RU2715221C2 - Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива - Google Patents
Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива Download PDFInfo
- Publication number
- RU2715221C2 RU2715221C2 RU2018122733A RU2018122733A RU2715221C2 RU 2715221 C2 RU2715221 C2 RU 2715221C2 RU 2018122733 A RU2018122733 A RU 2018122733A RU 2018122733 A RU2018122733 A RU 2018122733A RU 2715221 C2 RU2715221 C2 RU 2715221C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- solder mask
- layer
- circuit boards
- printed circuit
- mask layer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
- B05D7/142—Auto-deposited coatings, i.e. autophoretic coatings
- B05D7/144—After-treatment of auto-deposited coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Изобретение относится к технологии защиты печатных плат перед пайкой и предназначено для применения в производстве печатных плат. Технический результат - повышение эксплуатационных характеристик слоя паяльной маски. Достигается за счет того, что после нанесения слоя паяльной маски до предварительной сушки выполняют стабилизацию слоя паяльной маски путем перемещения заготовок печатных плат с нанесенным слоем паяльной маски в течение заданного времени в нормальных климатических условиях в модуле стабилизации. При этом все операции выполняются непрерывно, в одном технологическом цикле. 4 ил.
Description
Изобретение относится к технологии защиты печатных плат перед пайкой и предназначена к применению в производстве печатных плат.
В известных способах изготовления печатных плат с применением слоя под пайку паяльной маски (Патенты РФ 2401703, 2577669, 2647192, заявка РФ 2016109815) отсутствуют меры по ее стабилизации.
Стабилизация слоя известной универсальной фотополимеризующейся композиции паяльной маски для печатных плат с повышенными эксплуатационными характеристиками (Патент РФ 2192661) достигается за счет изменения ее химического состава.
Процесс стабилизации в способе отверждения вещества УФ-излучением и устройстве для его осуществления (Патент РФ 2401703) производится путем охлаждения подложки и воздействия на подложку печатной платы уже на последующем этапе ультрафиолетового облучения путем стабилизации постоянной интенсивности излучения.
Известно использование для обеспечения стабильных свойств защитного слоя паяльной маски (отсутствие пор, наплывов, пузырей, равномерная толщина композиции паяльной маски) процесса термической стабилизации паяльной маски путем воздействия ультрафиолетового, инфракрасного облучения или термической сушки (Патент РФ 2577669, заявка 2008125209, заявка 2005134475).
Все вышеперечисленные технологии не учитывают физическое состояние слоя паяльной маски непосредственно после ее нанесения (структура маски, адгезия к пленочному фотошаблону, способность растворяться в слабощелочных водных растворах проявления) и не устраняют дефекты в слое паяльной маски, а именно, поры, наплывы, пузыри, неравномерную толщину слоя паяльной маски, не связанные с химическим составом паяльной маски, ее чувствительностью к облучению или термостойкостью, но возникающие в структуре паяльной маски сразу после нанесения.
Задачей предлагаемого изобретения является повышение выхода годных печатных плат за счет устранения дефектов в слое паяльной маски.
Технический результат заключается в повышении эксплуатационных характеристик слоя паяльной маски.
Сущность предлагаемого способа стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива, включающего нанесение слоя паяльной маски методом полива на поверхность заготовки печатной платы и предварительную сушку в многоступенчатой зонной печи заключается в том, что после нанесения слоя паяльной маски до предварительной сушки выполняют стабилизацию слоя паяльной маски путем перемещения заготовок печатных плат с нанесенным слоем паяльной маски в течение заданного времени в модуле стабилизации в нормальных климатических условиях, при этом все операции выполняются непрерывно, в одном технологическом цикле.
