RU43959U1 - DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS - Google Patents
DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS Download PDFInfo
- Publication number
- RU43959U1 RU43959U1 RU2004119260/22U RU2004119260U RU43959U1 RU 43959 U1 RU43959 U1 RU 43959U1 RU 2004119260/22 U RU2004119260/22 U RU 2004119260/22U RU 2004119260 U RU2004119260 U RU 2004119260U RU 43959 U1 RU43959 U1 RU 43959U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- wire
- sprayed
- witness
- thickness
- substance
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Предлагаемая полезная модель относится к устройствам для измерения толщины напыляемых пленок с помощью резистивного ″свидетеля″ и может использоваться для контроля толщины, а также скорости напыления проводящих пленок.The proposed utility model relates to devices for measuring the thickness of sprayed films using a resistive "witness" and can be used to control the thickness and also the deposition rate of conductive films.
Новым в устройстве является выполнение ″свидетеля″ в виде проволоки, а также введение в устройство источника нагрева проволоки до температуры испарения напыляемого вещества. Выполнение ″свидетеля″ в виде проволоки позволяет установить его непосредственно перед запыляемой подложкой в том же потоке напыляемого вещества, что и подложка, в результате чего точность контроля толщины напыляемой пленки увеличивается. Наличие источника нагрева проволоки до температуры испарения напыляемого вещества, который может подключаться к проволоке по окончании процесса напыления, позволяет без развакуумирования установки проводить очистку ″свидетеля″ от напыленной пленки и затем возобновлять напыление до тех пор, пока в испарителе не закончится распыляемое вещество.New in the device is the implementation of the “witness” in the form of a wire, as well as the introduction to the device of a source of heating the wire to the evaporation temperature of the sprayed substance. Execution of the ″ witness ″ in the form of a wire allows you to install it directly in front of the dusted substrate in the same stream of sprayed substance as the substrate, as a result of which the accuracy of controlling the thickness of the sprayed film increases. The presence of a source of heating the wire to the evaporation temperature of the sprayed substance, which can be connected to the wire at the end of the spraying process, allows the “witness” to be cleaned of the sprayed film without evacuating the installation and then resume spraying until the sprayed substance runs out in the evaporator.
Description
Предлагаемая полезная модель относится к устройствам для измерения толщины напыляемых пленок с помощью резистивного ″свидетеля″ и может использоваться для контроля толщины, а также скорости напыления проводящих пленок.The proposed utility model relates to devices for measuring the thickness of sprayed films using a resistive "witness" and can be used to control the thickness and also the deposition rate of conductive films.
Из известных в настоящее время устройств для измерения толщины напыляемых на подложку проводящих пленок наибольшее распространение на практике нашли устройства с использованием кварцевых и резистивных датчиков.Of the currently known devices for measuring the thickness of conductive films deposited on a substrate, devices using quartz and resistive sensors are most widely used in practice.
Принцип действия устройства с применением кварцевого датчика основан на зависимости частоты сигнала, генерируемого кварцевым элементом, от изменения его массы при напылении на его поверхность пленки. С увеличением массы кварцевого элемента его резонансная частота падает. По изменению резонансной частоты, фиксируемой частотомером, определяют толщину напыленной пленки. Устройство для измерения толщины пленки с кварцевым датчиком содержит размещенный в вакуумной камере кварцевый элемент, помещенный в кожух с отверстием для пропускания потока частиц напыляемого вещества и систему охлаждения, которая предотвращает нагрев кварцевого элемента в процессе напыления. Это позволяет избежать погрешности измерения толщины напыляемой пленки, связанной с неконтролируемым изменением частоты кварцевого элемента при нестабильности его температуры. Кварцевый датчик включают в контур генератора частоты.The principle of operation of the device using a quartz sensor is based on the dependence of the frequency of the signal generated by the quartz element on the change in its mass when spraying on its film surface. With increasing mass of the quartz element, its resonant frequency decreases. By changing the resonant frequency fixed by the frequency meter, the thickness of the sprayed film is determined. A device for measuring a film thickness with a quartz sensor comprises a quartz element placed in a vacuum chamber, placed in a casing with an opening for passing a stream of particles of the sprayed substance, and a cooling system that prevents the quartz element from heating during the deposition process. This avoids the error in measuring the thickness of the sprayed film associated with an uncontrolled change in the frequency of the quartz element with instability of its temperature. A quartz sensor is included in the frequency generator circuit.
