RU67335U1

RU67335U1 - DEVICE FOR MEGASONIC CLEANING OF SUBSTRATES

Info

Publication number: RU67335U1
Application number: RU2006142013/22U
Authority: RU
Inventors: Валерий Николаевич Комаров; Роман Валерьевич Комаров
Priority date: 2006-11-27
Filing date: 2006-11-27
Publication date: 2007-10-10

Abstract

Полезная модель относится к технике очистки поверхности плоских изделий с помощью ультразвука, мегазвука и может быть использовано в полупроводниковом производстве при изготовлении ИС, БИС и СБИС, на операциях очистки пластин кремния и фотошаблонов. Устройство для мегазвуковой очистки подложек содержит ванну для очистки подложек, центрифугу с вакуумным столиком, корпус форсунки с магистралью подвода деионизованной воды, сопло, выполненное на конусе форсунки, закрепленном с возможностью возвратно-поступательного перемещения относительно ванны на держателе форсунки, генератор мегазвуковых колебаний. Новым в устройстве является то, что форсунка снабжена насадкой со сквозным отверстием, выполненным соосно соплу конуса форсунки и установленной на держателе корпуса, содержащей радиальное отверстие, выполненное под углом и горизонтальной плоскости, в котором установлен штуцер магистрали для подачи растворов. При этом вакуумный столик центрифуги снабжен по периферии кольцевой канавкой с четырьмя диаметрально противоположно расположенными друг другу сквозными отверстиями, выполненными перпендикулярно основанию кольцевой канавки. В магистрали подвода деионизованной воды в полость форсунки установлен дроссель и датчик расхода деионизованной воды. Генератор мегазвуковых колебаний снабжен блоком контроля расхода деионизованной воды с индикатором отклонения расхода воды от заданного значения. Предложенная совокупность существенных признаков обеспечивает новый технологический результат, выражающийся в повышении качества очистки подложек, повышении производительности и надежности устройства.The utility model relates to techniques for cleaning the surface of flat products using ultrasound, megasound and can be used in semiconductor manufacturing in the manufacture of ICs, LSIs and VLSIs, and for cleaning silicon wafers and photomasks. SUBSTANCE: device for megasonic cleaning of substrates contains a bath for cleaning substrates, a centrifuge with a vacuum stage, a nozzle body with a deionized water supply line, a nozzle made on the nozzle cone fixed with the possibility of reciprocating movement relative to the bath on the nozzle holder, a megasonic oscillation generator. New in the device is that the nozzle is equipped with a nozzle with a through hole made coaxially with the nozzle of the nozzle cone and mounted on a housing holder containing a radial hole made at an angle and a horizontal plane in which the nozzle of the line for supplying solutions is installed. In this case, the centrifuge’s vacuum stage is equipped on the periphery with an annular groove with four through holes diametrically opposed to each other, made perpendicular to the base of the annular groove. A throttle and a deionized water flow sensor are installed in the line for supplying deionized water to the nozzle cavity. The megasonic oscillation generator is equipped with a deionized water flow control unit with an indicator of the deviation of the water flow from the set value. The proposed set of essential features provides a new technological result, which is expressed in improving the quality of substrate cleaning, increasing the productivity and reliability of the device.

Description

Полезная модель относится к технике очистки поверхности плоских изделий с помощью ультразвука, мегазвука и может быть использована в полупроводниковом производстве при изготовлении ИС, БИС и СБИС, на операциях очистки пластин кремния и фотошаблонов.The utility model relates to the technique of cleaning the surface of flat products using ultrasound, megasound and can be used in semiconductor manufacturing in the manufacture of ICs, LSIs and VLSIs, for cleaning silicon wafers and photo masks.

Известны различные устройства очистки полупроводниковых пластин с помощью мегазвука в специальных ваннах.There are various devices for cleaning semiconductor wafers using megasound in special bathtubs.

Пьезокерамический излучатель, как правило, устанавливается на дне ванны [1]. В ванну помещают кассету с пластинами, обработка ведется в объеме сразу всех пластин, помещенных в кассету. Групповая обработка в этом случае не обеспечивает качественную очистку пластин из-за вносимых загрязнений.Piezoceramic emitter, as a rule, is installed at the bottom of the bath [1]. A cassette with plates is placed in the bath; processing is carried out in the volume of all the plates placed in the cassette at once. Group processing in this case does not provide high-quality cleaning of the plates due to introduced contaminants.

