RU2450969C1 - Способ производства тетрахлорсилана - Google Patents

Способ производства тетрахлорсилана Download PDF

Info

Publication number
RU2450969C1
RU2450969C1 RU2010145050/05A RU2010145050A RU2450969C1 RU 2450969 C1 RU2450969 C1 RU 2450969C1 RU 2010145050/05 A RU2010145050/05 A RU 2010145050/05A RU 2010145050 A RU2010145050 A RU 2010145050A RU 2450969 C1 RU2450969 C1 RU 2450969C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon dioxide
amorphous silicon
chlorination
carbon
melt
Prior art date
Application number
RU2010145050/05A
Other languages
English (en)
Inventor
Анатолий Афанасьевич Щелконогов (RU)
Анатолий Афанасьевич Щелконогов
Максим Анатольевич Щелконогов (RU)
Максим Анатольевич Щелконогов
Николай Александрович Мальцев (RU)
Николай Александрович Мальцев
Александр Николаевич Мальцев (RU)
Александр Николаевич Мальцев
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Русский магний"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Русский магний" filed Critical Открытое акционерное общество "Русский магний"
Priority to RU2010145050/05A priority Critical patent/RU2450969C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2450969C1 publication Critical patent/RU2450969C1/ru

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу производства тетрахлорсилана. Способ включает хлорирование аморфного диоксида кремния в присутствии углерода, охлаждение и конденсацию паров. Хлорирование аморфного диоксида кремния осуществляют в расплавленной среде хлоридов калия и натрия. Аморфный диоксид кремния является продуктом выщелачивания минерала серпентинит соляной кислотой. Жидкий тетрахлорсилан направляют на очистку от примесей. Обеспечивается равномерность распределения тепла в аппарате хлорирования и снижается содержание примесей AlCl3 и FeCl3 в конечном продукте. 11 з.п. ф-лы, 1 пр.