Недостатки подобного устройства связаны с необходимостью охлаждения кварцевого датчика, размещаемого внутри вакуумной камеры, что усложняет конструкцию напылительного устройства, а также с необходимостью периодического демонтажа датчиков и удаления с кварцевого элемента напыленной пленки. Если не проводить периодическую чистку кварцевого элемента, резко возрастает погрешность измерения (см., например. Кварцевый измеритель толщины пленки КИТ-1. Техническое описание и инструкция по эксплуатации. В/о ″Машприборинторг″, М., 1969 г.; Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. В.Е.Минайчев ″Нанесение пленок в вакууме″. М. ″Высшая школа″, 1989 г., стр.58-59).The disadvantages of such a device are associated with the need to cool the quartz sensor placed inside the vacuum chamber, which complicates the design of the spraying device, as well as the need for periodic removal of the sensors and removal of the sprayed film from the quartz element. If periodic cleaning of the quartz element is not carried out, the measurement error increases sharply (see, for example, a KIT-1 quartz film thickness meter. Technical description and operating instructions. V / o Маш Mashpriborintorg ’, M., 1969; Technology of semiconductor devices and products of microelectronics. Book 6. V.E. Minaichev ″ Application of films in vacuum ″. M. ″ Higher school ″, 1989, pp. 58-59).
Известны устройства для измерения толщины проводящих пленок с использование резистивного ″свидетеля″, которые не требуют охлаждения. Обычно ″свидетель″ представляет собой подложку из изоляционного материала с контактными площадками, которые соединяются с внешним измерительным прибором, содержащим, как правило, мостовую схему измерения сопротивления. ″Свидетель″ устанавливают в вакуумную напылительную камеру в потоке распыляемого вещества как можно ближе к запыляемой подложке, как правило, сбоку от нее, чтобы не заслонять подложку от потока и при этом обеспечить по возможности одинаковые условия напыления. В процессе напыления по мере утолщения пленки сопротивление ″свидетеля″ падает. Изменение сопротивления между контактными площадками ″свидетеля″ может быть пересчитано в скорость напыления или в толщину образовавшейся на ″свидетеле″ пленки. При это считается, что сопротивление пленок, нанесенных на рабочую подложку и ″свидетель″, одинаково. Обычно путем последовательных напылений снимается градуировочная кривая зависимости толщины пленки, напыленной на ″свидетель″, от сопротивления между его контактными площадками, по которой и определяют толщину получаемой при последующих Known devices for measuring the thickness of conductive films using a resistive ″ witness ″ that do not require cooling. Usually a “witness” is a substrate of insulating material with contact pads that are connected to an external measuring device, which usually contains a bridge resistance measurement circuit. The “witness” is installed in the vacuum spraying chamber in the stream of the sprayed substance as close as possible to the dusty substrate, usually on the side of it, so as not to obstruct the substrate from the stream and at the same time ensure the same spraying conditions. In the process of spraying as the film thickens, the resistance of the ″ witness ″ falls. The change in resistance between the contact areas of the ″ witness ″ can be converted into the spraying rate or the thickness of the film formed on the ″ witness ″. In this case, it is believed that the resistance of the films deposited on the working substrate and ″ witness ″ is the same. Usually, by means of successive sputtering, a calibration curve is taken of the dependence of the thickness of the film sprayed on the “witness” on the resistance between its contact pads, by which the thickness obtained during subsequent
напылениях пленки (см., например. Технологию полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 6. В.ЕМинайчев. Нанесение пленок в вакууме, М., ″Высшая школа″, 1989 г., стр.56-57).film spraying (see, for example. Technology of semiconductor devices and products of microelectronics. Book 6. V.EMinaichev. Application of films in vacuum, M., "Higher School", 1989, pp. 56-57).