В устройстве индивидуальной очистки пластин и шаблонов [2] очистка поверхности пластин осуществляется на центрифуге с помощью струи жидкости, вытекающей из специальной камеры через сопло. Сопло придает струе форму плоской ленты. Жидкость под давлением, возбуждаемая УЗ-преобразователем с частотой 0,2-5 МГц, направляется по магистрали к поверхности пластины. При этом плоскость струи ориентирована по радиусу вращения пластины. Но так, как ультразвуковые колебания пьезоизлучателя распределяются по длине щели, из которой вытекает озвученная жидкость, то различные участки пластины очищаются неодинаково. Получить же узкую, равномерную щель достаточно трудная проблема. Кроме того, громоздкость системы над обрабатываемой поверхностью пластины является дополнительным источником загрязнений и делает устройство дорогим в изготовлении.In the device for individual cleaning of plates and templates [2], the surface of the plates is cleaned in a centrifuge using a jet of liquid flowing out of a special chamber through a nozzle. The nozzle gives the jet a flat ribbon shape. Liquid under pressure, excited by an ultrasonic transducer with a frequency of 0.2-5 MHz, is sent along the line to the surface of the plate. In this case, the plane of the jet is oriented along the radius of rotation of the plate. But since the ultrasonic vibrations of the piezoelectric emitter are distributed along the length of the slit, from which the voiced liquid flows, various parts of the plate are not cleaned in the same way. Obtaining a narrow, uniform gap is a rather difficult problem. In addition, the bulkiness of the system above the machined surface of the plate is an additional source of contamination and makes the device expensive to manufacture.

В ультразвуковой струйной моечной установке [3] в баке из кварцевого стекла перегородкой разделены верхняя камера с ультразвуковым вибратором и нижняя камера с отверстием в данной стенке.In the ultrasonic jet washing unit [3] in the quartz glass tank, the upper chamber with an ultrasonic vibrator and the lower chamber with an opening in this wall are separated by a partition.

В верхнюю камеру подают воду для охлаждения вибратора, а в нижнюю камеру - моющий раствор. Через отверстие в данной стенке струю моющего раствора под действием энергии ультразвуковых колебаний от вибратора подают на поверхность обрабатываемого изделия.Water is supplied to the upper chamber to cool the vibrator, and a washing solution to the lower chamber. Through a hole in this wall, a stream of washing solution under the action of the energy of ultrasonic vibrations from a vibrator is fed to the surface of the workpiece.

Устройство требует наличия отдельного канала для подачи охлаждающей жидкости для вибраторов, отличается сложностью аппаратурной реализации.The device requires a separate channel for supplying coolant for vibrators; it is notable for the complexity of its hardware implementation.

Из известных наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является устройство для мегазвуковой очистки полупроводниковых пластин [4].Of the known closest in technical essence and the achieved result is a device for megasonic cleaning of semiconductor wafers [4].

Устройство содержит ванну для очистки пластин с вакуумным столиком для закрепления их, цилиндрический корпус форсунки с каналом для подачи деионизованной воды, сопло, закрепленное на корпусе форсунки с возможностью возвратно-поступательного перемещения относительно ванны, пьезоэлемент излучателем, генератор УЗ-колебаний, включающий блок питания, блок задающего генератора, усилитель мощности.The device contains a bath for cleaning the plates with a vacuum table for fixing them, a cylindrical nozzle body with a channel for supplying deionized water, a nozzle mounted on the nozzle body with the possibility of reciprocating movement relative to the bath, a piezoelectric element with a radiator, an ultrasonic vibration generator including a power supply, master oscillator block, power amplifier.

Недостатки известного устройства заключается в том, что наличие одного канала для подачи воды делает его невозможным для одновременной подачи различных растворов для очистки. При использовании же канала для подачи растворов, его необходимо тщательно промыть деионизованной водой, что увеличивает время обработки пластины и значительно увеличивает расход дорогостоящей воды. А возможность попадания промывочной воды на обратную сторону пластины снижает качество обработки. Отсутствие контроля расхода воды через форсунку отражается на качестве очистки и лишает возможность оператору контролировать процесс очистки.The disadvantages of the known device is that the presence of one channel for supplying water makes it impossible for the simultaneous supply of various solutions for cleaning. When using the channel for supplying solutions, it must be thoroughly rinsed with deionized water, which increases the processing time of the plate and significantly increases the consumption of expensive water. And the possibility of washing water on the back of the plate reduces the quality of processing. The lack of control of the flow rate of water through the nozzle affects the quality of cleaning and makes it impossible for the operator to control the cleaning process.

