RU94044485A - Погрузочно-разгрузочное устройство для полупроводниковых пластин для установки ионной имплантации - Google Patents

Погрузочно-разгрузочное устройство для полупроводниковых пластин для установки ионной имплантации

Info

Publication number
RU94044485A
RU94044485A RU94044485/25A RU94044485A RU94044485A RU 94044485 A RU94044485 A RU 94044485A RU 94044485/25 A RU94044485/25 A RU 94044485/25A RU 94044485 A RU94044485 A RU 94044485A RU 94044485 A RU94044485 A RU 94044485A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plate
lever system
straight line
ion implantation
scanning
Prior art date
Application number
RU94044485/25A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2126191C1 (ru
Inventor
Аллен Брюн Роберт
Us]
Марлоу Рэй Эндрю
Original Assignee
Итон Корпорейшн (Us)
Итон Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Итон Корпорейшн (Us), Итон Корпорейшн filed Critical Итон Корпорейшн (Us)
Publication of RU94044485A publication Critical patent/RU94044485A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2126191C1 publication Critical patent/RU2126191C1/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00—Programme-controlled manipulators
    • B25J9/02—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type
    • B25J9/04—Programme-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type by rotating at least one arm, excluding the head movement itself, e.g. cylindrical coordinate type or polar coordinate type
    • B25J9/041—Cylindrical coordinate type
    • B25J9/042—Cylindrical coordinate type comprising an articulated arm
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202—Movement
    • H01J2237/20221—Translation
    • H01J2237/20228—Mechanical X-Y scanning

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Предлагается устройство сканирования и наклона 26 для установки ионной имплантации, в котором узел стола, принимающего пластину, 28 принимается на концевом элементе многоосевой рычажной системы, которая способна работать, осуществляя сканирующее движение пластины вдоль прямой линии, которая пересекает ось наклона пластины в любом положении наклона узла пластины. Рычажная система содержит систему направляющей и линейного подшипника 110, которая взаимно соединяет входной элемент с конечным элементом рычажной системы для ограничения сканирующего движения до прямой линии.

Claims (1)

  1. Предлагается устройство сканирования и наклона 26 для установки ионной имплантации, в котором узел стола, принимающего пластину, 28 принимается на концевом элементе многоосевой рычажной системы, которая способна работать, осуществляя сканирующее движение пластины вдоль прямой линии, которая пересекает ось наклона пластины в любом положении наклона узла пластины. Рычажная система содержит систему направляющей и линейного подшипника 110, которая взаимно соединяет входной элемент с конечным элементом рычажной системы для ограничения сканирующего движения до прямой линии.
RU94044485A 1993-12-22 1994-12-20 Погрузочно-разгрузочное устройство для полупроводниковых пластин для установки ионной имплантации RU2126191C1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US172,441 1993-12-22
US08/172,441 US5406088A (en) 1993-12-22 1993-12-22 Scan and tilt apparatus for an ion implanter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU94044485A true RU94044485A (ru) 1996-10-27
RU2126191C1 RU2126191C1 (ru) 1999-02-10

Family

ID=22627704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU94044485A RU2126191C1 (ru) 1993-12-22 1994-12-20 Погрузочно-разгрузочное устройство для полупроводниковых пластин для установки ионной имплантации

