RU2738998C1 - Магниторезистивный датчик магнитного поля - Google Patents

Магниторезистивный датчик магнитного поля Download PDF

Info

Publication number
RU2738998C1
RU2738998C1 RU2019122081A RU2019122081A RU2738998C1 RU 2738998 C1 RU2738998 C1 RU 2738998C1 RU 2019122081 A RU2019122081 A RU 2019122081A RU 2019122081 A RU2019122081 A RU 2019122081A RU 2738998 C1 RU2738998 C1 RU 2738998C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
magnetic field
magnetoresistors
magnetoresistive
film
substrate
Prior art date
Application number
RU2019122081A
Other languages
English (en)
Inventor
Сергей Кронидович Водеников
Сергей Викторович Байтеряков
Константин Валерьевич Лебедев
Олег Тимофеевич Максимов
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Корпорация "Аксион" (ООО "Корпорация "Аксион")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Корпорация "Аксион" (ООО "Корпорация "Аксион") filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Корпорация "Аксион" (ООО "Корпорация "Аксион")
Priority to RU2019122081A priority Critical patent/RU2738998C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2738998C1 publication Critical patent/RU2738998C1/ru

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области автоматики и магнитометрии. Магниторезистивный датчик магнитного поля, содержащий мостовую измерительную схему из магниторезисторов, сформированных на диэлектрической подложке из пленки магнитомягкого ферромагнитного металла с нанесенными на резисторы низкорезистивными шунтами из немагнитного металла, ориентированными под углом 45 градусов к длине полоски, катушку Off/Set из пленки проводящего материала, при этом с целью расширения диапазона контролируемых полей и упрощения технологии изготовления катушка нанесена с обратной стороны подложки по отношению к магниторезисторам, сформированная магниторезистивная структура покрыта компаундом, нанесенным в магнитном поле, а в качестве материала магниторезисторов используется сплав с отрицательным коэффициентом магнитострикции. 3 ил.