Техническим результатом предложенной полезной модели является повышение качества очистки подложек, повышение, производительности, надежности работы устройства, а также улучшение удобства работы оператора.The technical result of the proposed utility model is to improve the quality of cleaning the substrates, increase productivity, reliability of the device, as well as improving the convenience of the operator.

Указанный технический результат достигается тем, что в устройстве для мегазвуковой очистки подложек, центрифугу с вакуумным столиком, корпус форсунки с магистралью подвода деионизованной воды, сопло, выполненное на конусе форсунки, закрепленной с возможностью возвратно-поступательного перемещения относительно ванны на держателе форсунки, генератор мегазвуковых колебаний, форсунка снабжена насадкой со сквозным отверстием, выполненным соосно соплу корпуса форсунки, установленной на держателе корпуса, содержащей радиальное отверстие, выполненное под углом к горизонтальной плоскости, в котором установлен штуцер магистрали для подачи растворов, при этом вакуумный столик центрифуги снабжен по периферии кольцевой канавкой с четырьмя диаметрально-противоположно расположенными друг другу сквозными отверстиями, выполненными перпендикулярно основанию кольцевой канавки. В магистрали подвода деионизованной воды в полости форсунки установлен дроссель и датчик расхода деионизованной воды. Генератор мегазвуковых колебаний снабжен блоком контроля расхода деионизованной воды с индикатором отклонения расхода воды от заданного значения.The specified technical result is achieved by the fact that in the device for megasonic cleaning of substrates, a centrifuge with a vacuum stage, a nozzle body with a deionized water supply line, a nozzle made on a nozzle cone fixed with the possibility of reciprocating movement relative to the bath on the nozzle holder, a megasonic oscillation generator , the nozzle is equipped with a nozzle with a through hole made coaxially with the nozzle of the nozzle body mounted on the housing holder containing a radial hole made at an angle to the horizontal plane in which the nozzle of the line for supplying solutions is installed, while the centrifuge's vacuum stage is provided on the periphery with an annular groove with four through-holes diametrically opposed to each other, made perpendicular to the base of the annular groove. A throttle and a deionized water flow sensor are installed in the deionized water supply line in the nozzle cavity. The megasonic oscillation generator is equipped with a deionized water flow control unit with an indicator of the deviation of the water flow from the set value.

Наличие «насадки со сквозным отверстием, выполненным соосно соплу конуса форсунки и дополнительной магистрали для подачи растворов», и «штуцера магистрали для подачи растворов, установленного в радиальном отверстии держателя корпуса», обеспечивает смешивание подаваемого раствора с озвученной деионизованной водой не внутри конуса форсунки, а в полости насадки. Это исключает загрязнение внутренней полости конуса и необходимость его промывки, что сокращает время обработки.The presence of a “nozzle with a through hole made coaxially with the nozzle of the nozzle cone and an additional line for supplying solutions”, and “a nozzle of the line for supplying solutions installed in the radial hole of the housing holder” ensures mixing of the supplied solution with voiced deionized water not inside the nozzle cone, but in the cavity of the nozzle. This eliminates the contamination of the inner cavity of the cone and the need for washing, which reduces the processing time.

Кроме того, поскольку расстояние между торцем насадки и плоскостью обрабатываемой подложки выбирается не более 0,5-1 мм, то подаваемый раствор не сразу удаляется из зоны обработки.In addition, since the distance between the end face of the nozzle and the plane of the processed substrate is selected no more than 0.5-1 mm, the feed solution is not immediately removed from the treatment zone.

Благодаря малому зазору между вращающейся подложкой и торцем насадки, перемещающейся возвратно-поступательному по радиусу, происходит равномерное распределение подаваемого раствора по поверхности подложки. Это обеспечивает качественную мегазвуковую очистку подложки.Due to the small gap between the rotating substrate and the end face of the nozzle, moving reciprocating along the radius, there is a uniform distribution of the feed solution on the surface of the substrate. This provides high-quality megasonic cleaning of the substrate.

Признак «вакуумный столик центрифуги снабжен по периферии кольцевой канавкой со сквозными отверстиями...» исключает попадание раствора на обратную сторону обрабатываемой подложки из-за наличия вакуума, что сказывается на качестве очистки.The sign “the vacuum stage of the centrifuge is equipped on the periphery with an annular groove with through holes ...” eliminates the ingress of the solution onto the back of the processed substrate due to the presence of vacuum, which affects the quality of cleaning.

