RU2630426C2 - Ионный источник - Google Patents

Ионный источник Download PDF

Info

Publication number
RU2630426C2
RU2630426C2 RU2015156866A RU2015156866A RU2630426C2 RU 2630426 C2 RU2630426 C2 RU 2630426C2 RU 2015156866 A RU2015156866 A RU 2015156866A RU 2015156866 A RU2015156866 A RU 2015156866A RU 2630426 C2 RU2630426 C2 RU 2630426C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
annular gap
pole
poles
ionic
anode
Prior art date
Application number
RU2015156866A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2015156866A (ru
Inventor
Магомед Абдуразакович Абдулкадыров
Александр Алтынбекович Азербаев
Александр Павлович Семенов
Тимур Равильевич Мухаммедзянов
Original Assignee
Акционерное общество "Лыткаринский завод оптического стекла"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Лыткаринский завод оптического стекла" filed Critical Акционерное общество "Лыткаринский завод оптического стекла"
Priority to RU2015156866A priority Critical patent/RU2630426C2/ru
Publication of RU2015156866A publication Critical patent/RU2015156866A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2630426C2 publication Critical patent/RU2630426C2/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08Ion sources; Ion guns

Abstract

Изобретение относится к газоразрядным электронным приборам с ионным пучком и может использоваться при обработке материалов, в частности при ионной полировке оптических деталей до дифракционного качества поверхности. Ионный источник содержит магнитную систему под потенциалом катода с кольцевым зазором между внутренним и внешним полюсами системы, постоянный магнит в качестве источника магнитодвижущей силы, анод, установленный симметрично кольцевому зазору, систему подачи рабочего газа со стороны анода. Кольцевой зазор выполнен в виде конусообразной щели. Перед внутренним полюсом установлен дополнительный полюс в виде диска диаметром меньшим внутреннего конусного раскрытия кольцевого зазора, а внешний и внутренний полюса выполнены в виде конуса, ориентированного своим основанием в сторону дополнительного полюса. В пространстве между внутренним конусным раскрытием кольцевого зазора и дополнительным полюсом установлена кольцевая вставка из немагнитного материала. Технический результат - создание ионного источника со сходящимся пучком ионов для ионной полировки оптических деталей и повышение ресурса его работы. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Изобретение относится к газоразрядным электронным приборам с ионным пучком и может использоваться при обработке материалов, в частности при ионной полировке оптических деталей до дифракционного качества поверхности.
Известна целая серия ионных источников данного типа, например, источник ионов согласно патенту RU 2248064, опубл. 10.03.2005 г., содержащий полый корпус, служащий катодом, в торцевых стенках которого выполнены эмиссионная щель и каналы для напуска рабочего газа, магнитные наконечники и анод, установленный в полости корпуса напротив щели, источники магнитодвижущей силы. Для уменьшения эрозии магнитных наконечников они снабжены дополнительными защитными пластинами, установленными с соблюдением определенных геометрических соотношений между размерами пластин и апертурой эмиссионной щели. Возникающие при ионизации рабочего газа положительные ионы ускоряются в области между анодом и защитными пластинами и, выходя через эмиссионную щель с заданной апертурой, образуют протяженный ленточный пучок ионов, повторяющий форму щели. Однако для целей ионной полировки, где нужен сходящийся пучок ионов, данный источник ионов не пригоден, т.е. он не решает поставленную задачу.
Известен ионный источник аналогичной конструкции по патентной заявке WO 01/09918, опубл. 08.02.2001 г., в котором, в отличие от предыдущего, вместо защитных пластин все поверхности эмиссионной щели выполнены с эррозионностойким покрытием из немагнитного материала. Однако и в этом источнике без дополнительных ухищрений невозможно получить сходящийся пучок ионов.
Ближайшим по конструктивному исполнению к предлагаемому может служить источник ионов с замкнутым дрейфом электронов по патенту RU 2030807, опубл. 10.03.1999 г. Источник ионов содержит магнитную систему в виде магнито-проводящего корпуса, служащего катодом, с полюсными наконечниками, образующими выходную кольцевую эмиссионную щель, источник магнитодвижущей силы, анод, установленный в полости корпуса симметрично относительно эмиссионной щели. Полость корпуса соединена с системой подачи рабочего газа со стороны анода, а эмиссионная щель образована двумя параллельными прямоугольными участками, замкнутыми на концах криволинейными конусообразными участками щели. При ионизации рабочего газа в эмиссионной щели формируется протяженный ленточный пучок ионов, который, выходя из щели, повторяет ее форму и распространяется перпендикулярно плоскости торцевой стенки корпуса. Ширина ленточного пучка может достигать 1400 мм. Однако создать сходящийся пучок ионов в данном источнике ионов затруднительно, и он не решает поставленную задачу.
