектронике, для получения тонких покрытий катодным распылением. Целью изобретения является повышение производительности устройства, а также увеличение рабочей площади подложек, покрываемых металлом. Поставленная цель достигается тем, что для нанесения покрытий на подложки цилиндрической или близкой к ней формы в известном устройстве, состоящем из вакуумной камеры с давлением 0,1 - 0,01 мм рт.ст., магнитной системы, электродной системы из распыляемых металлов, источника питания, подложкодержателя, подложки, электродная система выполнена в виде чередующихся колец, расположенных на расстоянии 1 - 5 мм друг от друга, а внутренняя поверхность колец выполнена ребристой с углом при вершине 20 - 45^o. Магнитная система расположена коаксиально и обеспечивает индукцию магнитного поля 0,03 - 0,1 Тл. Для нанесения покрытий на подложки плоской геометрии электродная система выполнена в виде чередующихся пластин, расположенных в одной плоскости, а подложкодержатель представляет собой плоскость для крепления подложек на расстоянии 10 - 20 мм от плоскости электродов, при этом поверхность электродной системы выполнена ребристой.