Description

Тетрахлорсилан (ТХС) - тетрахлорид кремния, химическая формула SiCl4, является важным продуктом для производства полупроводниковых и нанодисперсных материалов, волоконной оптики и для многих отраслей химической промышленности. Методом ректификации и освоенных других приемов ТХС очищается до содержания примесей в пределах 10-6-10-8 вес.% каждой.
Возможность получения продукта высокой степени чистоты явилась основной причиной использования его в указанных отраслях промышленности.
В настоящее время ТХС получают хлорированием кускового металлического кремния или его сплавов, например ферросилиция, при температурах выше 600°C в шахтных или горизонтальных печах (А.А.Фурман. Неорганические хлориды. Москва. Химия. 1980. С.180-205).
Недостатки данного способа производства:
1. Высокая стоимость ферросилиция, связанная со значительным расходом электроэнергии ~15000 кВт·час/т сплава.
2. При хлорировании кускового сплава выделяется большое количество тепла, отвести которое охлаждением наружной стенки реактора водой невозможно. Вынос тепла парогазовой смесью, образующейся при хлорировании ферросилиция, создаст серьезные проблемы для последующего охлаждения и конденсации хлоридов кремния и железа.
Поддержание температуры процесса в интервале 600-800°C возможно только дозированным расходом хлора. Это обстоятельство обуславливает низкую производительность реакторов. В производственном цехе, выпускающем 12-15 тыс. т/год тетрахлорсилана, устанавливается несколько десятков аппаратов хлорирования.
В течение почти 150 лет (еще со времен Д.И.Менделеева) предпринимались попытки использовать для производства тетрахлорсилана природный диоксид кремния. Хлорирование в насыпном слое диоксида кремния с восстановителем, в качестве которого используется углерод, идет по реакции:
SiO2+2Cl2+2C=SiCl4+2CO
Использование природного сырья для производства ТХС теоретически возможно. Однако, по ряду причин, данный процесс не нашел промышленного применения, основные из которых:
1. Реакция хлорирования диоксида кремния с восстановителем идет с малым экзотермическим эффектом. Тепла реакции не хватает для разогрева хлора, шихтовых материалов и компенсации тепловых потерь реактора.
Природный диоксид кремния с заметной скоростью начинает хлорироваться при температурах выше 1200°C. При таких параметрах возникают серьезные проблемы с конструкцией реактора. Поскольку тетрахлорсилан является прекрасным хлорирующим агентом, невозможно подобрать огнеупор для изготовления аппарата.
2. Другая проблема - охлаждение и конденсация продуктов хлорирования парогазовой смеси, имеющей температуру в пределах 1200-1500°C.
Сложности освоения технологии и аппаратуры для производства тетрахлорсилана с использованием в качестве сырья природного диоксида кремния хорошо прослеживаются в патенте США №3094389.
Суть изобретения
Природный диоксид кремния, содержащий не менее 95 вес.% SiOz, лучше 99%, желательно промыть для удаления органических примесей, хорошо просушить и измельчить до крупности -270 - -325 меш (<50 мкм).
Измельченный материал потоком смеси газов Cl2+CO форсункой вводят в реактор. Соотношение Cl2:CO=1:1. Для разогрева реагентов и поддержания температуры процесса в пределах 2200-2800°F (1204-1577°C) вводят дополнительное количество окиси углерода и кислород (возможен воздух). Тепло выделяется за счет реакции 2CO+O2=2CO2.
Как вариант, в качестве хлорирующего агента авторы предлагают использовать фосген. В этом случае должен быть увеличен расход окиси углерода и кислорода. Для создания факела с температурой 2200-2800°F, как вариант, предлагается использовать плазменную форсунку.
Стадия подготовки сырья легко выполнима. Однако высокая температура процесса (1200-1500°C), большое разбавление продуктов реакции инертными газами создают серьезные проблемы для охлаждения, конденсации и очистки тетрахлорсилана.
С учетом изложенного трудно ожидать, что стоимость конечного продукта, полученного высокотемпературным хлорированием природного кремния, будет значительно ниже, чем при использовании ферросилиция.
Наиболее близким из известных аналогов по технической сущности и достигаемому результату является способ получения тетрахлорида кремния - тетрахлорсилана (патент ВОИС 2007129903).
Автор предлагает способ получения указанного продукта реакцией тонкоизмельченного и/или аморфного диоксида кремния с хлором в присутствии углерода и донора энергии, отличающийся тем, что а) используемый диоксид кремния имеет тонкоизмельченную и/или аморфную структуру; б) донором энергии является металлический кремний или сплав кремния, такой как ферросилиций или силицид кальция. В качестве сырья, содержащего аморфный диоксид кремния, используется:
- Зола от сжигания рисовой шелухи или соломы.
- Диоксид кремния, полученный при выщелачивании силикатов кальция или магния соляной кислотой.
- Пыль SiO2 от электрохимического процесса получения кремния.
- Природные продукты, такие как диатомитовая земля и кизельгур.
Донор энергии: кремний, ферросилиций или силицид кальция в количестве 2-90%, предпочтительно 5-20%. Размер частиц менее 3 мм, предпочтительно менее 1,5 мм. Молярное соотношение SiO2:C=1:2,5, предпочтительно 1:1,18. Измельченные до определенной крупности компоненты шихты усредняются, и с добавлением ~20 вес.% воды формуются в виде гранул 0 5 мм, L<10 мм, которые сушат при 200°C. Подготовленные таким образом гранулы загружают в реактор и разогревают до 350°C. При такой температуре насыпной слой начинают обрабатывать хлором. После начала реакции хлорирования нагрев прекращают, и далее процесс продолжается экзотермически в самоподдерживающемся режиме при 1050°C.
При желании максимально «застолбить патентное поле» автор не учитывает важные особенности производства тетрахлорида кремния - тетрахлорсилана из различных видов сырья.
Наиболее существенные недостатки данного аналога:
