RU2632827C2 - Устройство для рафинирования кремния - Google Patents

Устройство для рафинирования кремния Download PDF

Info

Publication number
RU2632827C2
RU2632827C2 RU2015152667A RU2015152667A RU2632827C2 RU 2632827 C2 RU2632827 C2 RU 2632827C2 RU 2015152667 A RU2015152667 A RU 2015152667A RU 2015152667 A RU2015152667 A RU 2015152667A RU 2632827 C2 RU2632827 C2 RU 2632827C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon
melt
impurities
refining
crystalliser
Prior art date
Application number
RU2015152667A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2015152667A (ru
Inventor
Альберт Иванович Бегунов
Алексей Альбертович Бегунов
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Современные химические и металлургические технологии" (ООО "СХИМТ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Современные химические и металлургические технологии" (ООО "СХИМТ") filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Современные химические и металлургические технологии" (ООО "СХИМТ")
Priority to RU2015152667A priority Critical patent/RU2632827C2/ru
Publication of RU2015152667A publication Critical patent/RU2015152667A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2632827C2 publication Critical patent/RU2632827C2/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/037Purification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B9/00General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
    • C22B9/10General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals with refining or fluxing agents; Use of materials therefor, e.g. slagging or scorifying agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологии производства технического кремния в рудно-термических печах и его дальнейшего рафинирования для последующего производства полупроводникового и солнечного кремния. Устройство для рафинирования кремния путем выделения примесей металлов на металлических поверхностях кристаллизатора выполнено в виде тел вращения, при этом кристаллизатор состоит из круглого прямого цилиндра 1, расположенного по вертикальной оси симметрии, и коаксиально по отношению к нему расположенных цилиндрических труб 2, 3, связанных горизонтальными крестообразными стяжками 4, 7 в поверхностном и придонном слоях расплава 5. Изобретение позволяет получать высококачественное сырье с низким содержанием примесей. 2 ил.