Изобретение поясняется фигурами:
фиг. 1 - структурная схема формирования слоя паяльной маски,
где 1 - установка нанесения паяльной маски;
2 - модуль стабилизации;
3 - многоступенчатая зонная печь;
фиг. 2 - график зависимости стабильности паяльной маски от времени перемещения,
где A1, А2, A3 - динамика стабильности паяльной маски;
фиг. 3 - контрольная карта по анализу качества паяльной маски до внедрения изобретения,
где B1, В2, В3 - скачки брака;
р - среднее значение брака;
фиг. 4 - контрольная карта по анализу качества паяльной маски после внедрения изобретения,
где C1, С2, С3 - скачки брака;
р - среднее значение брака.
Для реализации способа фиг. 1 между установкой нанесения паяльной маски 1 и многоступенчатой зонной печью 3 размещают модуль стабилизации 2.
Заготовки печатных плат с нанесенной паяльной маской методом полива непосредственно с конвейера установки нанесения 1 попадают на V-образный конвейер закрытого типа с вытяжной системой модуля стабилизации 2 и движутся по нему в течение заданного времени в нормальных климатических условиях (Нормальные климатические условия согласно п. 4.1.1 ГОСТ 23752-79 «Платы печатные. Общие технические условия» характеризуются температурой (25±10)°С, относительной влажностью 45-80%, атмосферным давлением 630-800 мм рт.ст.). Затем заготовки поступают в многоступенчатую зонную печь для предварительной сушки паяльной маски. Операции нанесения паяльной маски, стабилизации с учетом встроенного модуля стабилизации, сушка в многоступенчатой зонной печи выполняются непрерывно, в одном технологическом цикле.
Для избегания дефектов покрытия требуется дополнительное время для выхода растворителей, следовательно, необходимо высвободить верхний слой от летучих веществ, так как традиционные многоступенчатые зонные печи для предварительной сушки печатных плат основаны на длинноволновом инфракрасном излучении - тепло передается от верхних слоев материала к нижним. Перемещение в модуле стабилизации придает паяльной маске свойства, требуемые до начала приложения высоких температур, а именно для обеспечения отсутствия пор, наплывов, пузырей, равномерной толщины паяльной маски. Динамика стабильности различных видов паяльных масок от времени передвижения заготовок печатных плат в модуле стабилизации A1, А2, A3 показана на фиг. 2.
Получение технического результата подтверждается снижением брака. На контрольной карте по анализу качества паяльной маски до внедрения изобретения скачки брака B1, В2, В3 фиг. 3 значительно выходят за допустимые границы процента брака. На контрольной карте по анализу качества паяльной маски после внедрения изобретения скачки брака C1, С2, С3 фиг. 4 находятся ниже минимального значения.
Оптимальность подобранных режимов стабилизации паяльной маски подтверждается при выполнении дальнейших технологических операций в технологическом процессе изготовления печатных плат.
Claims (1)
- Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива, включающий нанесение слоя паяльной маски методом полива на поверхность заготовки печатной платы и предварительную сушку в многоступенчатой зонной печи, отличающийся тем, что после нанесения слоя паяльной маски до предварительной сушки выполняют стабилизацию слоя паяльной маски путем перемещения заготовок печатных плат с нанесенным слоем паяльной маски в течение заданного времени в нормальных климатических условиях в модуле стабилизации, при этом все операции выполняются непрерывно, в одном технологическом цикле.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2018122733A RU2715221C2 (ru) | 2018-06-21 | 2018-06-21 | Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2018122733A RU2715221C2 (ru) | 2018-06-21 | 2018-06-21 | Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2018122733A3 RU2018122733A3 (ru) | 2019-12-23 |
