RU2586370C1 - Способ электроосаждения медных покрытий - Google Patents

Способ электроосаждения медных покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2586370C1
RU2586370C1 RU2014148480/02A RU2014148480A RU2586370C1 RU 2586370 C1 RU2586370 C1 RU 2586370C1 RU 2014148480/02 A RU2014148480/02 A RU 2014148480/02A RU 2014148480 A RU2014148480 A RU 2014148480A RU 2586370 C1 RU2586370 C1 RU 2586370C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
copper
electrolyte
coating
current
Prior art date
Application number
RU2014148480/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Наталья Евгеньевна Некрасова
Сергей Сергеевич Кругликов
Евгений Геннадьевич Винокуров
Василий Михайлович Помогаев
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева" (РХТУ им. Д. И. Менделеева)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева" (РХТУ им. Д. И. Менделеева) filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева" (РХТУ им. Д. И. Менделеева)
Priority to RU2014148480/02A priority Critical patent/RU2586370C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2586370C1 publication Critical patent/RU2586370C1/ru

Links

Abstract

Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для нанесения медных покрытий на профилированные изделия. Способ включает электроосаждение медного покрытия из электролита, содержащего соль меди и серную кислоту, с использованием реверсивного тока, при этом электролиз ведут при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2, частоте пульсации тока от 0,05 до 1 Гц, отношении длительности катодных и анодных импульсов от 2:1 до 5:1, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого с помощью потенциала индикаторного платинового электрода контролируют в пределах от +0,7 до +0,8 В относительно стандартного водородного электрода. Технический результат: повышение равномерности покрытия на поверхности профилированных изделий без образования избыточной шероховатости. 1 з.п. ф-лы, 3 пр.

Description

Изобретение относится к гальванотехнике, конкретно - к способам нанесения покрытий металлами и сплавами, улучшающим равномерность распределения и снижающим шероховатость покрытия на поверхности покрываемых изделий.
Известны способы улучшения равномерности распределения электроосажденных слоев металлов и сплавов путем введения в состав используемых электролитов химических соединений, повышающих их рассеивающую способность, например, соединений, образующих комплексы с ионами осаждаемых металлов, или органических поверхностно-активных веществ, адсорбирующихся на катоде и увеличивающих катодную поляризацию [1].
Однако эти способы не могут обеспечить получения одинаковой толщины осажденного слоя на разных участках поверхности профилированных изделий. В литературе [2] имеются сведения о положительном воздействии реверсивного тока на качество получаемых покрытий. Однако применение реверсивного тока в процессе нанесения металлического покрытия в одних случаях может способствовать улучшению равномерности его распределения на покрываемой поверхности, в то время как в других случаях оно оказывает отрицательное воздействие на равномерность распределения покрытия [2].
Наиболее близким по технической сущности является способ электролитического осаждения медных покрытий из электролита на основе сульфата меди и серной кислоты с использованием реверса тока [3]. Однако при реализации этого способа обнаружилось, что на отдельных участках поверхности покрываемых деталей полученное медное покрытие имеет избыточную шероховатость поверхности (подгар). Появление подгара, по-видимому, связано с избыточным накоплением однозарядных ионов меди, диспропорционирующих с образованием частиц металла и двухзарядных ионов меди.
Технической задачей данного изобретения является получение медного гальванического покрытия равномерной толщины на поверхности профилированных изделий без образования избыточной шероховатости на отдельных участках поверхности.
Поставленная задача решается способом электроосаждения медных покрытий из электролита с помощью реверсивного тока, представляющего собой периодически чередующиеся катодные и анодные импульсы, при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2 и соотношении длительностей катодного и анодного импульсов от 2:1 до 5:1, при частоте пульсаций тока от 0,05 до 1 Гц, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого контролируют по величине потенциала индикаторного платинового электрода в пределах от +0,7 до +0,85 В относительно стандартного водородного электрода.
Для реализации поставленной задачи берут электролит, содержащий в качестве соли меди пентагидрат сульфата меди в количестве 50-200 г/л и серную кислоту 50-150 г/л.
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
ПРИМЕР 1
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 50 г/л, H2SO4 150 г/л. Пероксид водорода добавлен до установления потенциала индикаторного электрода +0,7 В. Электролиз ведут в отсутствие перемешивания при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200 А/м2, частоте пульсации тока 0,05 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 2:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±5%. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ПРИМЕР 2
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 200 г/л, H2SO4 50 г/л. В электролит добавлен пероксид водорода до установления потенциала индикаторного электрода +0,8 В. Электролиз вели при перемешивании электролита, плотности тока в катодных и анодных импульсах 1000 А/м2, частоте пульсации 0,2 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 5:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±10%. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ПРИМЕР 3
Медное покрытие осаждали из электролита, содержащего CuSO4·5H2O 100 г/л, H2SO4 100 г/л. В электролит добавлен пероксид водорода до установления потенциала индикаторного электрода +0,75 В. Электролиз вели при перемешивании электролита, плотности тока в катодных и анодных импульсах 400 А/м2, частоте пульсации тока 1 Гц и отношении длительности катодных и анодных импульсов 3:1. Отклонения толщины полученного медного покрытия от среднего значения были в пределах ±7 %. Избыточная шероховатость (подгар) отсутствует.
ЛИТЕРАТУРА
1. Лайнер В.И., Кудрявцев Н.Т. Основы гальваностегии. ч. 1. Металлургиздат, М., 1953, 624 с.
2. Гамбург Ю.Д. Гальванотехника и обработка поверхности, 2003, т.11, № 4, с. 60.
3. Кругликов С.С., Ярлыков М. М., Юрчук Т.Е. Электрохимия. 1991, т. 27, с. 298-302.

