RU2539749C2 - SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES - Google Patents
SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES Download PDFInfo
- Publication number
- RU2539749C2 RU2539749C2 RU2013120788/28A RU2013120788A RU2539749C2 RU 2539749 C2 RU2539749 C2 RU 2539749C2 RU 2013120788/28 A RU2013120788/28 A RU 2013120788/28A RU 2013120788 A RU2013120788 A RU 2013120788A RU 2539749 C2 RU2539749 C2 RU 2539749C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- films
- target
- superconducting
- dielectric substrates
- Prior art date
Links
Images
Abstract
Description
Изобретение относится к способам формирования сверхпроводящих пленок с двух сторон диэлектрических подложек. Необходимость создания сверхпроводящих YBCO пленок с двух сторон подложки обусловлена возможностью более полного использования площадей подложки для изготовления на ней элементов сверхпроводниковой электроники.The invention relates to methods for forming superconducting films on two sides of dielectric substrates. The need to create superconducting YBCO films on both sides of the substrate is due to the possibility of more complete use of the substrate areas for the manufacture of elements of superconductor electronics on it.
Известен способ одновременного напыления ВТСП пленки с двух сторон подложки, в котором использован метод скрещенных лазерных лучей, позволяющий проводить напыление от двух мишеней (В.Г. Прохоров и др. //СФХТ, 1992, №3, с.505-509).A known method for the simultaneous deposition of HTSC film from two sides of the substrate, which uses the method of crossed laser beams, which allows spraying from two targets (V.G. Prokhorov and others // SFKhT, 1992, No. 3, S. 505-509).
Недостатком способа является необходимость в двух лазерах и возможное образование новых сложных не сверхпроводящих частиц в плазме двух скрещенных факелов и в связи с этим неидентичность электрофизических параметров полученных пленок с разных сторон подложки.The disadvantage of this method is the need for two lasers and the possible formation of new complex non-superconducting particles in the plasma of two crossed torches and, therefore, the identity of the electrophysical parameters of the obtained films from different sides of the substrate.
Наиболее близким к заявляемому изобретению является способ формирования многослойных структур из материала YBaCuO с двух сторон подложки с помощью держателя со смещенным центром тяжести (патент РФ 2189090). Недостатком способа является зависимость способа от смещение центра тяжести, при котором происходит смещение подложки относительно лазерного факела, что обуславливает неоднородность напыляемой пленки по составу и толщине.Closest to the claimed invention is a method of forming multilayer structures from YBaCuO material on both sides of the substrate using a holder with a shifted center of gravity (RF patent 2189090). The disadvantage of this method is the dependence of the method on the shift of the center of gravity, at which the substrate is displaced relative to the laser plume, which causes the heterogeneity of the sprayed film in composition and thickness.
Задачей изобретения является создание способа формирования пленок YBaCuO с двух сторон подложки: однородных по толщине или с заданным распределением толщины по подложке в одном технологическом цикле (in situ) без изменения установленного перед началом напыления давления в камере.The objective of the invention is to provide a method of forming YBaCuO films on two sides of the substrate: uniform in thickness or with a given distribution of thickness on the substrate in one technological cycle (in situ) without changing the pressure set in the chamber before the deposition begins.
Указанный технический результат достигается тем, что в способе формирования тонкой сверхпроводящей пленки с двух сторон подложки методом лазерной абляции вращение подложки осуществляют так, что каждая сторона подложки поочередно обращена к мишени YBa2Cu3O7 в течение времени τ=5÷7 секунд, при расстоянии до мишени L=25÷30 мм.The specified technical result is achieved by the fact that in the method of forming a thin superconducting film on both sides of the substrate by laser ablation, the rotation of the substrate is carried out so that each side of the substrate is alternately facing the YBa 2 Cu 3 O 7 target for a time τ = 5 ÷ 7 seconds, at distance to the target L = 25 ÷ 30 mm.