Description

Область техники
Изобретение относится к технологии производства технического кремния в рудно-термических печах и его дальнейшего рафинирования для целей последующего производства полупроводникового и солнечного кремния.
Уровень техники
Известно, что технический кремний по ГОСТ 2169-69 содержит до 4 масс. % примесей и без дополнительной глубокой доочистки не пригоден в технологии получения как «полупроводникового», так и «солнечного» кремния. Существуют многочисленные физические, химические и физико-химические методы и устройства для его очистки от примесей. На заключительных этапах используются обычно прецизионное физическое оборудование и приемы фракционной перегонки, диспропорционирования газофазных соединений кремния, зонная плавка, выращивание монокристаллов [Э.С. Фалькевич, Э.О. Пульнер и др. Технология полупроводникового кремния. М.: «Металлургия», 1992, 407 с.]. Среди них имеется устройство для выделения примесей с помощью полого, охлаждаемого газом тела, погруженного в расплав кремния (JP 2000351616 А, 19.12.2000). Известно также устройство по патенту РФ №2600055 от 26.05.2015, в котором металлические кристаллизаторы выполнены в виде тел вращения. Оба эти патента являются аналогами настоящего изобретения. Однако охлаждение кристаллизатора с продувкой через него газа, предусмотренное в японском патенте, не может быть эффективным, так как теплоемкость и теплопроводность любой газовой фазы на несколько порядков меньше, чем чугуна, стали или кремния. Наиболее близким прототипом является патент РФ №2600055, в котором, как и в настоящей заявке, кристаллизаторы и их элементы выполнены сплошными, а не продуваемыми «cooling gas» [Application number 11-159620; Applicant SHOWA ALUM CORP; SHARP CORP.].
Необходимо найти и разработать устройство для быстрого и высокопроизводительного процесса рафинирования кремния от интерметаллических соединений и твердых растворов примесей железа, титана, ванадия, марганца и других тугоплавких металлов и неметаллических примесей.
В устройстве-прототипе кристаллизаторы выполнены в виде тел вращения - шаров, конусов или цилиндров, но не предусмотрены решения, позволяющие получить, возможно, большую поверхность массообмена и кристаллизации. Шар, например, представляет собой тело, обладающее минимальной поверхностью для заданной массы кристаллизатора. Использование многих цилиндрических или конусных тел, не связанных в единую конструкцию, не позволяет организовать потоки расплава и получить максимальную эффективность работы устройства.
Сущность изобретения
В изобретении обеспечивается кристаллизация примесей из переохлажденного метастабильного состояния расплава, кремний же, как элемент-растворитель, остается, главным образом, в жидком расплаве. Скорость кристаллизации примесей пропорциональна сечению потока, в частности величине поверхности кристаллизации, а также действующему градиенту факторов интенсивности - температуры и концентрации. Значительная роль принадлежит также степени используемой метастабильности (удаления от равновесия) системы.
Кристаллизация примесей - твердофазных кристалликов интерметаллических соединений и твердых растворов, взвешенных в переохлажденном метастабильном расплаве, протекает на помещенном в расплав массивном холодном теле практически мгновенно, что и обеспечивает в предложенной конструкции возможность их быстрого удаления и получения более чистого сырья для последующего производства полупроводникового и солнечного кремния.
Сущность изобретения устройства заключается в том, что основная часть его выполнена из круглого прямого цилиндра, расположенного по его вертикальной оси симметрии, и коаксиально по отношению к нему расположенных цилиндрических толстостенных труб, связанных горизонтальными крестообразными стяжками в поверхностном и придонном слоях рафинируемого кремния. Кристаллизация в нашем устройстве рассредоточена по всему объему расплава, что также увеличивает интегральную скорость и производительность процесса рафинирования.
Перечень фигур чертежей и описание взаимодействия
На Фиг. 1 и Фиг. 2 показан вертикальный разрез устройства кристаллизатора. Здесь 1 - сплошной круглый цилиндр; 2 - первый трубчатый цилиндр; 3 - второй трубчатый цилиндр; 4 - верхняя крестообразная стяжка; 5 - расплав рафинируемого кремния; 6 - футерованная емкость для рафинирования; 7 - нижняя крестообразная стяжка.
Кристаллизатор подвешивается в точке С на подъемно-транспортном устройстве, с помощью которого он погружается в рафинируемый расплав и извлекается из него. Металлический кристаллизатор выполняется, например, из чугуна методом литья. При медленном погружении кристаллизатора в расплав, начальная температура которого составляет около 1500°С, более холодные конвективные струи расплава, окружающие сплошной цилиндр 1, опускаются вниз, как это показано на Фиг. 1.