Задачей изобретения является создание ионного источника со сходящимся пучком ионов для ионной полировки оптических деталей и повышение ресурса его работы.
Технический результат, обусловленный поставленной задачей, достигается тем, что в ионном источнике, включающем магнитную систему под потенциалом катода с кольцевым зазором между внутренним и внешним полюсами магнитной системы, источник магнитодвижущей силы, анод, установленный сзади симметрично кольцевому зазору, систему подачи рабочего газа со стороны анода, при этом кольцевой зазор выполнен в виде конусной щели, в отличие от известного перед внутренним полюсом магнитной системы установлен дополнительный полюс в виде диска диаметром меньшим внутреннего конусного раскрытия кольцевого зазора, магнитная система выполнена в виде конуса, ориентированного своим основанием в сторону дополнительного магнита, а между внутренним конусным раскрытием кольцевого зазора и дополнительным полюсом установлена кольцевая вставка.
Конусная конфигурация полюсов позволяет получить сходящийся ионный пучок. Торцевые поверхности полюсов в кольцевом зазоре имеют фаску под определенным углом и с требуемой ориентацией относительно зазора. Такая конфигурация магнитных полюсов в области кольцевого зазора и наличие вставки позволяют значительно снизить их эрозию, происходящую вследствие распыления данных участков полюсов высокоэнергетичными заряженными частицами, тем самым увеличить срок их службы (ресурс работы). Дополнительный полюс предназначен для формирования на определенном фокусном расстоянии ионного пучка с профилем в виде круга и Гауссовым (или близким к нему) распределением ионного тока по профилю.
Изобретение поясняется чертежом ионного источника в разрезе.
Ионный источник (ИИ) состоит из цилиндрического корпуса 1, на торце которого закреплены внешний 2 и внутренний 3 полюса магнитной системы в виде двух колец из магнитопроводящей стали. Полюса 2 и 3 выполнены в виде конуса, ориентированного своим основанием наружу. Между полюсами 2 и 3 имеется кольцевой зазор, переходящий на расстоянии от внутренней поверхности в пределах 1/3…1/2 толщины полюсов в фаски под углами 35…45° на наружной поверхности полюса. Кольцевой зазор с расширяющимся конусообразным выходом служит эмиссионной щелью для ионизированного газа. Внутри корпуса 1 симметрично и сзади кольцевого зазора (эмиссионной щели) установлен кольцевой водоохлаждаемый анод 4. К корпусу 1 подсоединена система подачи рабочего газа со стороны анода 4, а также источник магнитодвижущей силы - постоянный магнит 5. Полюса 2 и 3 находятся под потенциалом катода. Они так же, как и анод 4, охлаждаются водой. Перед внутренним полюсом 3 расположен закрепленный на корпусе дополнительный полюс 6 - магнитопровод в виде диска диаметром меньшим фасочного (конусного) раскрытия на внутреннем полюсе 3. Пространство между внутренним 3 и дополнительным 5 полюсами было заполнено вставкой 7 из немагнитного материала с низким коэффициентом распыления γ, например, алюминия.
Был изготовлен экспериментальный образец ИИ с диаметром кольцевого зазора, равным 100 мм. Благодаря коническому выполнению полюсов 2 и 3 и дополнительному полюсу 6 такой ИИ формирует конический пучок ионов с диаметром основания 100 мм, который сходится на расстоянии 350 мм на поверхности обрабатываемой детали.
Работает ИИ по схеме ускорителя с азимутальным дрейфом электронов. В источнике реализован принцип бездиссипативного ускорения ионов самосогласованным электромагнитным полем. Ускорительным каналом в источнике ионов служит кольцевой зазор между полюсами магнитной системы, ограниченный с одной стороны анодом. Магнитная система создает в кольцевом канале радиальное магнитное поле, электрическое поле, перпендикулярное магнитному полю, направленное вдоль оси канала. Электроны, подвижность которых поперек магнитного поля сильно ограничена, медленно двигаются к аноду. Атомы рабочего вещества поступают в канал со стороны анода, ионизируются и ускоряются, не испытывая воздействия магнитного поля. Полюса магнитной системы являются проводниками и находятся под потенциалом катода. Для фокусировки пучка на изделии и придания ему определенной конфигурации предусмотрен дополнительный полюс. Таким образом, профиль ионного тока на изделии имеет пик (Гауссово распределение) ионного тока на оси ионного источника.
За счет фасок на внешнем и внутреннем полюсах, вместе образующих конусное раскрытие кольцевой щели, через которую ионный пучок выходит из источника, удалось добиться значительного снижения выработки материала полюсов. В свою очередь, вставка на дополнительном полюсе не дает накапливаться ионизированному газу возле него (полюса), что также приводит к снижению его выработки и достижению технического результата.