1. При хлорировании металлического кремния или ферросилиция, используемых в качестве доноров энергии при 325-350°C, образуется около 6,5-10% Si2Cl6 и Si3Cl8. Для исключения их образования температуры процесса хлорирования должны быть выше 600°С (А.А.Фурман. Неорганические хлориды. Москва. Химия. 1980. С.180-205).
2. Известно, что аморфный диоксид кремния прекрасно хлорируется при температуре ~850°С, в то время как природный песок, содержащий 95-99 вес.% SiO2, взаимодействует с хлором при 1200-1500°C (патент США №3067012). Значительная разница температуры хлорирования указанных видов кремниевого сырья должна учитываться технологией и аппаратурным оформлением. Использование сырья с различной хлорирующей способностью совмещать в один технологический процесс, с нашей точки зрения, нецелесообразно. Это касается и пыли SiO2, образующейся в процессе производства металлического кремния или ферросилиция. Последняя представлена в форме кристобалита, и с заметной скоростью хлорируется при >1200°C.
3. Процесс сушки гранул авторы рекомендуют проводить при 200°C.
Известно, что в просушенном при 105°C аморфном кремнеземе содержится 8-10 вес.% H2O, часть которого представлена сорбированной влагой. Последняя из аморфного кремнезема удаляется при 115°C. Оставшееся количество влаги 6-8% находится в виде гидроксильных групп SiOH (P.Айлер. Химия кремнезема. Москва. Мир. 1982. Т.2. С.874). При 200°C в гранулах содержится около 6% гидроксильных групп. Хлорирование такой шихты при температуре >350°C сопровождается реакциями:
H2O+C+Cl2→CO+2HCl
SiCl4+H2O→Cl3SiOH+HCl
Как следствие, - потери хлора, углерода и разбавление парогазовой смеси.
4. В промышленном аппарате хлорирования при слое шихты 3,5÷5,0 м гранулы (брикеты) должны иметь механическую прочность. С этой целью технология должна предусматривать операцию коксования шихты при 800-850°C.
5. При хлорировании в насыпном слое оксидного сырья с добавками металлического кремния или ферросилиция, доноров энергии, невозможно создать легко управляемый, высокопроизводительный аппарат, имеющий единичную мощность, например, 50-100 т SiCl4 в сутки.
6. Хлорирование оксидного сырья в насыпном слое протекает по реакции:
7. SiO2+2Cl2+2C=SiCl2+2CO. Связано это с тем, что образующаяся двуокись углерода SiO2+C+2Cl2=SiCl4+CO2, проходя через слой углеродсодержащей шихты, восстанавливается до окиси по реакции: CO2+C=2CO (реакция Будуара). Как результат, - расход углерода увеличивается в два раза и на 50% снижается парциальная упругость паров SiCl4, что требует дополнительного расхода энергии для конденсации.
8. Непонятно из каких соображений автор рекомендует мольное отношение SiO:C=1:2,5, предпочтительно 1:1,18. Для насыпного слоя оно должно быть 1:2, а весовое 1:0,4. На практике расход углерода берется с 5% избытком, т.е. мольное отношение SiO2:C=1:2,1, а весовое 1:0,42.
Технической задачей данного изобретения является создание технологии, обеспечивающей возможность организации крупномасштабного производства тетрахлорсилана, себестоимость которого была бы значительно ниже аналогичного продукта, получаемого хлорированием диоксида кремния с добавками металлического кремния или ферросилиция.
Выполнение поставленной задачи обеспечивается совокупностью следующих технических решений:
- Использованием в качестве сырья остатка от выщелачивания минерала серпентинит соляной кислотой, запасы которого превышают 4,5 млрд т и являются отходами производства асбеста. Операция выщелачивания осуществляется с целью получения раствора хлористого магния - исходного продукта для производства мелаллического магния и его оксида. Остаток содержит, вес.%: SiO2=88÷90; H2O=6÷8; Σ Fe2O3, Al2O3, MgO≈4. Гранулометрический состав +0,2÷-0,5 мм. Диоксид кремния в данном продукте практически полностью представлен аморфной структурой.
- Подготовкой компонентов шихты, включающей:
а) Измельчение остатка до крупности 0,08÷0,12 мм и углерода (пековый кокс или древесный уголь) до 0,1÷0,14 мм. Большая крупность восстановителя связана с меньшим его удельный весом в сравнении с остатком. Указанный гранулометрический состав обеспечивает минимальный вынос шихты потоком газов из реакторов, что является важным условием для высокопроизводительного процесса.
б) Созданием оптимального содержания в диоксиде кремния гидроксильной группы SiOH в пределах 1,3÷2%, обеспечивающей высокую скорость процесса хлорирования. При содержании SiOH в остатке более 2% возрастают потери хлора и углерода, при менее 1,3% снижается каталитическое действие гидроксильной группы. Данная закономерность определена экспериментально. Необходимое содержание SiOH создается нагревом материала в пределах 650-700°C. При 650°C диоксид кремния содержит ≈2% SiOH, при 700°C≈1,3%.
- Использование в качестве среды для хлорирования диоксида кремния расплавленных хлоридов калия и натрия. Температура плавления KCl - 770°C, NaCl - 800°C. Смесь этих хлоридов, взятых в мольном соотношении 1:1, имеет температуру плавления 710°C и обеспечивает устойчивую работу расплавленной ванны при 850°C. Низкая упругость паров хлоридов калия и натрия (≈3 мм рт. ст.) позволяет до минимума снизить их вынос из реактора.
- Решение вопроса подвода тепловой энергии в технологический процесс, позволяющее исключить добавки металлического кремния или ферросилиция. В предлагаемом способе производства тетрахлорсилана хлор подается в нижнюю зону реактора и, поднимаясь в жидкой ванне, нагревается до температуры расплава (850-900°C), шихта загружается сверху и циркулирующим расплавом распределяется в объеме ванны, нагреваясь также до 850°C-900°C. Расплав в данном случае является "донором" энергии для процесса. Обладая электропроводностью, к расплаву электродами подводится переменный ток. Изменением напряжения и соответственной силой тока плавно регулируется подвод энергии в широком диапазоне производительности реактора. Следует отметить, что освоение аппаратов повышенной производительности (50-100 т/сутки) до минимума снизит удельный расход энергии на тонну продукта.