Вытесняемые струи разогретого расплава поднимаются вверх по кольцевым промежуткам, образованным первым (2) и вторым (3) трубчатыми цилиндрами. В том же направлении вытесняются слои более горячего расплава между вторым трубчатым цилиндром (3) и футеровкой (6). Далее в верхней части устройства поднявшиеся струи вновь направляются вниз по кольцевому каналу, образованному сплошным круглым цилиндром (1) и первым трубчатым цилиндром (2). Базисные направления циркуляции качественно показаны стрелками на Фиг. 1. При этом диффузионные потоки, вызванные кристаллизацией на всех металлических поверхностях, направлены в радиальном направлении в сторону вертикальной оси симметрии устройства.
Общее время выделения кристаллов интерметаллических соединений, твердых растворов, а также кристаллов неметаллических включений углерода, оксидов, карбидов металлов не должно превышать 1-2 минут. Конечно, во время операций рафинирования должен быть обеспечен контроль и поддержание надлежащих температурных и тепловых условий работы устройства, так же как и требования охраны труда.
Технический результат разработки заключается в получении высококачественного сырья с низким содержанием примесей. Особенно это относится к примесям тугоплавких металлов, входящих в состав интерметаллических соединений (ИМС) и твердых растворов (TP). Среди ИМС это такие соединения, как TiSi2, TiSi и Ti5Si3; V5Si3 и V3Si; CrSi, CrSi2; Cr3Si; Cr5Si3; 7 соединений марганца; FeSi и FeSi2; Ni3Si; Ni5Si2; CoSi и Co3Si. [M. Хансен, К. Андерко. Структуры двойных сплавов, с англ., т. 1, М., 1962, 608 с.; т. 2, М., 1962, 1488 с.; Р.П. Эллиот. Структуры двойных сплавов, с англ., т. 1, М., 1970, 455 с.; т. 2, М., 1970, 472 с. Ф. Шанк. Структуры двойных сплавов, с англ., М., 1973, 759 с.].
Неметаллические примеси также образуют в кремнии твердые растворы (TP). Так кислород кроме включений SiO2 представлен TP внедрения, являющимся перенасыщенным при температурах ниже 1270 К [См. выше Э.С. Фалькевич и др., с. 292, также представлен твердым раствором [Э.С. Фалькевич и др., с. 294-295; Nosaki Т., Yatsurugi Y., Akiyamata N // J. Electrochem. Soc., 1970, v. 117, №12, p 1566-1571].
В условиях метастабильного переохлажденного расплава кремния кристаллики ИМС и TP практически моментально выпадают из пограничного слоя на поверхностях кристаллизации и легко могут быть удалены вместе с устройством из обрабатываемого расплава. Скорость кристаллизации, как отмечено выше, в условиях диффузионной кинетики гетерогенного процесса пропорциональна сечению диффузионного потока, которое практически совпадает с величиной кажущейся рабочей поверхности кристаллизатора. При высоте устройства 1,4 м, диаметре сплошного круглого цилиндра 0,2 м, внешнем и внутреннем диаметрах первого трубчатого цилиндра 0,8 м и 0,5 м; второго трубчатого цилиндра 1,2 м и 1,0 м суммарная поверхность кристаллизации составит около 22 м2. Эта поверхность на порядок и более выше, чем в изобретении-прототипе, что обеспечивает такую же кратность увеличения глубины или производительности процесса рафинирования.
Оптимальное количество цилиндров, их диаметры, все размеры конструктивных элементов устройства могут быть определены в результате выполнения последующих исследовательских и опытно-конструкторских работ. В конечном итоге производительность процесса рафинирования по сравнению с прототипом может быть повышена на несколько порядков. Изобретение может использоваться не только для рафинирования технического кремния, но и на конечных стадиях подготовки к получению полупроводникового и солнечного кремния.
Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретения, и его потенциальную эффективность
Возможность и неизбежность массового выпадения кристалликов ИМС и TP из переохлажденного метастабильного расплава кремния на поверхностях кристаллизации представляется физически очевидной. Это так же неизбежно, как появление кристалликов льда из переохлажденного насыщенного пара воздуха на холодном оконном стекле в осенне-зимний период.
Цены на технический кремний составляют порядка 2600-2800 USD/t. При этом стоимость полупроводникового кремния колеблется около 280.000 USD/t, т.е. выше в 100 раз, а стоимость кремния «солнечного» качества (SOG - Si) может достигать и 700.000 USD/t [Немчинова Н.В. Поведение примесей элементов при производстве и рафинировании кремния. М., 2008, 236 с; с. 32]. Представляется очевидным, что повышение качества кремния-сырца неизбежно приведет к снижению стоимости как «полупроводникового», так и «солнечного» кремния, что будет способствовать переходу к солнечной энергетике.
Устройство заявленного типа при использовании его на стадиях, непосредственно предшествующих получению монокристаллов «полупроводникового» и «солнечного» кремния, приведет дополнительно к снижению стоимости этих продуктов.