Введение блока контроля расхода деионизованной воды с индикатором отклонения расхода воды от заданного в генератор мегазвуковых колебаний, а также наличие дросселя и датчика расхода, установленных в магистрали подвода деионизованой воды позволяют не только контролировать расход дорогостоящей деионизованой воды, но и управлять (выбирать оптимальный расход) процессом очистки.The introduction of a deionized water flow control unit with an indicator of the deviation of the water flow from the megasonic vibrations set in the generator, as well as the presence of a throttle and a flow sensor installed in the deionized water supply line allow not only to control the flow of expensive deionized water, but also to control (choose the optimal flow) process cleaning up.

Таким образом, предложенная совокупность существенных признаков является новой и обеспечивает технический результат, выражающийся в повышении качества очистки и производительности, а также в повышении надежности работы устройства.Thus, the proposed set of essential features is new and provides a technical result, expressed in improving the quality of cleaning and productivity, as well as in improving the reliability of the device.

Следовательно, она соответствует критериям патентоспособности полезной модели: «новизна», «технический эффект» и «промышленная применимость».Therefore, it meets the patentability criteria of a utility model: “novelty”, “technical effect” and “industrial applicability”.

Сущность полезной модели поясняется чертежами, где схематично изображены:The essence of the utility model is illustrated by drawings, which schematically depict:

на фиг.1 - общий вид устройства;figure 1 - General view of the device;

на фиг.2 - форсунка и ванна с вакуумным столиком;figure 2 - nozzle and bath with a vacuum table;

на фиг.3 - вакуумный столик, разрез по А-А;figure 3 is a vacuum table, a section along aa;

на фиг.4 - блок индикации расхода деионизованной воды на мегазвуковом генераторе;figure 4 is a block indicating the flow rate of deionized water on a megasonic generator;

на фиг.5 - блок-схема устройства для мегазвуковой очистки подложек.figure 5 is a block diagram of a device for megasonic cleaning of substrates.

Предлагаемое устройство для мегазвуковой очистки подложек (фиг.1, фиг.2) содержит форсунку 1, вакуумный столик 2, на котором располагают обрабатываемую подложку 3, ванну 4, корпус 5, в котором на ванну 6 установлена центрифуга с помощью подшипников 7, 8, вакуумного уплотнения 9.The proposed device for megasonic cleaning of substrates (Fig. 1, Fig. 2) contains a nozzle 1, a vacuum table 2, on which the processed substrate 3, bath 4, body 5, in which a centrifuge is mounted on the bath 6 using bearings 7, 8, vacuum seal 9.

В корпус 5 установлен штуцер для подвода вакуума на вакуумный столик 2.A fitting for supplying vacuum to the vacuum table 2 is installed in the housing 5.

Привод 11, установленный на корпусе 5 приводит во вращение вал 6 через шкивы 12, 13 и ремень 14.The drive 11 mounted on the housing 5 drives the shaft 6 through the pulleys 12, 13 and the belt 14.

Форсунка 1 установлена на держателе 15 с возможностью радиального перемещения ее в процессе очистки от привода 16. На держателе 15 закреплена магистраль подвода раствора 17 к цилиндру 18 (фиг.2), установленному в насадке 19 форсунки 1.The nozzle 1 is mounted on the holder 15 with the possibility of radial movement of it in the process of cleaning the drive 16. On the holder 15 is fixed the line for supplying the solution 17 to the cylinder 18 (figure 2) installed in the nozzle 19 of the nozzle 1.

Генератор мегазвуковых колебаний 20 через высоковольтный кабель 21 соединен с пьезокерамическим элементом 22 через контакты 23, 24, расположенные на диэлектрической пластине 25, и лепесток 26, контактирующий с центральным электродом пьезокерамического элемента 22. Генератор 20 через кабель 27 соединен с датчиком расхода 28 деионизованной воды, на которой установлен также дроссель 30. Магистраль 29 соединена со штуцером 31, установленным на корпусе 32 форсунки 1 (фиг.2).The mega-sound oscillator 20 through a high-voltage cable 21 is connected to the piezoelectric element 22 through the contacts 23, 24 located on the dielectric plate 25, and the lobe 26 in contact with the central electrode of the piezo-ceramic element 22. The generator 20 is connected via a cable 27 to the flow sensor 28 of deionized water, on which the throttle 30 is also installed. The highway 29 is connected to the fitting 31 mounted on the housing 32 of the nozzle 1 (figure 2).