Это устройство, как наиболее близкое к предлагаемому устройству по конструкции и принципу действия, принято за прототип.This device, as the closest to the proposed device in design and operation, is taken as a prototype.
Основной недостаток такого устройства состоит в том, что для сохранения приемлемой точности измерения резистивный ″свидетель″, как и кварцевый элемент, необходимо периодически извлекать из вакуумированного корпуса для очистки от напыленного слоя, либо замены на новый ″свидетель″. Очевидно, что демонтаж ″свидетеля″ из вакуумированного корпуса, его очистка или замена на новый ″свидетель″ с последующей установкой в вакуумированный корпус приводят к значительным трудозатратам и усложнению процесса измерения толщины напыляемых пленок.The main disadvantage of such a device is that in order to maintain acceptable measurement accuracy, the resistive ″ witness ″, as well as the quartz element, must be periodically removed from the evacuated housing to clean from the sprayed layer, or replaced with a new ″ witness ″. Obviously, the dismantling of the ″ witness ″ from the evacuated casing, its cleaning or replacement with a new ″ witness ″ followed by installation in the evacuated casing leads to significant labor costs and complicates the process of measuring the thickness of the sprayed films.
Настоящее предложение позволяет снизить трудозатраты, связанные с проведением измерений толщины напыляемых проводящих пленок.This proposal allows you to reduce the labor costs associated with measuring the thickness of the sprayed conductive films.
Для этого в известном устройстве для измерения толщины напыляемых на подложку проводящих пленок, включающем размещенный в потоке испаряемого вещества резистивный ″свидетель″, подключенный ко входу измерителя сопротивления, резистивный ″свидетель″ выполнен в виде проволоки, а устройство дополнительно содержит источник нагрева проволоки до температуры испарения напыляемого вещества, выполненный с возможностью его подключения к проволоке по окончании процесса напыления.To do this, in a known device for measuring the thickness of conductive films deposited on a substrate, including a resistive свидетель witness ’placed in the flow of the evaporated material connected to the input of a resistance meter, the resist свидетель witness’ is made in the form of a wire, and the device further comprises a source of heating the wire to an evaporation temperature sprayed substance, made with the possibility of its connection to the wire at the end of the spraying process.
Для повышения точности измерения проволочный ″свидетель″ установлен непосредственно перед запыляемой подложкой.To increase the accuracy of measurement, a wire ″ witness ″ is installed directly in front of the dusty substrate.
Предлагаемая полезная модель поясняется чертежом, где на фиг.1 схематически представлено предлагаемое устройство с вакуумной установкой напыления; на фиг.2 - зависимость сопротивления проволоки от толщины напыленной пленки индия.The proposed utility model is illustrated in the drawing, where figure 1 schematically shows the proposed device with a vacuum spraying unit; figure 2 - dependence of the resistance of the wire on the thickness of the deposited film of indium.