Claims (3)


  1. 1. Способ электроосаждения медного покрытия из электролита, содержащего соль меди и серную кислоту, с использованием реверсивного тока, отличающийся тем, что электролиз ведут при плотности тока в катодных и анодных импульсах 200-1000 А/м2, частоте пульсации тока от 0,05 до 1 Гц, отношении длительности катодных и анодных импульсов от 2:1 до 5:1, при этом электролит дополнительно содержит пероксид водорода, содержание которого с помощью потенциала индикаторного платинового электрода контролируют в пределах от +0,7 до +0,8 В относительно стандартного водородного электрода.
  2. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что электролит содержит в качестве соли меди пентагидрат сульфата меди в количестве 50-200 г/л и серную кислоту 50-150 г/л.
RU2014148480/02A 2014-12-02 2014-12-02 Способ электроосаждения медных покрытий RU2586370C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) 2014-12-02 2014-12-02 Способ электроосаждения медных покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) 2014-12-02 2014-12-02 Способ электроосаждения медных покрытий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2586370C1 true RU2586370C1 (ru) 2016-06-10

Family

ID=56115379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014148480/02A RU2586370C1 (ru) 2014-12-02 2014-12-02 Способ электроосаждения медных покрытий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2586370C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2630994C1 (ru) * 2016-06-28 2017-09-15 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) Способ электролитического осаждения медных покрытий

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1157146A1 (ru) * 1983-07-25 1985-05-23 Предприятие П/Я М-5353 Способ гальванического меднени и одновременной очистки электролита от примесей
SU1305198A1 (ru) * 1985-07-08 1987-04-23 Предприятие П/Я Р-6762 Выравнивающа добавка дл пирофосфатных электролитов меднени
US20030106802A1 (en) * 2001-05-09 2003-06-12 Hideki Hagiwara Copper plating bath and plating method for substrate using the copper plating bath

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1157146A1 (ru) * 1983-07-25 1985-05-23 Предприятие П/Я М-5353 Способ гальванического меднени и одновременной очистки электролита от примесей
SU1305198A1 (ru) * 1985-07-08 1987-04-23 Предприятие П/Я Р-6762 Выравнивающа добавка дл пирофосфатных электролитов меднени
US20030106802A1 (en) * 2001-05-09 2003-06-12 Hideki Hagiwara Copper plating bath and plating method for substrate using the copper plating bath

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
КРУГЛИКОВ С.С. и др. Электрохимия, 1991, т.27, с. 298-302. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2630994C1 (ru) * 2016-06-28 2017-09-15 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева) Способ электролитического осаждения медных покрытий

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6534391B2 (ja) 三価クロムを含有する電気めっき浴及びクロムを析出させる方法
Wang et al. Electrodeposition mechanism and characterization of Ni–Cu alloy coatings from a eutectic-based ionic liquid
US10100423B2 (en) Electrodeposition of chromium from trivalent chromium using modulated electric fields
Ashassi-Sorkhabi et al. Zinc–nickel alloy coatings electrodeposited from a chloride bath using direct and pulse current
CN106661753B (zh) 离子液体电解质和电沉积金属的方法
Nikolić et al. Effect of parameters of square-wave pulsating current on copper electrodeposition in the hydrogen co-deposition range
Sadyrbaeva Gold (III) recovery from non-toxic electrolytes using hybrid electrodialysis–electrolysis process
Nikolić et al. Correlate between morphology of powder particles obtained by the different regimes of electrolysis and the quantity of evolved hydrogen
CN111108233A (zh) 产生电催化剂的方法
EP2640873A1 (en) Electrolytic dissolution of chromium from chromium electrodes
Kasach et al. Electrodeposition of Cu-Sn alloy from oxalic acid electrolyte in the presence of amine-containing surfactants
RU2586370C1 (ru) Способ электроосаждения медных покрытий
Kasach et al. Effect of parameters of pulse electrolysis on electrodeposition of copper–tin alloy from sulfate electrolyte
TWI451003B (zh) 鎳ph值調整方法及設備
US2356575A (en) Process for the cathodic treatment of metals
RU2617470C1 (ru) Способ электроосаждения покрытий никель-фосфор
Török et al. Direct cathodic deposition of copper on steel wires from pyrophosphate baths
RU2489527C2 (ru) Состав электролита антифрикционного электролитического сплава "цинк-железо" для осаждения в условиях гидромеханического активирования
RU2630994C1 (ru) Способ электролитического осаждения медных покрытий
US2439935A (en) Indium electroplating
RU2814771C1 (ru) Способ электроосаждения хромовых покрытий из электролита на основе гексагидрата сульфата хрома (III) и формиата натрия
RU2720269C1 (ru) Способ получения коррозионностойкого электрохимического покрытия цинк-никель-кобальт
RU2690773C1 (ru) Способ нанесения гладких гальванических железных покрытий в проточном электролите с крупными дисперсными частицами
US3083150A (en) Process for the electro-plating of cadmium-titanium alloy
RU2516142C2 (ru) Способ модифицирования поверхности титана

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20181203