Description

Изобретение относится к области автоматики и магнитометрии и может быть использовано при изготовлении датчиков перемещений, устройств измерения электрического тока и магнитных полей, а именно, магнитометров, электронных компасов и т.п.
Наиболее близким устройством к заявленному техническому решению и выбранным в качестве прототипа признан датчик магнитного поля с интегральными катушками (US 5952825, кл. G01R 33/02, опубл. 14.09.1999), содержащий мостовую измерительную схему из магниторезисторов, сформированных на диэлектрической подложке из пленки магнитомягкого ферромагнитного металла с нанесенными на резисторы низкорезистивными шунтами из немагнитного металла, ориентированными под углом 45 градусов к длине полоски, катушку Off/Set из пленки проводящего материала.
Недостатком известного датчика магнитного поля является использование сложного оборудования и технологии для изготовления многослойной структуры из магнитных, изоляционных и проводящих слоев, а также невозможность использования альтернативных способов создания анизотропии (в частности использования магнитоупругой энергии анизотропии) и, соответственно, расширения диапазона контролируемых полей из-за отсутствия непосредственного доступа к магниторезистивной структуре, закрытой последующими изоляционными и проводящими слоями (для катушек).
Целью предлагаемого изобретения является упрощение технологии изготовления датчика за счет исключения промежуточных изолирующих слоев и расширение диапазона контролируемых полей за счет увеличения анизотропии благодаря дополнительной энергии магнитоупругой анизотропии.
Поставленная цель достигается тем, что в магниторезистивном датчике магнитного поля, содержащем мостовую измерительную схему из магниторезисторов, сформированную на диэлектрической подложке из пленки магнитомягкого ферромагнитного металла с нанесенными на резисторы низкорезистивными шунтами из немагнитного металла, ориентированными под углом 45 градусов к длине полоски, катушку Off/Set из пленки проводящего материала, дополнительно введен слой компаунда, нанесенного в магнитном поле, на магниторезистивную структуру, катушка Off/Set нанесена с обратной стороны подложки, по отношению к магниторезисторам, а в качестве материала магниторезисторов используется сплав с отрицательным коэффициентом магнитострикции.
Связь вновь вводимых признаков и достижения цели заключается в следующем.
Поскольку полимеризация компаунда происходит в магнитном поле, направленном по оси легкого намагничивания (ОЛН), а магниторезистивная пленка имеет отрицательный коэффициент магнитострикции, происходит ее сжатие (уменьшение длины) в направлении ОЛН. После окончания полимеризации магнитное поле выключается и пленка стремится восстановить прежнюю длину (удлиниться). Это приводит к тому, что возникают напряжения сжатия в магниторезистивной пленке в направлении длины.
Магнитоупругая энергия, определяемая величиной напряжений и магнитострикцией пленки, определяется, как (напр. Вонсовский С.В. Магнетизм. - М: Наука, 1971, (стр. 780, формула 23.20))
Figure 00000001
где:
- σ - вектор результирующих напряжений;
- λ - коэффициент магнитострикции материала пленки;
- ϕ - угол между вектором намагниченности I и вектором напряжений σ.
Взаимное расположение векторов намагниченности I и напряжений σ представлено на рисунке (см. фиг.2).
Из соотношения (1) следует, что энергетически выгодное состояние (минимум энергии) при σ меньше 0 (напряжения сжатия) и λ меньше 0 (отрицательный коэффициент магнитострикции) реализуется при ϕ равно 0, то есть при параллельном расположении векторов и напряжений. Таким образом формируется магнитоупругая анизотропия, что увеличивает энергию анизотропии в пленке, которая теперь состоит из 2 частей формирующих ось легкого намагничивания в направлении длины пленочного элемента, а именно: магнитостатической энергии определяемой относительными размерами магниторезистивного элемента и энергии магнитоупругой анизотропии.
В области сплавов железа и никеля (пермаллоев), сплавы с отрицательной магнитострикцией расположены выше 80% по содержанию никеля, что позволяет сохранить высокую магнитную проницаемость и магниторезистивный эффект, (напр. Боровик Е.С., Еременко В.В., Мильнер А.С. Лекции по магнетизму. 3-е изд., переработанное и дополненное. - М: ФИЗМАТЛИТ, 2005-512 с. (стр. 154, рис. 11.8)).
Таким образом за счет введения новых признаков, а именно покрытия компаундом, полимеризумым в магнитном поле, и использования магнитного материала с отрицательной магнитострикцией обеспечивается увеличение поля анизотропии и, соответственно, диапазона контролируемых полей, что подтверждает существенность указанных признаков.