Заявляемое устройство содержит резистивный ″свидетель″ в виде проволоки 1, размещенной в вакуумной камере 2 и соединенной через вакуумноплотную изоляцию и переключатель 3 с измерителем сопротивления 4, находящимся вне вакуумной камеры 2. Рабочие подложки 51...5n закреплены на подвижном держателе 6, под которым установлен экран 7 с окном для пропускания к подложке потока паров напыляемого вещества. Напротив окна в экране 7 устанавливают запыляемую подложку 5n. Проволочный ″свидетель″ 1 размещен непосредственно перед запыляемой подложкой 5n. Источник нагрева 8 проволоки 1 до температуры испарения напыляемого вещества размещен вне вакуумной камеры 2 и через переключатель 3 и вакуумноплотную изоляцию может подключаться к проволочному ″свидетелю″ 1. Напыляемое вещество размещают в лодочке испарителя 9 внутри вакуумной камеры 2. Между испарителем 9 и окном в экране 7 установлена заслонка 10. Выводы переключателя 3 защищены от потока напыляемого вещества экранами (на чертеже не показаны). Предлагаемое устройство работает следующим образом. После включения испарителя напыляемое вещество, размещенное в лодочке испарителя 9, закипает и начинает испаряться. Поток напыляемого вещества оседает на проволоке 1 и создает дополнительный проводящий слой на ее поверхности, в результате чего по мере распыления материала сопротивление проволоки 1 падает, и тем быстрее, чем больше скорость испарения. Регулировкой мощности нагрева испарителя добиваются требуемой скорости испарения. По достижении требуемой скорости испарения заслонка 10 отодвигается, открывая для потока паров испаряемого вещества проволоку 1 и запыляемую положку 5n. Толщина напыляемой пленки приблизительно пропорциональна изменению сопротивления проволоки 1 (см. фиг.2). Проволока 1 с помощью переключателя 3 подключается к измерителю сопротивления 4. Очевидно, что чем тоньше проволока 1, и чем выше ее собственное The inventive device contains a resistive "witness" in the form of a wire 1 placed in a vacuum chamber 2 and connected through a vacuum tight insulation and switch 3 with a resistance meter 4 located outside the vacuum chamber 2. Working substrates 5 1 ... 5 n are mounted on a movable holder 6 under which a screen 7 is installed with a window for passing a vapor stream of the sprayed substance to the substrate. Opposite the window in the screen 7 install a dusty substrate 5 n . Wire ″ witness ″ 1 is placed directly in front of the dusty substrate 5 n . The heating source 8 of wire 1 to the evaporation temperature of the sprayed substance is placed outside the vacuum chamber 2 and through switch 3 and vacuum tight insulation can be connected to the wire "witness" ″ 1. The sprayed substance is placed in the boat of the evaporator 9 inside the vacuum chamber 2. Between the evaporator 9 and the window in the screen 7, a shutter 10 is installed. The terminals of the switch 3 are protected from the flow of the sprayed material by screens (not shown in the drawing). The proposed device operates as follows. After turning on the evaporator, the sprayed substance placed in the boat of the evaporator 9 boils and begins to evaporate. The flow of the sprayed substance settles on the wire 1 and creates an additional conductive layer on its surface, as a result of which, as the material is sprayed, the resistance of the wire 1 decreases, and the faster the higher the evaporation rate. By adjusting the heating power of the evaporator, the required evaporation rate is achieved. Upon reaching the desired evaporation rate, the shutter 10 is pushed open, opening the wire 1 and the dusty position 5 n for the vapor stream of the vaporized substance. The thickness of the sprayed film is approximately proportional to the change in resistance of the wire 1 (see figure 2). Wire 1 using a switch 3 is connected to a resistance meter 4. Obviously, the thinner the wire 1, and the higher its own
сопротивление R, тем заметнее изменение сопротивления ΔR с увеличением толщины напиленного слоя.resistance R, the more noticeable is the change in resistance ΔR with increasing thickness of the deposited layer.
По достижении определенного значения сопротивления проволоки 1, соответствующего заданной толщине напыляемой пленки (см. фиг.2) заслонка 10 закрывается, испаритель 9 выключается, и процесс напыления заканчивается. После этого с помощью переключателя 3 проволока 1 отключается от измерителя сопротивления 4 и подсоединяется к источнику нагрева 8. Нагреваясь до температуры испарения, напыленная на проволоку 1 пленка испаряется до полного очищения проволоки 1, после чего с помощью переключателя 3 проволока 1 отключается от источника нагрева 8 и подключается к измерителю сопротивления 4. После этого, разместив свободную подложку на место запыленной, можно начинать следующий цикл напыления пленки.Upon reaching a certain value of the resistance of the wire 1 corresponding to a given thickness of the sprayed film (see figure 2), the shutter 10 closes, the evaporator 9 is turned off, and the spraying process ends. After that, using switch 3, wire 1 is disconnected from resistance meter 4 and connected to heating source 8. When heated to the evaporation temperature, the film deposited on wire 1 is evaporated until wire 1 is completely cleaned, after which, using switch 3, wire 1 is disconnected from heating source 8 and connected to a resistance meter 4. After this, placing the free substrate in place of dusty, you can begin the next cycle of film deposition.