| RU2018122733A RU2018122733A (ru) | 2019-12-23 |
| RU2715221C2 true RU2715221C2 (ru) | 2020-02-26 |
Family
ID=69022472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018122733A RU2715221C2 (ru) | 2018-06-21 | 2018-06-21 | Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2715221C2 (ru) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU890997A3 (ru) * | 1977-11-21 | 1981-12-15 | Циба-Гейги Аг (Фирма) | Способ нанесени фоторезиста на подложку печатной схемы с отверсти ми |
| US5236746A (en) * | 1991-04-15 | 1993-08-17 | Ciba-Geigy Corporation | Curtain coating process for producing thin photoimageable coatings |
| RU2192661C1 (ru) * | 2001-03-01 | 2002-11-10 | Открытое акционерное общество "Компания Славич" | Универсальная фотополимеризующаяся композиция паяльной маски для печатных плат с повышенными эксплуатационными характеристиками |
| RU2401703C2 (ru) * | 2008-04-22 | 2010-10-20 | Владислав Юрьевич Мирчев | Способ отверждения вещества уф-излучением и устройство для его осуществления |
| US20150257264A1 (en) * | 2004-07-29 | 2015-09-10 | Enthone Inc. | Silver plating in electronics manufacture |
-
2018
- 2018-06-21 RU RU2018122733A patent/RU2715221C2/ru active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU890997A3 (ru) * | 1977-11-21 | 1981-12-15 | Циба-Гейги Аг (Фирма) | Способ нанесени фоторезиста на подложку печатной схемы с отверсти ми |
| US5236746A (en) * | 1991-04-15 | 1993-08-17 | Ciba-Geigy Corporation | Curtain coating process for producing thin photoimageable coatings |
| RU2192661C1 (ru) * | 2001-03-01 | 2002-11-10 | Открытое акционерное общество "Компания Славич" | Универсальная фотополимеризующаяся композиция паяльной маски для печатных плат с повышенными эксплуатационными характеристиками |
| US20150257264A1 (en) * | 2004-07-29 | 2015-09-10 | Enthone Inc. | Silver plating in electronics manufacture |
| RU2401703C2 (ru) * | 2008-04-22 | 2010-10-20 | Владислав Юрьевич Мирчев | Способ отверждения вещества уф-излучением и устройство для его осуществления |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2018122733A3 (ru) | 2019-12-23 |
| RU2018122733A (ru) | 2019-12-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050233588A1 (en) | Semiconductor constructions | |
| CN103052271A (zh) | 制作阻焊图案的同时对焊接区表面进行可焊性处理的方法 | |
| RU2715221C2 (ru) | Способ стабилизации слоя паяльной маски, наносимой методом полива | |
| JP2012133163A (ja) | 局所露光方法 | |
| KR100274859B1 (ko) | 열처리장치 및 기판처리장치 | |
| TW200705125A (en) | Coating film forming method | |
| JP2007335752A (ja) | 基板処理方法 | |
| JP2004304104A (ja) | 熱処理装置および熱処理装置内温度制御方法 | |
| US6228540B1 (en) | Method of forming a photomask of high dimensional accuracy utilizing heat treatment equipment | |
| US7678532B2 (en) | Method of processing a substrate | |
| JPS6323679B2 (ru) | ||
| JPS59132618A (ja) | レジストパタ−ンの形成方法及びその装置 | |
| KR920004518B1 (ko) | 포토레지스트의 패턴형성방법 | |
| JP4757217B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR100814719B1 (ko) | 히팅 플레이트 제조 장치 및 이를 이용한 히팅 플레이트제조 방법 | |
| JPH0313734B2 (ru) | ||
| KR101087773B1 (ko) | 롤 코팅 장치 | |
| KR20200004555A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
| CN110908245B (zh) | 一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板 | |
| TW201517114A (zh) | 基板乾燥方法、基板製造方法及其低溫加熱乾燥裝置 | |
| JPS60117627A (ja) | レジストパタ−ンの形成方法及びレジスト処理装置 | |
| KR20190008389A (ko) | 기판온도 안정화 장치 | |
| KR100334338B1 (ko) | 인쇄회로기판의 포토 솔더 레지스트 건조방법 | |
| CN105810567A (zh) | 聚酰亚胺层的制造方法 | |
| US20150367537A1 (en) | Temperature regulation mask and alignment layer pre-curing device |