При этом на фиг.1 подложку 1 устанавливают внутри цилиндрической кварцевой печи 2 на нихромовом держателе звездчатой формы 3 на расстоянии 1-3 см от мишени 4, который соединен со штоком 5 с постоянным магнитом 6 на конце, выходящем из печи с нагревателем 7. Управление вращением осуществляют перемещением штока 5 постоянным магнитом 8, расположенным вне вакуумной камеры и соединенным с реечным шаговым двигателем 9, управляемым компьютером. Это позволяет осуществлять как вращение подложки на 360 градусов и обратно с заданной частотой, так и фиксированный наклон ее под определенным углом к лазерному факелу с целью получения необходимого распределения толщины пленки по поверхности подложки. Для получения сверхпроводящей пленки температура подложки может достигать внутри печи 850 и более градусов Цельсия. Поэтому все детали держателей подложки, мишени, механизмов перемещения должны быть сделаны из огнеупорного материала, стойкого к окислению при указанных температурах, например нихрома (фехраля) или керамики (шамотной, кордиеритовой, глиноземной и др.) или их сочетания. В качестве подложек можно использовать монокристаллические материалы SrTiOз, LaAlO3, MgO. Регулирование температуры подложки осуществляется варьированием мощности питания вакуумной печи с контролем температуры термопарным датчиком 10 (хромель-алюмель, платина - платина-родий). Время поочередного обращения подложки τ=5÷7 секунд получено экспериментально и косвенно связано с такими параметрами, как температура подложки 800÷840°С, температура мишени 600-700°С, давление в вакуумной камере 50-100 Па, расстояние мишень-подложка 25-30 мм, плотность мощности лазерного излучения на поверхности YBCO мишени (3-5)·108 Вт/см.In this case, in figure 1, the substrate 1 is installed inside a
Таким образом, в процессе проведенных исследований создан способ формирования сверхпроводящих пленок YBaCuO как полностью однородных по толщине, так и с необходимым распределением толщины по поверхности подложки. Экспериментально установлены параметры лазерного излучения, геометрического расположения и температурного режима для напыления качественных сверхпроводящих пленок.Thus, in the course of the research, a method was created for the formation of superconducting YBaCuO films both completely uniform in thickness and with the necessary thickness distribution over the substrate surface. The parameters of laser radiation, geometric arrangement and temperature conditions for deposition of high-quality superconducting films are experimentally established.
Устройство, при помощи которого реализуется предлагаемый способ, включает в себя импульсный лазер, кварцевую вакуумную камеру, систему линз для фокусировки лазерного луча на мишень. Установка имеет также систему вакуумной откачки с контролем вакуума и регулируемого напуска воздуха или кислорода. Вакуумная камера имеет кварцевое окно для прохождения лазерного излучения и контроля за ходом эксперимента. Предложенный способ можно пояснить примером получения ВТСП пленок с двух сторон подложки со следующими параметрами: критический ток 106 А/см2; критическая температура 92,3 К; ширина сверхпроводящего перехода 0,8-1,0 К.The device by which the proposed method is implemented includes a pulsed laser, a quartz vacuum chamber, a lens system for focusing a laser beam on a target. The installation also has a vacuum pumping system with vacuum control and adjustable air or oxygen inlet. The vacuum chamber has a quartz window for passing laser radiation and monitoring the progress of the experiment. The proposed method can be illustrated by the example of obtaining HTSC films on both sides of the substrate with the following parameters: critical current 10 6 A / cm 2 ; critical temperature 92.3 K; the width of the superconducting transition is 0.8-1.0 K.
Пример 1. Мишень состава YBa2Cu3О6,88-6,92, приготовленная по пиролизной керамической технологии, устанавливается на нихромовом держателе внутри вакуумной кварцевой цилиндрической печи.Example 1. The target composition YBa 2 Cu 3 About 6.88-6.92 , prepared by pyrolysis of ceramic technology, is mounted on a nichrome holder inside a vacuum quartz cylindrical furnace.
