RU2586370C1 - Способ электроосаждения медных покрытий - Google Patents
Способ электроосаждения медных покрытий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2586370C1 RU2586370C1 RU2014148480/02A RU2014148480A RU2586370C1 RU 2586370 C1 RU2586370 C1 RU 2586370C1 RU 2014148480/02 A RU2014148480/02 A RU 2014148480/02A RU 2014148480 A RU2014148480 A RU 2014148480A RU 2586370 C1 RU2586370 C1 RU 2586370C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- copper
- electrolyte
- coating
- current
- Prior art date
Links
Abstract
Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для нанесения медных покрытий на профилированные изделия. Способ включает электроосаждение медного покрытия из электролита, содержащего соль меди и серную кислоту, с использованием реверсивного тока, при этом электролиз ведут при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2, частоте пульсации тока от 0,05 до 1 Гц, отношении длительности катодных и анодных импульсов от 2:1 до 5:1, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого с помощью потенциала индикаторного платинового электрода контролируют в пределах от +0,7 до +0,8 В относительно стандартного водородного электрода. Технический результат: повышение равномерности покрытия на поверхности профилированных изделий без образования избыточной шероховатости. 1 з.п. ф-лы, 3 пр.
Description
Изобретение относится к гальванотехнике, конкретно - к способам нанесения покрытий металлами и сплавами, улучшающим равномерность распределения и снижающим шероховатость покрытия на поверхности покрываемых изделий.
Известны способы улучшения равномерности распределения электроосажденных слоев металлов и сплавов путем введения в состав используемых электролитов химических соединений, повышающих их рассеивающую способность, например, соединений, образующих комплексы с ионами осаждаемых металлов, или органических поверхностно-активных веществ, адсорбирующихся на катоде и увеличивающих катодную поляризацию [1].
Однако эти способы не могут обеспечить получения одинаковой толщины осажденного слоя на разных участках поверхности профилированных изделий. В литературе [2] имеются сведения о положительном воздействии реверсивного тока на качество получаемых покрытий. Однако применение реверсивного тока в процессе нанесения металлического покрытия в одних случаях может способствовать улучшению равномерности его распределения на покрываемой поверхности, в то время как в других случаях оно оказывает отрицательное воздействие на равномерность распределения покрытия [2].
Наиболее близким по технической сущности является способ электролитического осаждения медных покрытий из электролита на основе сульфата меди и серной кислоты с использованием реверса тока [3]. Однако при реализации этого способа обнаружилось, что на отдельных участках поверхности покрываемых деталей полученное медное покрытие имеет избыточную шероховатость поверхности (подгар). Появление подгара, по-видимому, связано с избыточным накоплением однозарядных ионов меди, диспропорционирующих с образованием частиц металла и двухзарядных ионов меди.
Технической задачей данного изобретения является получение медного гальванического покрытия равномерной толщины на поверхности профилированных изделий без образования избыточной шероховатости на отдельных участках поверхности.
Поставленная задача решается способом электроосаждения медных покрытий из электролита с помощью реверсивного тока, представляющего собой периодически чередующиеся катодные и анодные импульсы, при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2 и соотношении длительностей катодного и анодного импульсов от 2:1 до 5:1, при частоте пульсаций тока от 0,05 до 1 Гц, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого контролируют по величине потенциала индикаторного платинового электрода в пределах от +0,7 до +0,85 В относительно стандартного водородного электрода.
Для реализации поставленной задачи берут электролит, содержащий в качестве соли меди пентагидрат сульфата меди в количестве 50-200 г/л и серную кислоту 50-150 г/л.
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
ПРИМЕР 1
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 50 г/л, H2SO4 150 г/л. Пероксид водорода добавлен до установления потенциала индикаторного электрода +0,7 В. Электролиз ведут в отсутствие перемешивания при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200 А/м2, частоте пульсации тока 0,05 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 2:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±5%. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ПРИМЕР 2
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 200 г/л, H2SO4 50 г/л. В электролит добавлен пероксид водорода до установления потенциала индикаторного электрода +0,8 В. Электролиз вели при перемешивании электролита, плотности тока в катодных и анодных импульсах 1000 А/м2, частоте пульсации 0,2 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 5:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±10%. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ПРИМЕР 3
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 100 г/л, H2SO4 100 г/л. В электролит добавлен пероксид водорода до установления потенциала индикаторного электрода +0,75 В. Электролиз вели при перемешивании электролита, плотности тока в катодных и анодных импульсах 400 А/м2, частоте пульсации тока 1 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 3:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±7 %. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ЛИТЕРАТУРА
1. Лайнер В.И., Кудрявцев Н.Т. Основы гальваностегии. ч. 1. Металлургиздат, М., 1953, 624 с.
2. Гамбург Ю.Д. Гальванотехника и обработка поверхности, 2003, т.11, № 4, с. 60.
3. Кругликов С.С., Ярлыков М. М., Юрчук Т.Е. Электрохимия. 1991, т. 27, с. 298-302.