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5406088A (ru)
EP (1) EP0660369B1 (ru)
JP (1) JP3500514B2 (ru)
KR (1) KR100254931B1 (ru)
DE (1) DE69403766T2 (ru)
RU (1) RU2126191C1 (ru)
TW (1) TW267238B (ru)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5981961A (en) * 1996-03-15 1999-11-09 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for improved scanning efficiency in an ion implanter
US6271529B1 (en) 1997-12-01 2001-08-07 Ebara Corporation Ion implantation with charge neutralization
JP2000183139A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Hitachi Ltd イオン注入装置
GB2347820B (en) * 1999-03-06 2004-05-12 Ibm Maintaining a customer database in a CTI system
US6207959B1 (en) * 1999-04-19 2001-03-27 Applied Materials, Inc. Ion implanter
US6677599B2 (en) * 2000-03-27 2004-01-13 Applied Materials, Inc. System and method for uniformly implanting a wafer with an ion beam
WO2002043104A2 (en) * 2000-11-22 2002-05-30 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Hybrid scanning system and methods for ion implantation
KR100422900B1 (ko) 2001-05-10 2004-03-12 삼성전자주식회사 기준각 제공장치
KR100393231B1 (ko) * 2001-08-16 2003-07-31 삼성전자주식회사 이온주입장치에서의 회전축과 회전체의 연결시스템
GB2389958B (en) * 2002-06-21 2005-09-07 Applied Materials Inc Multi directional mechanical scanning in an ion implanter
US20050110292A1 (en) * 2002-11-26 2005-05-26 Axcelis Technologies, Inc. Ceramic end effector for micro circuit manufacturing
US20040100110A1 (en) * 2002-11-26 2004-05-27 Axcelis Technologies, Inc. Ceramic end effector for micro circuit manufacturing
US6740894B1 (en) * 2003-02-21 2004-05-25 Axcelis Technologies, Inc. Adjustable implantation angle workpiece support structure for an ion beam implanter utilizing a linear scan motor
JP4560321B2 (ja) * 2004-03-31 2010-10-13 株式会社Ｓｅｎ ウエハスキャン装置
US6903350B1 (en) 2004-06-10 2005-06-07 Axcelis Technologies, Inc. Ion beam scanning systems and methods for improved ion implantation uniformity
US7344352B2 (en) * 2005-09-02 2008-03-18 Axcelis Technologies, Inc. Workpiece transfer device
US7785060B2 (en) * 2006-10-27 2010-08-31 Applied Materials, Inc. Multi-directional mechanical scanning in an ion implanter
US8791430B2 (en) * 2011-03-04 2014-07-29 Tel Epion Inc. Scanner for GCIB system
KR101772424B1 (ko) 2014-12-31 2017-08-29 윤도식 천연 모형벽돌을 이용한 모형 건물 및 이의 제조방법
CN111593314B (zh) * 2020-05-25 2022-04-19 宁波大榭开发区佳洁锌铸件有限公司 一种真空镀膜工艺及装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3778626A (en) * 1972-07-28 1973-12-11 Western Electric Co Mechanical scan system for ion implantation
US4745287A (en) * 1986-10-23 1988-05-17 Ionex/Hei Ion implantation with variable implant angle
US5052884A (en) * 1988-10-25 1991-10-01 Tokyo Aircraft Instrument Co., Ltd. Transferring device for semiconductor wafers
US4975586A (en) * 1989-02-28 1990-12-04 Eaton Corporation Ion implanter end station
US5003183A (en) * 1989-05-15 1991-03-26 Nissin Electric Company, Limited Ion implantation apparatus and method of controlling the same
JPH03154791A (ja) * 1989-11-14 1991-07-02 Sumitomo Eaton Noba Kk ロボット用多関節アーム
US5077511A (en) * 1990-04-09 1991-12-31 Nec Electronics, Inc. Stepper motor drive for way flow end station
US5229615A (en) * 1992-03-05 1993-07-20 Eaton Corporation End station for a parallel beam ion implanter

Also Published As

Publication number Publication date
EP0660369A1 (en) 1995-06-28
DE69403766T2 (de) 1998-01-15
EP0660369B1 (en) 1997-06-11
KR100254931B1 (ko) 2000-05-01
US5406088A (en) 1995-04-11
DE69403766D1 (de) 1997-07-17
RU2126191C1 (ru) 1999-02-10
JPH07335173A (ja) 1995-12-22
JP3500514B2 (ja) 2004-02-23
TW267238B (ru) 1996-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU94044485A (ru) Погрузочно-разгрузочное устройство для полупроводниковых пластин для установки ионной имплантации
US6788455B2 (en) Microscope for the wide-angle viewing, in particular for eye surgeries
DE50105070D1 (de) Medizinische vorrichtung für stereotaxie und patientenpositionierung
DE69423358D1 (de) Multifunktionales photometer mit beweglicher verbindung zum routing von optischen fasern
BR8705905A (pt) Mecanismo de interruptor e interruptor
DK0804888T3 (da) Forbedringer i system til regulering og manøvrering af forskellige bevægelige elementer og/eller deformerbare elementer i e
EP0220211A1 (en) Ophthalmic beam director
ES2049325T3 (es) Sistema de alineacion para un instrumento oftalmico.
EP1273990A3 (en) Operation lever apparatus
US5253106A (en) Oblique viewing system for microscopes
US5166831A (en) Light beam deflecting apparatus including a fluid
DK0615636T3 (da) Indstillingsanordning til en radiatorventil
JPS60156026A (ja) オペレ−シヨンマイクロスコ−プのマニプレ−タ
US4528490A (en) Two axis drive for stage
US4362355A (en) Operating microscope assembly
JPH02223844A (ja) 物体ホルダ
KR930011960A (ko) 수술용 현미경의 자동 초점 기구
CA2293421A1 (en) Focus mechanism for varifocal lens
JPS6116167B2 (ru)
US7777942B2 (en) Device for modifying the distance between a microscope objective and a microscope stage
US5539573A (en) Universal folding condenser for microscopes
ATE143342T1 (de) Justiervorrichtung
KR20020072249A (ko) 위치화 유닛 및 적어도 두 위치화 유닛을 구비한 위치화장치
RU1829058C (ru) Устройство дл фиксации рычага тумблера
JPH0843699A (ja) 光学素子の芯出し調整機構