Формирование катушек "Off/Set" с обратной стороны подложки позволяет уйти от изолирующего слоя, отделяющего катушки от магниторезистивной структуры и, тем самым, обеспечить непосредственный контакт магниторезистивных полосок с компаундом. Без этого признака невозможно осуществление способа. Отсутствие необходимости формирования изолирующего слоя, кроме того, существенно упрощает структуру датчика и технологию его изготовления. Удаление катушек от магниторезистивных полосок на толщину изолирующей подложки несущественно сказывается на величине магнитного поля, так как поле определяется магнитодвижущей силой J * W (J - амплитуда силы тока в импульсе, W - количество витков) и длиной магнитной силовой линии, которая при расположении катушек с обратной стороны подложки увеличивается на толщину подложки. Например, при размере структуры моста Уинстона 4 мм и толщине подложки 0,5 мм, длина магнитной силовой линии увеличится на 12,5%.
Кроме того, при включении восстанавливающего магнитного поля "Оff/Set" в направлении ОЛН, магниторезистивный элемент за счет магнитострикции снова укорачивается в течение времени действия поля, уменьшается величина напряжений и, соответственно, поля анизотропии и корцитивной силы, в результате чего для восстановления состояния пленки требуется меньшее по амплитуде магнитное поле, что частично компенсирует удаление катушки от магниторезистивной структуры при переносе ее на другую сторону подложки.
Описание датчика в статике.
Заявленное техническое решение поясняется фиг.1, где представлена структура датчика (а - первая сторона подложки, б - вторая сторона).
Датчик содержит изолирующую подложку 1, магниторезистивные элементы с полюсами Барбера 2, контактные площадки 3, 4 из проводящего материала для подачи питания, контактные площадки 5, 6 из проводящего материала для съема сигнала, проводники 7 для замыкания магниторезистивных элементов и соединения их с контактными площадками, компаунд 8, покрывающий магниторезистивную структуру, площадки 9 с переходными отверстиями для подключения катушки "Off/Set", катушку 10 "Off/Set", на обратной стороне подложки.
Датчик работает следующим образом.
При подаче напряжения на контактные площадки 3, 4 через магниторезистивную структуру протекает ток питания. При отсутствии измеряемого поля Н (фиг. 1а) намагниченность направлена по оси легкого намагничивания (ОЛН) и в силу того, что угол между намагниченностью и токами в плечах моста 3-5 и 5-4 составляет, благодаря полюсам Барбера, одинаковые по модулю и разные по знаку углы 45 градусов сопротивления указанных плечей одинаковы. Аналогично, одинаковы сопротивления плечей 3-6 и 6-4.
При подаче измеряемого поля Н угол между намагниченностью и токами в плече моста 3-5 увеличивается, соответственно уменьшается его сопротивление, а угол между намагниченностью и токами в плече моста 5-4 уменьшается и сопротивление его увеличивается. В цепи 3-6-4, в силу обратного расположения полюсов Барбера по отношению к цепи 3-5-4, увеличивается сопротивление плеча 3-6 и уменьшается сопротивление плеча 6-4. В результате на выходных площадках 5, 6 появляется сигнал разбаланса моста, коррелирующий с величиной измеряемого поля Н и имеющий нечетную характеристику.
Наличие компаунда, полимеризация которого проходит в магнитном поле направленном по ОЛН, создающего вкупе с отрицательной магнитострикцией сжимающие напряжения вдоль направления ОЛН, приводит к возникновению магнитоупругой энергии, минимум которой достигается при направлении намагниченности параллельном ОЛН, что увеличивает поле анизотропии и, соответственно диапазон контролируемых полей Н.
При подаче восстанавливающих импульсов магнитного поля, формируемых катушкой "Off/Set", в силу отрицательной магнитострикции происходит уменьшение длины пленки и уменьшение сжимающих напряжений в ней, соответственно уменьшение магнитоупругой энергии и поля анизотропии в момент действия восстанавливающего импульса, что позволяет использовать для восстановления меньшие по амплитуде импульсы магнитного поля.
Пример конкретного осуществления.
На первую сторону изолирующей подложки из поликора толщиной 0,5 мм напылялся пермаллой с отрицательной константой магнитострикции и фотолитографией с кислотным травлением, формировались магниторезистивные элементы.
Во втором цикле с обоих сторон подложки напылялся слой ванадий-аллюминий и фотолитографией с использованием щелочного травления производилось формирование проводников, контактных площадок и полюсов Барбера с первой стороны подложки и катушек "Off/Set" с другой ее стороны. Использование покрытия ванадий-аллюминий связано с тем, что оба металла (ванадий используется в качестве адгезионного подслоя) травятся при фотолитографии в щелочном травителе, что обеспечивает (при травлении магниторезистивного сплава в кислотном травителе) селективность травления и существенно упрощает технологию.
На магниторезистивную структуру непосредственно наносился компаунд ЭЗК-6, который полимеризовался в магнитном поле создаваемом постоянным магнитом обеспечивающим магнитное поле не менее 200 А/м в направлении ОЛН.
Полученный датчик характеризуется максимально простой и малой по трудоемкости технологией изготовления: всего два цикла напыления и фотолитографии (для магнитного слоя и проводящего) и нанесение компаунда в магнитном поле.
Поле анизотропии (диапазон контролируемых полей) увеличился на 20%. Сравнительные измерения проводились до покрытия компаундом и после покрытия.

