RU2084087C1 - Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат - Google Patents

Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат Download PDF

Info

Publication number
RU2084087C1
RU2084087C1 RU93030898A RU93030898A RU2084087C1 RU 2084087 C1 RU2084087 C1 RU 2084087C1 RU 93030898 A RU93030898 A RU 93030898A RU 93030898 A RU93030898 A RU 93030898A RU 2084087 C1 RU2084087 C1 RU 2084087C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
copper
solution
holes
hypophosphite
heat treatment
Prior art date
Application number
RU93030898A
Other languages
English (en)
Other versions
RU93030898A (ru
Inventor
О.И. Ломовский
Е.И. Фадеев
В.Е. Фадеев
Original Assignee
Ломовский Олег Иванович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ломовский Олег Иванович filed Critical Ломовский Олег Иванович
Priority to RU93030898A priority Critical patent/RU2084087C1/ru
Publication of RU93030898A publication Critical patent/RU93030898A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2084087C1 publication Critical patent/RU2084087C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и может быть использовано в производстве электро- и радиоаппаратуры. Сущность изобретения: при металлизации отверстий печатных плат проводят активирование фольгированного диэлектрического основания с отверстиями в растворе на основе гипофосфита меди, термообработку активированных заготовок при T = 100 - 135oC в течение 7 - 15 мин, промывку и гальваническое наращивание слоя металла. В раствор для активирования дополнительно вводят гипофосфит кальция до пересыщения раствора и водный раствор 23%-ного 1,4 бутандиола в пределах 0,22 - 0,37 мл на один грамм меди в растворе, затем после термической обработки проводят оплавление токопроводящего слоя при T = 140 - 170oC в течение 4 - 8 мин. 2 табл.