Проволоку 1 необязательно очищать испарением после каждого напыления. Периодичность очистки зависит от толщины напыляемой за один цикл пленки и определяется для каждого напыляемого материала, исходя из сохранения линейной зависимости сопротивления проволоки 1 от толщины напыленной пленки.Wire 1 does not need to be cleaned by evaporation after each spraying. The cleaning frequency depends on the thickness of the film sprayed in one cycle and is determined for each sprayed material, based on the preservation of the linear dependence of the resistance of wire 1 on the thickness of the sprayed film.
Таким образом, периодически очищая проволоку 1, можно напылить без развакуумирования системы любую заданную толщину пленки, вплоть до 50 мкм и более.Thus, periodically cleaning the wire 1, it is possible to spray any given film thickness without evacuating the system, up to 50 microns or more.
Дополнительным преимуществом предлагаемого устройства является возможность расположения ″свидетеля″ непосредственно перед запыляемой подложкой, так что ″свидетель″ и подложка находятся практически в одинаковом потоке напыляемого вещества. Такое расположение возможно за счет выполнения ″свидетеля″ в виде An additional advantage of the proposed device is the possibility of arranging a ″ witness ″ directly in front of the dusted substrate, so that the ″ witness ″ and the substrate are practically in the same stream of the sprayed substance. This arrangement is possible due to the implementation of the ″ witness ″ in the form
проволоки, которая не препятствует из-за своей очень малой толщины прохождению паров напыляемого вещества к запыляемой подложке.wire, which does not interfere due to its very small thickness, the passage of vapor of the sprayed substance to the dusty substrate.
В результате обеспечивается более точное измерение толщины напыляемой пленки за счет устранения погрешности, возникающей в известных устройствах из-за расположения ″свидетеля″ в периферийной части потока напыляемого вещества, которая в той или иной мере отличается по плотности и равномерности от прямого потока, идущего на подложку.The result provides a more accurate measurement of the thickness of the sprayed film by eliminating the error that occurs in known devices due to the location of the "witness" in the peripheral part of the flow of the sprayed substance, which in one way or another differs in density and uniformity from the direct flow to the substrate .
Был изготовлен экспериментальный образец предлагаемого устройства и опробован при напылении слоев индия в вакуумной установке УВН-71ПЗ.An experimental sample of the proposed device was made and tested during the deposition of indium layers in a vacuum installation UVN-71PZ.
Проволочный ″свидетель″ 1 изготавливался из нихромовой проволоки диаметром 0,2 мм и длиной 20 см, полное сопротивление которой составило 10 Ом. В качестве измерителя сопротивления 4 использовался омметр типа В7-38. Подвижный держатель 6 выполнялся в виде вращающегося диска, на котором закреплялись подложки 5n для напыления на них слоя индия толщиной 5 мкм. В качестве источника нагрева 7 проволоки 1 до температуры испарения напыляемого вещества (индия) использовалась вторичная обмотка понижающего трансформатора с напряжением 10 В, 50 Гц, 50 Вт. Перед началом напыления проволока 1 подключалась к омметру 4. Когда величина сопротивления на омметре 4 достигала 8 Ом, напыление прекращалось, так как это значение соответствовало заданной толщине напыляемой пленки индия 5 мкм (см. фиг.2) независимо от мощности нагрева. Затем проволока 1 подключалась к источнику нагрева 7 для очистки путем испарения напыленного индия. При этом ее сопротивление контролировалось периодическим подключением к омметру 4. По достижении проволокой 1 исходного Wire ″ witness ″ 1 was made of nichrome wire with a diameter of 0.2 mm and a length of 20 cm, the total resistance of which was 10 ohms. An ohmmeter of type B7-38 was used as a resistance meter 4. The movable holder 6 was made in the form of a rotating disk on which substrates 5 n were fixed for spraying an indium layer 5 μm thick on them. The secondary winding of a step-down transformer with a voltage of 10 V, 50 Hz, 50 W was used as a heating source 7 of wire 1 to the evaporation temperature of the sprayed substance (indium). Before spraying, wire 1 was connected to ohmmeter 4. When the resistance value on ohmmeter 4 reached 8 Ohms, the spraying stopped, since this value corresponded to a given thickness of the sprayed indium film of 5 μm (see figure 2) regardless of the heating power. Then the wire 1 was connected to a heating source 7 for cleaning by evaporation of the sprayed indium. At the same time, its resistance was controlled by periodically connecting to an ohmmeter 4. Upon reaching the initial value by wire 1
сопротивления 10 Ом процесс очистки прекращался, свободная подложка 5п устанавливалась перед окном путем вращения держателя 6, и процесс напыления возобновлялся без развакуумирования до тех пор, пока в лодочке испарителя 9 оставался напыляемый материал (индий).With a resistance of 10 Ohms, the cleaning process was stopped, a free substrate 5p was placed in front of the window by rotating the holder 6, and the spraying process was resumed without evacuation until the sprayed material remained in the evaporator boat 9 (indium).