Claims (1)

  1. Магниторезистивный датчик магнитного поля, содержащий мостовую измерительную схему из магниторезисторов, сформированных на диэлектрической подложке из пленки магнитомягкого ферромагнитного металла с нанесенными на резисторы низкорезистивными шунтами из немагнитного металла, ориентированными под углом 45 градусов к длине полоски, катушку Off/Set из пленки проводящего материала, отличающийся тем, что с целью расширения диапазона контролируемых полей и упрощения технологии изготовления, катушка нанесена с обратной стороны подложки по отношению к магниторезисторам, сформированная магниторезистивная структура покрыта компаундом, нанесенным в магнитном поле, а в качестве материала магниторезисторов используется сплав с отрицательным коэффициентом магнитострикции.
RU2019122081A 2019-07-10 2019-07-10 Магниторезистивный датчик магнитного поля RU2738998C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019122081A RU2738998C1 (ru) 2019-07-10 2019-07-10 Магниторезистивный датчик магнитного поля

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019122081A RU2738998C1 (ru) 2019-07-10 2019-07-10 Магниторезистивный датчик магнитного поля

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2738998C1 true RU2738998C1 (ru) 2020-12-21

Family

ID=74062844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019122081A RU2738998C1 (ru) 2019-07-10 2019-07-10 Магниторезистивный датчик магнитного поля

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2738998C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2798749C1 (ru) * 2023-02-27 2023-06-26 Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт химии и механики" (ФГУП "ЦНИИХМ") Способ формирования магниторезистивной структуры с шунтирующими полосками

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5952825A (en) * 1997-08-14 1999-09-14 Honeywell Inc. Magnetic field sensing device having integral coils for producing magnetic fields
RU2347302C1 (ru) * 2007-09-11 2009-02-20 Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова" Магниторезистивный датчик
RU2533747C1 (ru) * 2013-03-19 2014-11-20 Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение измерительной техники" Магниторезистивный датчик тока

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5952825A (en) * 1997-08-14 1999-09-14 Honeywell Inc. Magnetic field sensing device having integral coils for producing magnetic fields
RU2347302C1 (ru) * 2007-09-11 2009-02-20 Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова" Магниторезистивный датчик
RU2533747C1 (ru) * 2013-03-19 2014-11-20 Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение измерительной техники" Магниторезистивный датчик тока

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2798749C1 (ru) * 2023-02-27 2023-06-26 Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт химии и механики" (ФГУП "ЦНИИХМ") Способ формирования магниторезистивной структуры с шунтирующими полосками

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7064937B2 (en) System and method for fixing a direction of magnetization of pinned layers in a magnetic field sensor
TW550394B (en) Thin-film magnetic field sensor
García-Arribas et al. Thin-film magneto-impedance structures with very large sensitivity
US7495624B2 (en) Apparatus for detection of the gradient of a magnetic field, and a method for production of the apparatus
JP2009535616A (ja) 薄膜型3軸フラックスゲート及びその製造方法
TW201105994A (en) Fluxgate sensor and electronic compass using the same
JP2008197089A (ja) 磁気センサ素子及びその製造方法
JP2006208278A (ja) 電流センサ
WO2011155527A1 (ja) フラックスゲートセンサおよびそれを利用した電子方位計ならびに電流計
EP1514126A1 (en) Sensor and method for measuring a current of charged particles
KR101890561B1 (ko) 스핀홀 현상을 이용한 자기장 측정 장치 및 방법
Dezuari et al. New hybrid technology for planar fluxgate sensor fabrication
RU2436200C1 (ru) Магниторезистивный датчик
Lei et al. Improved performance of integrated solenoid fluxgate sensor chip using a bilayer Co-based ribbon core
RU2738998C1 (ru) Магниторезистивный датчик магнитного поля
RU2533747C1 (ru) Магниторезистивный датчик тока
EP0594243A2 (en) Magnetic field sensor
Shanglin et al. Flexible-substrate Fluxgate Current Sensor Based on MEMS Technology.
Ulkundakar et al. Design, simulation and fabrication of non-spiral based fluxgate sensor on printed circuit board (PCB)
Dimitropoulos et al. A micro-fluxgate sensor based on the Matteucci effect of amorphous magnetic fibers
US3421075A (en) Thin film magnetometer using thin film coated conductors
RU2279737C1 (ru) Магниторезистивный датчик
RU2495514C1 (ru) Магниторезистивный датчик
Liu et al. Improved performance of the micro planar double-axis fluxgate sensors with different magnetic core materials and structures
EP3851864B1 (en) Magnetic sensor and current sensor