Description

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и может быть использовано в производстве электро- и радиоаппаратуры.
Известен способ металлизации отверстий печатных плат, включающий сенсибилизацию и активацию поверхности заготовок в растворах хлористого олова и хлористого палладия с последующим химическим осаждением меди и гальваническим наращиванием слоя предварительной химической металлизации до требуемой толщины (авт.св. N 635631).
Способ длителен, трудоемок и связан с высоким расходом дорогостоящих и дефицитных реагентов, в частности соли драгметалла палладия.
Известен способ беспалладиевой металлизации отверстий печатных плат, включающий активирование фольгированного диэлектрического основания с отверстиями в растворе на основе гипофосфита меди, термообработку активированных заготовок при температуре 100 135oC в течение 7 15 мин и последующее гальваническое наращивание меди на слой предварительной металлизации (авт. св. N 921124).
Слой предварительной металлизации, представляющий собой смесь продуктов термического разложения гипофосфита меди, образуется на всей активированной раствором поверхности как на диэлектрике в отверстиях печатной платы, так и на медной фольге. В качестве термочувствительной фосфоросодержащей соли меди используют гипофосфит меди.
Недостатком известного способа является недостаточно высокое качество токопроводящего слоя по внешнему виду из-за шероховатости его после гальванического меднения. Покрытие меди не соответствует ГОСТу 9.301.86, а наличие непокрытых участков на стенках отверстий приводит к нестабильному проценту выхода годных печатных плат.
Объясняется это физико-химическими свойствами раствора при операциях смачивания и термической обработки заготовок. В процессе смачивания заготовок фольгированного диэлектрика из-за травления медной фольги и окисления гипофосфита нарушается молярное соотношение основного компонента раствора фосфорсодержащей соли гипофосфита меди.
При молярном соотношении к меди меньше двух происходит образование в растворе солей типа Cu(OH)2 и Cu(NH4)OH, которые при термической обработке заготовок образуют непроводящие окислы меди, а после гальванического меднения образуются неметаллизированные участки на медном покрытии стенок отверстий. Процент выхода годных заготовок при разных способах электрохимической металлизации отверстий печатных плат показан в табл.1.
Из данных табл.1 следует, что при активировании в растворе без гипосфосфита кальция после активирования 10 заготовок (поверхность 1 заготовки 12,7 дм2) весовое соотношение ионов гипосфосфита к ионам меди снижается с 2 до 1,92. При активировании еще 10 заготовок соотношение снижается до 1,78, а выход годных до 80% при активировании еще 10 заготовок соотношение снижается до 1,62, а выход годных до 70%
При активировании в растворе, пересыщенном гипофосфитом кальция, 30 заготовок, соотношение снижается с 2,51 до 2,43, а выход годных 100%
В процессе термической обработки заготовки, смоченной водным раствором термочувствительной фосфорсодержащей соли меди, при высыхании жидкости силами поверхностного натяжения, в стремлении жидкости к сокращению до наименьшей величины, на поверхности стенок отверстий образуется слой высохшей термочувствительной соли меди в виде сферических капель и наплывов, а затем при термическом разложении термочувствительной соли образуется токопроводящий слой из металлических частиц меди, воспроизводящий поверхность высохшей соли в виде наплывов и капель, создавая шероховатую поверхность на стенках отверстий заготовок. Кроме того, очистка поверхности после термообработки малоэффективна. После промывки поверхности и электрохимического меднения на металлизированной поверхности проявляется шероховатость в виде посторонних включений от продуктов термолиза.
Цель изобретения повышение качества токопроводящего слоя по внешнему виду и повышение процента выхода годных заготовок при металлизации отверстий печатных плат.
Поставленная цель достигается тем, что в известный способ металлизации отверстий печатных плат, включающий активирование фольгированного диэлектрического основания с отверстиями в растворе на основе гипофосфита меди, термообработку активированных заготовок при температуре 100 135oC в течение 7 15 мин, промывку и гальваническое наращивание слоя металла, в раствор для активирования заготовки вводят гипофосфит кальция до пересыщения раствора, а также дополнительно вводят в раствор 1,4-бутиндиола в пределах 0,22 0,37 мл/г меди в растворе в пересчете на 22%-ный 1,4-бутиндиол, затем после термической обработки проводят оплавление токопроводящего слоя при T 140 175oC в течение 4 8 мин. Введение в раствор дополнительного донора гипофосфита гипофосфита кальция обеспечивает молярное соотношение гипофосфита меди больше двух и исключает образование оксидов меди в растворе. Введение в раствор длинноцепочного вещества 1,4-бутиндиола изменяет кривой угол смачивания медных частиц, образующихся при термообработке за счет сорбции мономолекулярного слоя на ее поверхности, а при дополнительной операции оплавления частицы сползают друг по другу и укладываются равномерным плотным слоем на поверхности стенок отверстия. Таким образом, за счет подвижности частиц меди образуется гладкая поверхность токопроводящего слоя. После гальванического меднения покрытие меди на поверхности стенок отверстий гладкое и равномерное по виду и соответствует ГОСТу 9.301.86, а выход годных заготовок на операции металлизации стенок отверстий равен 100% Очистка поверхности от посторонних частиц (продуктов термолиза) достигается анодной обработкой в электролите ортофосфорной кислоты при начальной плотности тока 4 5 А/дм2 в течение 4 5 мин.
Результаты по определению количества бутиндиола, необходимого для образования монослоя на поверхности металлических частиц меди при их образовании на операции термообработки и последующего оплавления токопроводящего слоя, даны в графике зависимости содержания 1,4-бутиндиола от содержания меди в растворе, приведенном в табл.2.
Из данных табл.2 видно, что при содержании 1,4-бутиндиола в растворе в пределах от 0,22 мл/г меди до 0,37 мл/г меди в растворе покрытие гладкое, ниже 0,22 мл/г меди в растворе покрытие шероховатое, а выше 0,37 мл/г меди в центральной части отверстий кольцеобразные неметаллизированные участки, в результате сползания частиц меди при оплавлении периферии отверстий.
Пример. Заготовку фольгированного диэлектрика с отверстиями для металлизации обрабатывают 3 мин в растворе, содержащем, г/л:
Серная кислота 100
Вещество OС-20 5,
промывают в горячей, затем в холодной водах, после стекания воды с поверхности заготовки ее смачивают 1,5 мин в растворе, содержащем, моль/л:
Гипофосфит меди (металлической меди 39,0 г/л) 0,6
Аммиак 2,45
Гипофосфит кальция (до пересыщения раствора) 0,04 0,15
1,4-бутиндиол (22% -ный) 10 мл/л, после стекания раствора с поверхности заготовку подвергают термической обработке при температуре 125oC в течение 10 мин, затем производят дополнительную операцию оплавления при температуре 150oC в течение 5 мин, а после охлаждения заготовки производят очистку поверхности путем анодной обработки при начальной плотности тока 4,5 А/дм2 в течение 3 мин в электролите следующего состава, г/л:
Ортофосфорная кислота 1260
Изопропиловый спирт 85
После промывки в ванне-сборнике и в проточной холодной воде заготовку меднят при плотности тока 3 А/дм2 в течение 10 мин в электролите следующего состава, г/л:
Сернокислая медь 220
Серная кислота 60
Хлорид натрия 0,05
Блескообразующая добавка ЛТИ 0,25
Вещество ОС-20 0,5
После меднения заготовку промывают в ванне-сборнике и в проточной холодной воде, сушат на воздухе при комнатной температуре и проводят контроль качества металлизации отверстий стенок печатных плат.
Дальнейшее изготовление печатной платы ведут по известной схеме изготовления печатных плат по базовой технологии.