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2004119260/22U RU43959U1 (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2004119260/22U RU43959U1 (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU43959U1 true RU43959U1 (en) | 2005-02-10 |
Family
ID=35209566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2004119260/22U RU43959U1 (en) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU43959U1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2473147C1 (en) * | 2011-07-07 | 2013-01-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Vacuum sputtering plant |
| RU2797107C1 (en) * | 2022-10-19 | 2023-05-31 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тамбовский государственный технический университет" (ФГБОУ ВО "ТГТУ") | Device for monitoring and controlling technological process of deposition of conductive thin films |
-
2004
- 2004-06-30 RU RU2004119260/22U patent/RU43959U1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2473147C1 (en) * | 2011-07-07 | 2013-01-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Vacuum sputtering plant |
| RU2797107C1 (en) * | 2022-10-19 | 2023-05-31 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тамбовский государственный технический университет" (ФГБОУ ВО "ТГТУ") | Device for monitoring and controlling technological process of deposition of conductive thin films |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3383238A (en) | Method and apparatus of controlling thin film deposition in a vacuum | |
| JP4584087B2 (en) | Organic material evaporation source and vapor deposition apparatus using the same | |
| RU43959U1 (en) | DEVICE FOR MEASURING THICKNESS SPRAYED ON THE SUBSTANCE OF THE CONDUCTING FILMS | |
| KR101899722B1 (en) | Apparatus for measuring film thickness | |
| RU2411304C1 (en) | Device for vacuum sputtering of films | |
| JP2016181468A (en) | Manufacturing method for organic el display device, and film thickness measurement device | |
| CN101372736B (en) | Crucible heating apparatus and deposition apparatus including the same | |
| JPH11222670A (en) | Film thickness monitor and film forming device using this | |
| JP2002235167A (en) | Vacuum vapor deposition apparatus | |
| KR101028044B1 (en) | Apparatus For Supplying Source Gas | |
| KR100611667B1 (en) | apparatus for detecting a thickness of a vapor deposition | |
| Ingle | A shadow mask for sputtered films | |
| CN110174181A (en) | A kind of rotary part temperature/hot-fluid dynamic testing method | |
| US3297944A (en) | Evaporation rate monitor using two integrated ion gauges | |
| EP2585800A1 (en) | Self-cleaning film thickness measuring apparatus, and method of cleaning film thickness measuring apparatus | |
| JPH0498135A (en) | Detection of temperature | |
| CN111074231B (en) | Film forming apparatus, base film forming method, and film forming method | |
| KR102533405B1 (en) | Pressure Measurement System | |
| CN111334754A (en) | Evaporation device capable of monitoring rate and rate monitoring method | |
| SU1126627A1 (en) | Apparatus for sputtering thermoresistor elements | |
| JPS61138106A (en) | Film thickness monitor | |
| JPS58204173A (en) | Device and method for vapor deposition | |
| JP2909835B2 (en) | Semiconductor manufacturing apparatus and liquid processing method | |
| US2660882A (en) | Apparatus for determination of the temperature of deposition of electrically nonconducting solids from gases | |
| RU2261416C1 (en) | Capacity method for controlling thickness of coverings, applied in vacuum |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20100701 |