Подложки типа SrTi3, LaAlO, отполированные с двух сторон, фиксируются на нихромовом держателе звездчатой формы по нормали к поверхности мишени на расстоянии 25-30 мм. Вакуумная камера откачивается до давления 50-100 Па, включается печь и подложка нагревается до температуры 800-840°С. Далее включается механизм перемещения штока постоянным магнитом, соединенным с шаговым двигателем, управляемым компьютером, который осуществляет возвратно-поступательные движения, поворачивая подложку к мишени то одной, то другой стороной. Такой режим позволяет напылять однородные пленки с двух сторон подложки как одинаковой толщины (одинаковое время нахождения поверхности перед распыляемой мишенью), так и разной толщины (разное время нахождения поверхностей перед распыляемой мишенью). Более того, фиксируя положение поверхностей перед распыляемой мишенью под разными углами, можно напылять пленки с заданным распределением толщины по поверхности подложки. Включается импульсный лазер с длительностью импульса 5-20 нс, сфокусированный на мишени в пятно диаметром 0,1-1 мм, плотностью мощности излучения 108-109 Вт/см и с частотой следования импульсов 10-15 Гц. При этих характеристиках излучения лазера пленка напыляется со скоростью 20-40 нм/мин. После получения пленки необходимой толщины на разных сторонах подложки лазер отключается, камера наполняется воздухом и напыленная подложка извлекается из камеры после охлаждения печи. Проведенные исследования показали, что качество, морфология и электрофизические свойства полученных пленок соответствуют эпитаксиальному росту без микробрызг. Морфология поверхности пленок наблюдалась на туннельном и атомно-силовом микроскопе, а электрофизические свойства измерялись четырехзондовым методом и бесконтактным индуктивным методом.SrTi 3 , LaAlO substrates, polished on both sides, are fixed on a nichrome star-shaped holder normal to the target surface at a distance of 25-30 mm. The vacuum chamber is pumped to a pressure of 50-100 Pa, the furnace is turned on and the substrate is heated to a temperature of 800-840 ° C. Next, the mechanism for moving the rod is switched on by a permanent magnet connected to a stepper motor controlled by a computer that performs reciprocating movements by turning the substrate to the target on one or the other side. This mode allows you to spray homogeneous films on both sides of the substrate as the same thickness (the same time spent on the surface in front of the sprayed target) and different thicknesses (different time spent on the surfaces in front of the sprayed target). Moreover, by fixing the position of the surfaces in front of the sprayed target at different angles, it is possible to spray films with a given thickness distribution over the surface of the substrate. A pulsed laser with a pulse duration of 5-20 ns is focused on the target into a spot with a diameter of 0.1-1 mm, a radiation power density of 10 8 -10 9 W / cm and a pulse repetition rate of 10-15 Hz. With these characteristics of laser radiation, the film is sprayed at a speed of 20-40 nm / min. After obtaining a film of the required thickness on different sides of the substrate, the laser is turned off, the chamber is filled with air and the sprayed substrate is removed from the chamber after cooling the furnace. Studies have shown that the quality, morphology and electrophysical properties of the obtained films correspond to epitaxial growth without microspray. The surface morphology of the films was observed using a tunneling and atomic force microscope, and the electrophysical properties were measured by the four-probe method and the non-contact inductive method.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013120788/28A RU2539749C2 (en) | 2013-05-06 | 2013-05-06 | SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013120788/28A RU2539749C2 (en) | 2013-05-06 | 2013-05-06 | SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2013120788A RU2013120788A (en) | 2014-11-20 |
RU2539749C2 true RU2539749C2 (en) | 2015-01-27 |
Family