Claims (3)
-
- 1. Способ электроосаждения медного покрытия из электролита, содержащего соль меди и серную кислоту, с использованием реверсивного тока, отличающийся тем, что электролиз ведут при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2, частоте пульсации тока от 0,05 до 1 Гц, отношении длительности катодных и анодных импульсов от 2:1 до 5:1, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого с помощью потенциала индикаторного платинового электрода контролируют в пределах от +0,7 до +0,8 В относительно стандартного водородного электрода.
- 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что электролит содержит в качестве соли меди пентагидрат сульфата меди в количестве 50-200 г/л и серную кислоту 50-150 г/л.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) | 2014-12-02 | 2014-12-02 | Способ электроосаждения медных покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) | 2014-12-02 | 2014-12-02 | Способ электроосаждения медных покрытий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2586370C1 true RU2586370C1 (ru) | 2016-06-10 |
Family
ID=56115379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) | 2014-12-02 | 2014-12-02 | Способ электроосаждения медных покрытий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2586370C1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2630994C1 (ru) * | 2016-06-28 | 2017-09-15 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Способ электролитического осаждения медных покрытий |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1157146A1 (ru) * | 1983-07-25 | 1985-05-23 | Предприятие П/Я М-5353 | Способ гальванического меднени и одновременной очистки электролита от примесей |
SU1305198A1 (ru) * | 1985-07-08 | 1987-04-23 | Предприятие П/Я Р-6762 | Выравнивающа добавка дл пирофосфатных электролитов меднени |
US20030106802A1 (en) * | 2001-05-09 | 2003-06-12 | Hideki Hagiwara | Copper plating bath and plating method for substrate using the copper plating bath |
-
2014
- 2014-12-02 RU RU2014148480/02A patent/RU2586370C1/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1157146A1 (ru) * | 1983-07-25 | 1985-05-23 | Предприятие П/Я М-5353 | Способ гальванического меднени и одновременной очистки электролита от примесей |
SU1305198A1 (ru) * | 1985-07-08 | 1987-04-23 | Предприятие П/Я Р-6762 | Выравнивающа добавка дл пирофосфатных электролитов меднени |
US20030106802A1 (en) * | 2001-05-09 | 2003-06-12 | Hideki Hagiwara | Copper plating bath and plating method for substrate using the copper plating bath |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
КРУГЛИКОВ С.С. и др. Электрохимия, 1991, т.27, с. 298-302. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2630994C1 (ru) * | 2016-06-28 | 2017-09-15 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Способ электролитического осаждения медных покрытий |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6534391B2 (ja) | 三価クロムを含有する電気めっき浴及びクロムを析出させる方法 | |
Wang et al. | Electrodeposition mechanism and characterization of Ni–Cu alloy coatings from a eutectic-based ionic liquid | |
US10100423B2 (en) | Electrodeposition of chromium from trivalent chromium using modulated electric fields | |
Ashassi-Sorkhabi et al. | Zinc–nickel alloy coatings electrodeposited from a chloride bath using direct and pulse current | |
CN106661753B (zh) | 离子液体电解质和电沉积金属的方法 | |
Nikolić et al. | Effect of parameters of square-wave pulsating current on copper electrodeposition in the hydrogen co-deposition range | |
Sadyrbaeva | Gold (III) recovery from non-toxic electrolytes using hybrid electrodialysis–electrolysis process | |
Nikolić et al. | Correlate between morphology of powder particles obtained by the different regimes of electrolysis and the quantity of evolved hydrogen | |
CN111108233A (zh) | 产生电催化剂的方法 | |
EP2640873A1 (en) | Electrolytic dissolution of chromium from chromium electrodes | |
Kasach et al. | Electrodeposition of Cu-Sn alloy from oxalic acid electrolyte in the presence of amine-containing surfactants | |
RU2586370C1 (ru) | Способ электроосаждения медных покрытий | |
Kasach et al. | Effect of parameters of pulse electrolysis on electrodeposition of copper–tin alloy from sulfate electrolyte | |
TWI451003B (zh) | 鎳ph值調整方法及設備 | |
US2356575A (en) | Process for the cathodic treatment of metals | |
RU2617470C1 (ru) | Способ электроосаждения покрытий никель-фосфор | |
Török et al. | Direct cathodic deposition of copper on steel wires from pyrophosphate baths | |
RU2489527C2 (ru) | Состав электролита антифрикционного электролитического сплава "цинк-железо" для осаждения в условиях гидромеханического активирования | |
RU2630994C1 (ru) | Способ электролитического осаждения медных покрытий | |
US2439935A (en) | Indium electroplating | |
RU2814771C1 (ru) | Способ электроосаждения хромовых покрытий из электролита на основе гексагидрата сульфата хрома (III) и формиата натрия | |
RU2720269C1 (ru) | Способ получения коррозионностойкого электрохимического покрытия цинк-никель-кобальт | |
RU2690773C1 (ru) | Способ нанесения гладких гальванических железных покрытий в проточном электролите с крупными дисперсными частицами | |
US3083150A (en) | Process for the electro-plating of cadmium-titanium alloy | |
RU2516142C2 (ru) | Способ модифицирования поверхности титана |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20181203 |