- Созданием условий для полного использования хлора в технологическом процессе, основные из них:
а) Организация непрерывной во времени загрузки диоксида кремния и углерода, обеспечивающая концентрацию (содержание) в расплаве, вес.%: SiO2=1÷3; C=3÷5. Большее содержание углерода по сравнению с диоксидом кремния связано с необходимостью максимально возможно распределить его (плотность = 1,3 г/см3) в расплавленной ванне хлоридов (плотность = 1,65 г/см3).
б) Весовым соотношением SiO2:C в пределах 1:0,23 при использовании в качестве восстановителя пекового кокса и 1:0,27 древесного угля.
в) Организацией циркуляции расплава по высоте ванны, обеспечивающей контакт диоксида кремния и углерода с хлором, и исключающей образование на поверхности ванны "шапки" из углерода. Последнее является причиной восстановления двуокиси углерода до окиси по реакции:
CO2+C=2CO
Необходимая циркуляция расплава создается подачей хлора в нижнюю часть реактора и его конструкцией. Продуктом хлорирования диоксида кремния в расплавленной ванне является парогазовая смесь, основные составляющие которой: пары тетрахлорсилана и двуокись углерода, незначительное количество окиси углерода, хлоридов железа, алюминия и тонкодисперсная пыль шихты, вынесенная из реактора потоком газов. При соблюдении параметров процесса: содержание углерода, соотношение SiO2:C и циркуляции расплава в реакторе, объемное соотношение CO2:CO в парогазовой смеси - продуктах реакции составляет не менее 10:1. Данное обстоятельство важно для конденсации паров тетрахлорсилана, поскольку при восстановлении углеродом 1 молекулы CO2 образуется 2 молекулы CO. В результате этого - снижение парциальной упругости паров тетрахлорсилана и, как следствие, дополнительные затраты энергии для конденсации.
- Следует особо отметить факт того, что расплавленные хлориды солей являются не только средой для хлорирования оксидного сырья, но и сами активно участвуют в процессе. Оксиды железа и алюминия, содержащиеся в остатке выщелачивания (Σ Al2O3+Fe2O3=2,3÷2,7%), хлорируются с образованием FeCl2 и AlCl3. Температура перехода их в пар 319 и 180,3°C соответственно. При 850°C в расплавленной ванне этих хлоридов не должно быть. Однако за счет образования с хлоридом калия комплексных солей типа KFeCl4 и KAlCl4 в расплаве задерживается ≈45-50% хлоридов железа и алюминия. Данное обстоятельство является важным фактором для производства продуктов высокой степени чистоты.
Расплавленные среды успешно используются в металлургии магния и титана. Хлорирование в жидкой ванне резко улучшает массо- и теплообмен в реакторе, обеспечивает равномерность парогазового потока, исключает возможность спекания хлорируемых частиц и тем самым способствует интенсификации процесса. Б.Г.Коршунов, С.Л.Стефанюк «Введение в хлорную металлургию редких элементов». Москва. «Металлургия». 1970 г., стр.106.
Пример способа производства тетрахлорсилана
В качестве сырья используется остаток от выщелачивания серпентинита состава (высушенного при 115°C), вес.%: SiO2 - 89,2; H2O - 6,7; сумма окислов магния, железа и алюминия ~4,1. Измельченный до +0,08÷-0,12 мм материал в токе аргона нагрели и выдержали в течение часа при температуре 650°C. Содержание влаги, входящей в состав гидроксильной группы SiOH, в нагретом продукте составило 1,48%. Восстановителем служил уголь березовый марки «А» крупностью +0,1÷-0,14 мм. Для приготовления расплава использовали хлориды калия и натрия, взятые в мольном соотношении 1:1. Хлорирование диоксида кремния в расплаве проводили в реакторе из кварцевого стекла. Аппарат имел электроподогрев, устройство для создания циркуляции расплава и подачи хлора. При температуре 800°C в реактор залили 6500 г расплава. Высота жидкой ванны при подаче 30 л/ч аргона составила 550 мм и обеспечила нагрев газа до температуры расплава. Для создания необходимого соотношения компонентов в реактор первоначально загрузили 250 г диоксида кремния и 300 г угля. Концентрация SiO2 в расплавленной ванне 3,16% и углерода 4,17%. При температуре 850°C подали хлор с расходом 35 л/ч. В последующее время в реактор порциями по 60-80 г/ч загружали подготовленную шихту с весовым соотношением SiO2:C=1:0,27. Это позволило поддерживать содержание двуокиси кремния и углерода в пределах 1-3% и 3-5% соответственно. Температура процесса регулировалась автоматически в диапазоне 850-900°C. Через каждые 4 ч отбирали пробы расплава для определения в нем двуокиси кремния и углерода. Это позволило в течение 42 часов непрерывно вести процесс в заданных параметрах. Из реактора продукты хлорирования в виде парогазовой смеси (ПГС), содержащей SiCl4, AlCl3, FeCl3, CO2 и CO, поступали в аппараты охлаждения и улавливания хлоридов алюминия и железа. Пары тетрахлорсилана при температуре минус 35°C сконденсировали в виде жидкого продукта. Газы после конденсации тетрахлорсилана содержат, об.%: CO2 - 43,4; CO - 4,1; O2 - 10,9; N2 - 40,5; Cl2 - «следы» (<0,01%).
Загружено в процесс 2107 г сырья, содержащего 1880 г SiO2. Получено 5120 г тетрахлорсилана. Извлечение кремния в продукт составило ≈94,5%. Слито расплава из реактора 7120 г. После очистки получен тетрахлорсилан, содержащий Fe; Mg; Ni; Cr; Al; Mn; V в пределах 10-6÷10-8 вес.% каждой примеси.
Список использованных источников
1. А.А. Фурман. / Неорганические хлориды. // Москва. Химия. 1980. С.180-205.
2. Патент США №3094389. Получение тетрахлорида кремния. Заявл. 15.12.1959 г. Опубл. 18.06.1963 г.
3. Патент ВОИС 2007129903. C01B 33/107, C01B 33/00. Способ получения тетрахлорида кремния. Заявл. 04.05.2007 г. Опубл. 15.11.2007 г.
4. Патент США №3067012. Способ получения тетрахлорида кремния в расплавленной солевой ванне. Заявл. 15.12.1959 г. Опубл. 04.12.1962 г.
5. Р.Айлер. / Химия кремнезема. // Москва. Мир. 1982. Т.2. С.874.
6. Б.Г.Коршунов, С.Л.Стефанюк «Введение в хлорную металлургию редких элементов» Москва. «Металлургия» 1970 г.