Пьезокерамический элемент 22 зажат между корпусом форсунки 32 и контактирующим элементом 33 с помощью гайки 34. Высококачественная полость форсунки закрыта крышкой 35. В корпусе 32 форсунки 1 установлен конус 36, который закреплен с помощью держателя 37.The piezoceramic element 22 is sandwiched between the nozzle body 32 and the contacting member 33 by means of a nut 34. The high-quality nozzle cavity is closed by a cover 35. A cone 36 is mounted in the nozzle body 32, which is secured by the holder 37.

На цилиндрической части держателя 37 соосно форсунки установлена насадка 19 с радиальным отверстием, в котором установлен штуцер 18.On the cylindrical part of the holder 37 coaxial nozzle mounted nozzle 19 with a radial hole in which the fitting 18 is installed.

Вакуумный столик 2 снабжен вакуумной полостью 39 для закрепления обрабатываемой подложки. По периферии вакуумного столика 2 выполнена кольцевая канавка 40 с четырьмя отверстиями 41, 42, 43, 44, выполненными диаметрально - противоположно друг другу. Оси кольцевых отверстий совпадают с осью канавки 40 и направлены перпендикулярно основанию кольцевой канавки 40.The vacuum stage 2 is equipped with a vacuum cavity 39 for fixing the processed substrate. On the periphery of the vacuum stage 2 there is made an annular groove 40 with four holes 41, 42, 43, 44, made diametrically opposite to each other. The axis of the annular holes coincide with the axis of the groove 40 and are directed perpendicular to the base of the annular groove 40.

Генератор мегазвуковых колебаний (фиг.4, 5) снабжен блоком контроля расхода 45 деионизованной воды со световыми индикаторами 46, 47, 48 показывающими расход деионизованной воды через форсунку 1. Один выход блока контроля расхода 45 соединен с первым выходом блока питания 49, а другой - с датчиком расхода 28 деионизованной воды. Второй выход блока питания 49 подключен к входу задающего генератора 50, выходом соединенного с усилителем мощности 51, один выход которого подключен к электродам пьезоэлемента 22, а второй - к блоку задания мощности излучения 52. Второй вход усилителя мощности 51 соединен с выходом пьезоэлемента 22.The mega-sonic oscillation generator (Figs. 4, 5) is equipped with a deionized water flow control unit 45 with indicator lights 46, 47, 48 showing deionized water flow through the nozzle 1. One output of the flow control unit 45 is connected to the first output of the power supply 49, and the other with flow sensor 28 deionized water. The second output of the power supply 49 is connected to the input of the master oscillator 50, the output connected to the power amplifier 51, one output of which is connected to the electrodes of the piezoelectric element 22, and the second to the unit for setting the radiation power 52. The second input of the power amplifier 51 is connected to the output of the piezoelectric element 22.

Работа устройства происходит следующим образом.The operation of the device is as follows.

Обрабатываемую подложку 3 (например, кремниевую пластину или фотошаблон) укладывают на вакуумный столик 2, где она с помощью вакуума закрепляется. Затем вакуумный столик 2 с закрепленной на нем подложкой 3 начинают вращать от привода 11 через шкивы 12, 13, ремень 14, вал 6.The processed substrate 3 (for example, a silicon wafer or a photomask) is placed on a vacuum table 2, where it is fixed by vacuum. Then the vacuum stage 2 with the substrate 3 fixed on it begins to rotate from the drive 11 through the pulleys 12, 13, belt 14, shaft 6.

В форсунку 1 (фиг.1) через дроссель 30, подают деионизованную воду и включают генератор 20 мегазвуковых колебаний. Кроме того, форсунка начинает совершать возвратно-поступательные перемещение в горизонтальной плоскости с помощью пневмопривода 16.In the nozzle 1 (figure 1) through the throttle 30, serves deionized water and turn on the generator 20 mesonic vibrations. In addition, the nozzle begins to make reciprocating movement in the horizontal plane using the pneumatic actuator 16.

Дросселем 30 с помощью датчика 28 и блока контроля 45 генератора 20 устанавливают необходимый оптимальный расход деионизованной воды через форсунку, при котором достигаются наилучшие результаты очистки.The throttle 30 using the sensor 28 and the control unit 45 of the generator 20 establish the necessary optimal flow rate of deionized water through the nozzle, at which the best cleaning results are achieved.