Claims (1)

  1. Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат, включающий активирование диэлектрического основания с отверстиями в растворе на основе гипофосфита меди, термообработку, очистку и промывку основания и последующее гальваническое наращивание слоя металла, отличающийся тем, что для активирования используют раствор, дополнительно содержащий гипофосфит кальция в количестве, обеспечивающем получение пересыщенного раствора и водный раствор 22%-ного 1,4-бутиндиола в пределах 0,22 0,37 мл на 1 г меди в растворе, а после термообработки проводят оплавление полученного слоя меди при 140 170oС в течение 4 8 мин, а очистку поверхности ведут анодной обработкой.
RU93030898A 1993-06-15 1993-06-15 Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат RU2084087C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93030898A RU2084087C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93030898A RU2084087C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93030898A RU93030898A (ru) 1996-10-10
RU2084087C1 true RU2084087C1 (ru) 1997-07-10

Family

ID=20143100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93030898A RU2084087C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2084087C1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Авторское свидетельство СССР N 635631, кл. H 05 K 3/02, 1978. 2. Авторское свидетельство СССР N 921124, кл. H 05 K 3/18, 1982. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU921124A1 (ru) Способ металлизации отверстий печатных плат
KR100546989B1 (ko) 구리층을 일렉트로리틱 디포지트하는 방법
KR100188481B1 (ko) 유전기질과 도금기질을 직접 전기도금 하는 방법
JPS62211384A (ja) 機械的性質の優れた銅被膜の形成方法
JPH0335394B2 (ru)
CA2102240A1 (en) Method for selectively coating non-conductors with carbon particles and use of copper containing solutions therein
US4144118A (en) Method of providing printed circuits
KR950010242B1 (ko) 비전도체의 금속화 방법
IE50821B1 (en) Process for the selective chemical deposition and/or electrodeposition of metal coatings,especially for the production of printed circuits
RU2084087C1 (ru) Способ электрохимической металлизации отверстий печатных плат
US5206052A (en) Electroless plating process
KR100597466B1 (ko) 전도성섬유의 치환도금방법
KR100294394B1 (ko) 인쇄회로기판용전해동박및그의제조방법
KR100816667B1 (ko) 유전체 표면에 전도체 층을 형성시키는 방법
KR100295144B1 (ko) 비전도성기재의표면에전도성금속을도금하는방법및이를위한촉진용액
RU2323555C1 (ru) Способ изготовления печатной платы
JP4231936B2 (ja) Sn被覆銅材の製法
KR970005444B1 (ko) 목재의 전기도금 방법
DE3543615C2 (ru)
US5254156A (en) Aqueous solution for activation accelerating treatment
JPH0680198B2 (ja) 銀めつき製品の後処理方法
US6524490B1 (en) Method for electroless copper deposition using a hypophosphite reducing agent
RU2153784C1 (ru) Способ металлизации отверстий печатных плат
SU1206348A1 (ru) Способ подготовки пластмассовой поверхности под гальваническое покрытие
SU921127A1 (ru) Раствор дл электрохимической металлизации диэлектриков