Claims (12)

1. Способ производства тетрахлорсилана, включающий хлорирование в присутствии углерода аморфного диоксида кремния, охлаждение и конденсацию паров, очистку конечного продукта от примесей, отличающийся тем, что хлорирование аморфного диоксида кремния осуществляют в расплавленной среде хлоридов калия и натрия.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве исходного сырья используют остаток от выщелачивания минерала серпентинит, являющийся отходом производства асбеста, соляной кислотой.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что аморфный диоксид кремния доизмельчается до крупности 0,08-0,12 мм, а углерод - до 0,1-0,14 мм.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью повышения скорости хлорирования, аморфный диоксид кремния содержит 1,3-2% гидроксильной группы SiOH, являющейся катализатором процесса.
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что для создания необходимого содержания гидроксильной группы SiOH аморфный диоксид кремния нагревают до 650-700°С.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что хлорирование аморфного диоксида кремния осуществляют в расплавленной среде хлоридов калия и натрия при температуре 850-900°С.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что, с целью снижения температуры плавления смеси солей, последние берут в мольном соотношении KCl:NaCl=1:1.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что донором энергии для хлорирования аморфного диоксида кремния является расплав, нагреваемый переменным электрическим током.
9. Способ по п.6, отличающийся тем, что, с целью полного использования хлора, в расплаве постоянно поддерживается концентрация диоксида кремния в пределах 1-3 вес.%, а углерода - 3÷5%.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что соотношение SiO2:C должно поддерживаться в пределах 1:0,23-0,27.
11. Способ по п.6, отличающийся тем, что при хлорировании аморфного диоксида кремния в расплаве солей соотношение CO2:CO в продуктах реакции составляет не менее 10:1.
12. Способ по п.1, отличающийся тем, что за счет образования комплексных солей типа KAlCl4 и KFeCl4 в расплаве задерживается 45-50% хлоридов алюминия и железа.
RU2010145050/05A 2010-11-08 2010-11-08 Способ производства тетрахлорсилана RU2450969C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010145050/05A RU2450969C1 (ru) 2010-11-08 2010-11-08 Способ производства тетрахлорсилана