При необходимости использования какого-либо раствора в процессе очистки раствор подают по магистрали 17 через штуцер 18 в полость Б насадки 19.If you need to use any solution in the cleaning process, the solution is fed through line 17 through the nozzle 18 into the cavity B of the nozzle 19.

В полости Б происходит смешивание раствора с озвученной деионизованной водой. Расстояние между торцем насадки 19 и поверхностью обрабатываемой подложки 3 и выбирают не более 0,5÷1 мм, т.е. подаваемый раствор не сразу удаляется из зоны обработки. Благодаря малому зазору между торцем насадки 19 и поверхностью обрабатываемой подложки 3, а также совокупности движений обрабатываемой подложки (вращение) и форсунки 1 (возвратно-поступательное сканирование в радиальном направлении от периферии подложки к ее центру) происходит равномерное распределение подаваемого раствора по поверхности обрабатываемой подложки и осуществляется очистка поверхности за счет мегазвуковых колебаний и кинематической энергии жидкости.In cavity B, the solution is mixed with the voiced deionized water. The distance between the end face of the nozzle 19 and the surface of the processed substrate 3 and choose no more than 0.5 ÷ 1 mm, i.e. the feed solution is not immediately removed from the treatment area. Due to the small gap between the end face of the nozzle 19 and the surface of the processed substrate 3, as well as the combination of motions of the processed substrate (rotation) and nozzle 1 (reciprocal scanning in the radial direction from the periphery of the substrate to its center), the feed solution is evenly distributed over the surface of the processed substrate and surface cleaning is carried out due to mesonic vibrations and kinematic energy of the liquid.

По истечении заданного времени подача раствора прекращается, подложка продолжает вращаться и также продолжает подаваться озвученная мегазвуковая деионизованная вода, осуществляя окончательную очистку поверхности.After a predetermined time, the flow of the solution ceases, the substrate continues to rotate, and voiced megasonic deionized water also continues to be supplied, performing the final cleaning of the surface.

Так как раствор не попадает во внутрь конуса 36 форсунки 1, то нет загрязнения внутренней полости конуса и нет необходимости промывки полости конуса от остатков раствора. Таким образом, сокращается время обработки, за счет чего увеличивается производительность процесса очистки, так как исключается вероятность наличия остатков раствора.Since the solution does not enter the inside of the cone 36 of the nozzle 1, there is no contamination of the internal cavity of the cone and there is no need to wash the cone cavity from the remnants of the solution. Thus, the processing time is reduced, due to which the productivity of the cleaning process is increased, since the likelihood of residual solution is eliminated.

За счет наличия на периферии столика кольцевой канавки со сквозными отверстиями исключается попадание раствора на обратную сторону подложки, так как отсутствует эффект затягивания.Due to the presence of an annular groove with through holes on the periphery of the table, the solution does not get onto the back of the substrate, since there is no pulling effect.

Источники информации принятые во внимание:Sources of information taken into account:

1. Патент США 4804007, Кл. В 08 В 3/00, 1989 г.1. US patent 4804007, CL. B 08 B 3/00, 1989

2. Патент США 4326553, Кл. В 08 В 3/00, 1980 г.2. US patent 4326553, CL. B 08 B 3/00, 1980

3. Патент Япония 6073657, Кл. В 08 В 3/12, 1997 г.3. Japan Patent 6073657, Cl. B 08 B 3/12, 1997

4. Патент РФ 30102, Кл. В 08 В 3/00, 2002 г.4. RF patent 30102, Cl. B 08 B 3/00, 2002

Claims

A device for megasonic cleaning of substrates, comprising a bath for cleaning substrates, a centrifuge with a vacuum stage, a nozzle body with a deionized water supply line, a nozzle made on the nozzle cone mounted with a possibility of reciprocating movement relative to the bath on the nozzle holder, a generator of megasonic vibrations, characterized the fact that the nozzle is equipped with a nozzle with a through hole made coaxially with the nozzle of the nozzle cone mounted on the housing holder containing a radial hole an angle made at an angle to the horizontal plane in which the nozzle of the line for supplying solutions is installed, while the centrifuge's vacuum stage is equipped on the periphery with an annular groove with four through holes diametrically oppositely arranged to each other, made perpendicular to the base of the annular groove, and in the deionized water supply line a throttle is installed in the nozzle cavity, a deionized water flow sensor, in addition, the megasonic oscillation generator is equipped with a flow control unit deionized water with an indicator off the water flow from the set.