Claims (1)

  1. Устройство для рафинирования кремния путем выделения примесей металлов на металлических поверхностях кристаллизатора, выполненного в виде тел вращения, отличающееся тем, что кристаллизатор состоит из круглого прямого цилиндра, расположенного по вертикальной оси симметрии, и коаксиально по отношению к нему расположенных цилиндрических труб, связанных горизонтальными крестообразными стяжками в поверхностном и придонном слоях расплава.
RU2015152667A 2015-12-08 2015-12-08 Устройство для рафинирования кремния RU2632827C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015152667A RU2632827C2 (ru) 2015-12-08 2015-12-08 Устройство для рафинирования кремния

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015152667A RU2632827C2 (ru) 2015-12-08 2015-12-08 Устройство для рафинирования кремния

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015152667A RU2015152667A (ru) 2017-06-14
RU2632827C2 true RU2632827C2 (ru) 2017-10-10

Family

ID=59068056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015152667A RU2632827C2 (ru) 2015-12-08 2015-12-08 Устройство для рафинирования кремния

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2632827C2 (ru)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000351616A (ja) * 1999-06-07 2000-12-19 Showa Alum Corp 高純度シリコンの製造方法
UA97691C2 (ru) * 2007-09-13 2012-03-12 Силисиум Беканкур Инк. Способ получения твердого поликристаллического кремния высокой чистоты

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000351616A (ja) * 1999-06-07 2000-12-19 Showa Alum Corp 高純度シリコンの製造方法
UA97691C2 (ru) * 2007-09-13 2012-03-12 Силисиум Беканкур Инк. Способ получения твердого поликристаллического кремния высокой чистоты

Also Published As

Publication number Publication date
RU2015152667A (ru) 2017-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018040062A (ja) 高純度マグネシウムの真空蒸留方法及び装置
Zhu et al. Preparation of semi-solid 7075 aluminum alloy slurry by serpentine pouring channel
CN102658362B (zh) 一种超高温Nb-Si基合金的水冷铜坩埚定向凝固方法
CN201500776U (zh) 带有热管冷却系统的高温合金定向凝固装置
Wang et al. Control of silicon solidification and the impurities from an Al–Si melt
CN105568018A (zh) 一种定向凝固镁合金装置及用该装置定向凝固镁合金方法
KR20160026836A (ko) 방향성 고체화 시스템 및 방향성 고체화 방법
Jie et al. Separation and purification of Si from solidification of hypereutectic Al–Si melt under rotating magnetic field
CN101787559B (zh) 一种真空气氛下制备高阻区熔硅单晶的加热线圈装置
CN107252880B (zh) 一种双冷场连续制备大规格铝合金圆铸锭的工艺
KR101578589B1 (ko) 비전기 슬래그 재용융식 청정 금속 잉곳몰드
Kang et al. Control of solid–liquid interface morphology and radial composition distribution: TbDyFe single crystal growth
RU2632827C2 (ru) Устройство для рафинирования кремния
Hong et al. Controlling nucleation during unseeded THM growth of CdZnTe crystal
Wang et al. Effect of melt thermal history on solidification behavior and microstructural characteristics of a third-generation Ni-based single crystal superalloy
CN107234220B (zh) 一种双冷场连续制备高品质铝合金圆铸锭的工艺
RU2234545C2 (ru) Способ очистки алюминия методом сегрегации и устройство для его осуществления
CN107470574A (zh) 一种铝合金铸锭的高速半连续铸造装置及方法
Zhang et al. Mechanism of gravity effect on solidification microstructure of eutectic alloy
CN106591946A (zh) 一种逆向离心提高多晶硅定向凝固提纯得率的设备和方法
US2750262A (en) Process for separating components of a fusible material
RU2600055C1 (ru) Способ и устройство для рафинирования технического кремния
CN202606840U (zh) 一种双电极半连续式电渣重熔铸造装置
Huang et al. Electrical resistivity distribution of silicon ingot grown by cold crucible continuous melting and directional solidification
JP3918026B2 (ja) インゴットの鋳造装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20181209