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010145050/05A RU2450969C1 (ru) 2010-11-08 2010-11-08 Способ производства тетрахлорсилана

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2450969C1 true RU2450969C1 (ru) 2012-05-20

Family

ID=46230702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010145050/05A RU2450969C1 (ru) 2010-11-08 2010-11-08 Способ производства тетрахлорсилана

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2450969C1 (ru)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0077138A2 (en) * 1981-09-29 1983-04-20 Ube Industries, Ltd. Production process of silion tetrachloride
RU2241670C1 (ru) * 2003-07-21 2004-12-10 Открытое Акционерное Общество "Российский научно-исследовательский и проектный институт титана и магния" (ОАО "РИТМ") Способ переработки серпентинита
WO2007129903A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Norsk Hydro Asa Method for the manufacture of silicon tetrachloride

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0077138A2 (en) * 1981-09-29 1983-04-20 Ube Industries, Ltd. Production process of silion tetrachloride
RU2241670C1 (ru) * 2003-07-21 2004-12-10 Открытое Акционерное Общество "Российский научно-исследовательский и проектный институт титана и магния" (ОАО "РИТМ") Способ переработки серпентинита
WO2007129903A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Norsk Hydro Asa Method for the manufacture of silicon tetrachloride

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5755150B2 (ja) ポリシリコンの製造方法および四塩化ケイ素の製造方法
PT1761353E (pt) Redução metalotérmica de óxidos de metais refractários
CA2674121C (en) Carbothermic processes
KR100939508B1 (ko) 원소 할로겐화물의 제조 방법
US20010047614A1 (en) Treatment of solid carbonaceous material
KR900000446B1 (ko) 산화철의 제조방법
JP2002540046A (ja) 塩溶融物製造のための装置および方法ならびに該塩の使用
US8974761B2 (en) Methods for producing silane
WO2008067614A1 (en) Separation method for metal recovery
Gao et al. Recycle of silicon slurry cutting waste to prepare high purity SiC by salt-assisted carbothermic reduction
US20110176986A1 (en) Method and a reactor for production of high-purity silicon
US9487406B2 (en) Systems for producing silane
TW201221685A (en) Production of polycrystalline silicon in substantially closed-loop processes and systems
RU2450969C1 (ru) Способ производства тетрахлорсилана
RU2629299C2 (ru) Повторная переработка материалов диборида титана
WO2018128708A1 (en) Refining process for producing solar silicon, silicon carbide, high-purity graphite and hollow silica microspheres
US2837420A (en) Method of producing chromium
Deng et al. Chlorination Behavior of Low-Grade Titanium Slag in AlCl 3-NaCl Molten Salt
RU2373147C1 (ru) Способ получения хлорсиланов, способ хлорирования содержащего двуокись кремния сырья и способ конверсии тетрахлорсилана в трихлорсилан
JP2002534602A (ja) アルミニウムのスクラップを冷却剤として使用する炭素熱によるアルミニウムの製造
JPS589050B2 (ja) エンカダイ2テツニヨル イルメナイトノセイセイ
CN103384640B (zh) 用于制备硅烷的方法和系统
RU2637690C1 (ru) Способ получения хлорсиланов из аморфного кремнезема для производства кремния высокой чистоты
CA1117773A (en) Processing metal chlorides
Shamsuddin Role of Halides in Extraction of Metals

Legal Events

Date Code Title Description
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20170620

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20171005

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20180201

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20191109

NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20210421