ID=53286725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013120788/28A RU2539749C2 (en) | 2013-05-06 | 2013-05-06 | SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2539749C2 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4124048A1 (en) * | 1991-07-19 | 1993-01-21 | Mueller Paul | JOSEPHSON CONTACTS IN HIGH TEMPERATURE SUPERLADERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
US5280013A (en) * | 1991-07-05 | 1994-01-18 | Conductus, Inc. | Method of preparing high temperature superconductor films on opposite sides of a substrate |
RU2189090C2 (en) * | 2000-09-28 | 2002-09-10 | Омский государственный университет | Method for generating multilayer structures on both sides of substrate |
RU2275714C1 (en) * | 2004-11-24 | 2006-04-27 | ГОУ ВПО "Омский государственный университет" | Method for building periodic microstructures around htsc films possessing josephson properties |
-
2013
- 2013-05-06 RU RU2013120788/28A patent/RU2539749C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5280013A (en) * | 1991-07-05 | 1994-01-18 | Conductus, Inc. | Method of preparing high temperature superconductor films on opposite sides of a substrate |
DE4124048A1 (en) * | 1991-07-19 | 1993-01-21 | Mueller Paul | JOSEPHSON CONTACTS IN HIGH TEMPERATURE SUPERLADERS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
RU2189090C2 (en) * | 2000-09-28 | 2002-09-10 | Омский государственный университет | Method for generating multilayer structures on both sides of substrate |
RU2275714C1 (en) * | 2004-11-24 | 2006-04-27 | ГОУ ВПО "Омский государственный университет" | Method for building periodic microstructures around htsc films possessing josephson properties |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2013120788A (en) | 2014-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7501145B2 (en) | High throughput continuous pulsed laser deposition process | |
US20210355576A1 (en) | Coating apparatus, process chamber, and method of coating a substrate and substrate coated with at least one material layer | |
WO2015109687A1 (en) | Pulse laser deposition system assisted by strong magnetic field | |
Rao | Pulsed laser deposition—Ablation mechanism and applications | |
TWI397595B (en) | Evaporation system | |
RU2539749C2 (en) | SIMULTANEOUS FORMING OF THIN YBa2Cu3O7-X FILMS ON TWO-SIDED DIELECTRIC SUBSTRATES | |
Kuppusami et al. | Status of pulsed laser deposition: challenges and opportunities | |
Singh et al. | Pulsed laser deposition of alumina coating for corrosion protection against liquid uranium | |
JP2010121205A (en) | Film deposition method and film deposition apparatus | |
Caruana et al. | Spontaneous growth of bismuth nanowires on a sputter-deposited thin bismuth film | |
Greer | Large-area commercial pulsed laser deposition | |
KR20140049296A (en) | Eddc flux pinning points formed using a hybrid sputtering device | |
Jiang et al. | Preparation of dense films of crystalline ZrO2 by intense pulsed‐electron‐beam ablation | |
Akkan et al. | Matrix shaped pulsed laser deposition: New approach to large area and homogeneous deposition | |
RU2503096C1 (en) | Apparatus and method of depositing superconducting layers | |
RU2189090C2 (en) | Method for generating multilayer structures on both sides of substrate | |
RU135638U1 (en) | DEVICE FOR PULSE LASER DEPOSITION OF NANOSTRUCTURED MATERIALS | |
JP2013122065A (en) | Method and apparatus for depositing functional thin film | |
Cancea et al. | Analysis of zirconia thin films grown by Pulsed Laser Deposition | |
RU2539911C2 (en) | METHOD FOR FORMATION OF SUPERCONDUCTING ULTRATHIN FILM YBa2Cu3O7-X ON DIELECTRIC SUBSTRATES | |
Kuzanyan | PLD of large area films onto substrate undergoing translational motion by mask method | |
US20210062326A1 (en) | Electron beam pvd endpoint detection and closed-loop process control systems | |
JP4593300B2 (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus for oxide superconducting wire | |
RU2380457C2 (en) | Cathode unit of electric arc evaporator | |
Jones et al. | Plasma diagnostics of hybrid magnetron sputtering and pulsed laser deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20150507 |