Claims (2)

1. Ионный источник, включающий магнитную систему под потенциалом катода с кольцевым зазором между внутренним и внешним полюсами системы, источник магнитодвижущей силы (постоянный магнит), установленный сзади симметрично кольцевому зазору анод, систему подачи рабочего газа со стороны анода, при этом кольцевой зазор выполнен в виде конусной щели, отличающийся тем, что перед внутренним полюсом системы установлен дополнительный полюс в виде диска диаметром меньшим внутреннего конусного раскрытия кольцевого зазора, внешний и внутренний полюса выполнены в виде конуса, ориентированного своим основанием в сторону дополнительного полюса, а в пространстве между внутренним конусным раскрытием кольцевого зазора и дополнительным полюсом установлена кольцевая вставка из немагнитного материала.
2. Ионный источник по п. 1, отличающийся тем, что кольцевой зазор выполнен с фасками под углом 35-45° на наружной поверхности полюсов и на расстоянии от внутренней поверхности в пределах 1/3-1/2 их толщины.
RU2015156866A 2015-12-30 2015-12-30 Ионный источник RU2630426C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015156866A RU2630426C2 (ru) 2015-12-30 2015-12-30 Ионный источник

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015156866A RU2630426C2 (ru) 2015-12-30 2015-12-30 Ионный источник

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015156866A RU2015156866A (ru) 2017-07-05
RU2630426C2 true RU2630426C2 (ru) 2017-09-07

Family

ID=59309345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015156866A RU2630426C2 (ru) 2015-12-30 2015-12-30 Ионный источник

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2630426C2 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2030807C1 (ru) * 1992-02-20 1995-03-10 Парфененок Михаил Антонович Источник ионов с замкнутым дрейфом электронов
WO2001009918A1 (en) * 1999-08-02 2001-02-08 Advanced Energy Industries, Inc. Enhanced electron emissive surfaces for a thin film deposition system using ion sources
RU2248064C1 (ru) * 2003-09-29 2005-03-10 Парфененок Михаил Антонович Источник ионов
WO2013055523A2 (en) * 2011-10-10 2013-04-18 Guardian Industries Group. Ion source apparatus and methods of using the same
RU2510735C2 (ru) * 2012-05-22 2014-04-10 Закрытое акционерное общество "Ферри Ватт" Устройство для ионного распыления мишени и/или обработки поверхности объекта и способ его применения

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2030807C1 (ru) * 1992-02-20 1995-03-10 Парфененок Михаил Антонович Источник ионов с замкнутым дрейфом электронов
WO2001009918A1 (en) * 1999-08-02 2001-02-08 Advanced Energy Industries, Inc. Enhanced electron emissive surfaces for a thin film deposition system using ion sources
RU2248064C1 (ru) * 2003-09-29 2005-03-10 Парфененок Михаил Антонович Источник ионов
WO2013055523A2 (en) * 2011-10-10 2013-04-18 Guardian Industries Group. Ion source apparatus and methods of using the same
RU2510735C2 (ru) * 2012-05-22 2014-04-10 Закрытое акционерное общество "Ферри Ватт" Устройство для ионного распыления мишени и/или обработки поверхности объекта и способ его применения

Also Published As

Publication number Publication date
RU2015156866A (ru) 2017-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4100055A (en) Target profile for sputtering apparatus
US10134557B2 (en) Linear anode layer slit ion source
JP5872541B2 (ja) 改良型イオン源
JP2651980B2 (ja) クローズド電子ドリフトを備えたプラズマ加速器
US11158481B2 (en) Ion milling device, ion source, and ion milling method
US7589474B2 (en) Ion source with upstream inner magnetic pole piece
US9153405B2 (en) Ion source device and ion beam generating method
US4122347A (en) Ion source
CA2877431C (en) Ion accelerator
JP2017504148A5 (ru)
RU2536126C2 (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
KR20030014373A (ko) 플라즈마 가속장치
RU2630426C2 (ru) Ионный источник
RU2474984C1 (ru) Плазменный ускоритель с замкнутым дрейфом электронов
RU2656851C1 (ru) Плазменный ускоритель с замкнутым дрейфом электронов
RU167315U1 (ru) Стационарный плазменный двигатель малой мощности
JP6283259B2 (ja) マイクロ波イオン源
RU2371803C1 (ru) Плазменный источник ионов
US20180040450A1 (en) Method and device for the production of highly charged ions
US8138677B2 (en) Radial hall effect ion injector with a split solenoid field
RU2338294C1 (ru) Широкоапертурный источник газовых ионов
Cornish et al. The use of an electron microchannel as a self-extracting and focusing plasma cathode electron gun
Griswold et al. Plasma lens focusing of the hall thruster plume
RU2371804C1 (ru) Газоразрядный источник ионов
JP6150705B2 (ja) マイクロ波イオン源