RU2036538C1 - Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией - Google Patents
Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией Download PDFInfo
- Publication number
- RU2036538C1 RU2036538C1 SU904845306A SU4845306A RU2036538C1 RU 2036538 C1 RU2036538 C1 RU 2036538C1 SU 904845306 A SU904845306 A SU 904845306A SU 4845306 A SU4845306 A SU 4845306A RU 2036538 C1 RU2036538 C1 RU 2036538C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- semiconductor devices
- protective coating
- sealing
- curing
- crystals
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
- H01L2224/8592—Applying permanent coating, e.g. protective coating
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Назначение: микроэлектроника. Сущность изобретения: в качестве защитного покрытия кристалла используют компаунд, состоящий из роливсана и ароматических растворителей. Отверждение компаунда осуществляют при 120 - 250°С в течение 5 - 7 ч. 1 з.п.ф-лы, 2 ил.
Description
Изобретение относится к электронной технике, в частности к технологии изготовления полупроводниковых приборов, к защите поверхности кристалла с p-n-переходами и активными элементами от воздействия окружающей среды.
Известны различные способы изготовления полупроводниковых приборов (Черняев В. Н. Технология производства интегральных схем. М. Энергия, 1977, с. 359-362; Тилл У. Интегральные схемы. Материалы, приборы, изготовления. М. Мир, 1985, с. 397-401).
Способ изготовления полупроводниковых приборов, например К1109КТ21, включает изготовление полупроводниковых кристаллов, монтаж кристаллов в корпус, а именно: посадка полупроводниковых кристаллов на выводную рамку, ее термообработка, термокомпрессия выводов, нанесение защитного покрытия СИЭЛ 159-167 ТУ6-02-1197-80 с последующим его отверждением, герметизация приборов, вырубка и гибка выводов.
Способ изготовления полупроводникового прибора, например КР1015ХК2, включает изготовление полупроводниковых кристаллов, монтаж кристаллов в корпусе, а именно: посадку кристаллов на выводную рамку, ее термообработку, термокомпрессию выводов, нанесение гидридосодержащего кремнийорганического компаунда ГК ТУ11-82 НУО.028.021ТУ.
Недостатками указанных способов изготовления полупроводниковых приборов являются невысокая адгезия защитных покрытий к металлам, которые используются для создания металлических контактов, к стеклам, нестойкость к ряду кислотных соединений и неудовлетворительная влагостойкость (Курносов А.И. Металлы для полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М. Высшая школа, 1980, с. 170-174).
Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является способ изготовления полупроводниковых приборов (И.63.088.081 ТУ-78 г. Шауляй, Литва Микросхемы бескорпусные серии ИС-700), в котором используется лак АД-9103 в качестве защитного покрытия кристалла после разварки выводов.
Недостатками способа являются, во-первых, невысокая адгезия электроизоляционного лака АД-9103 к металлам, в том числе и алюминию, который используется зачастую в качестве проволочных выводов к полупроводниковым кристаллам, и к окислам; во-вторых, защитная пленка электроизоляционного лака АД-9103 не обеспечивает требуемой герметичности относительно влаги как при комнатной температуре, так и при повышенной температуре; в-третьих, низкая кислотостойкость и низкая стойкость к воздействию агрессивных сред, в том числе глицериновых и кислотных флюсов, с помощью которых производится очистка поверхности выводов приборов в пластмассовых корпусах.
Целью изобретения является повышение выхода целевых изделий.
Для этого в качестве защитного покрытия кристаллов полупроводниковых приборов используют компаунд на основе смеси роливсана МВ-1 и толуола в массовом соотношении 1:(8-15), необходимом для достижения требуемой вязкости компаунда, с последующим отверждением при 120-250оС в течение 5-7 ч.
Роливсан МВ-1 представляет собой мономерно-олигомерную композицию, получаемую химическим путем по ТУ-6-14-24-143-85 и имеющую следующий состав, мас.
1. Бис-(4-винилфенило- вый) эфир 5-45
2. Метакриловый эфир
4-винил-4-(1-оксиэтил) дифенилоксида 27-35
3. Диметакриловый эфир
бис-4-(1-оксиэтил) фени- лового эфира 15-40
4. Олигоэфиры общей формулы 5-30
XAr-CH A CHAr,
где X -CH=CH2 или CH2= COO-,
Ar=n-PhOPh; n=0-3
Отверждение компаунда происходит с помощью полимеризационно-полициклоконденсационного метода, когда имеет место трехмерная совместная полимеризация ненасыщенных компонентов системы. В процессе отверждения при 120-250оС выделяется 4-6% летучих продуктов (в основном, воды и метакриловой кислоты).
2. Метакриловый эфир
4-винил-4-(1-оксиэтил) дифенилоксида 27-35
3. Диметакриловый эфир
бис-4-(1-оксиэтил) фени- лового эфира 15-40
4. Олигоэфиры общей формулы 5-30
XAr-CH A CHAr,
где X -CH=CH2 или CH2= COO-,
Ar=n-PhOPh; n=0-3
Отверждение компаунда происходит с помощью полимеризационно-полициклоконденсационного метода, когда имеет место трехмерная совместная полимеризация ненасыщенных компонентов системы. В процессе отверждения при 120-250оС выделяется 4-6% летучих продуктов (в основном, воды и метакриловой кислоты).
Применение в способе компаунда на основе роливсана обеспечивает возможность использования полупроводниковых приборов в широком диапазоне температур.
Параметры отвержденного компаунда, характеризующие его высокие термические свойства:
плотность d=1150-1170 кг/м3,
показатель преломления nр=1,590-1,595,
разрушающие напряжения при растяжении:
при Т=20оС σp 20=50-70 МПа,
при Т=250оС σp 250=40-50 МПа,
при Т=350оС σp 350=10-20 МПа,
модуль упругости Ер
при растяжении при Т=20оС Еp 20=1500-21500 МПа;
при Т=250оС Еp 250=1400-1600 МПа,
относительное удлинение при разрыве εр:
при Т=20оС εp 20=3-4%
при Т=250оС εp 250=4-5%
при Т=350оС εp 350=6-8%
теплостойкость 400 ± 30оС,
температура потери 5% массы 390±10оС,
температура потери 10% массы 425±5оС.
плотность d=1150-1170 кг/м3,
показатель преломления nр=1,590-1,595,
разрушающие напряжения при растяжении:
при Т=20оС σp 20=50-70 МПа,
при Т=250оС σp 250=40-50 МПа,
при Т=350оС σp 350=10-20 МПа,
модуль упругости Ер
при растяжении при Т=20оС Еp 20=1500-21500 МПа;
при Т=250оС Еp 250=1400-1600 МПа,
относительное удлинение при разрыве εр:
при Т=20оС εp 20=3-4%
при Т=250оС εp 250=4-5%
при Т=350оС εp 350=6-8%
теплостойкость 400 ± 30оС,
температура потери 5% массы 390±10оС,
температура потери 10% массы 425±5оС.
На фиг. 1 и 2 изображен внешний вид выводной рамки с тремя кристаллами полупроводниковых приборов после операций напайки и разварки выводов эмиттер база, где
1 выводная рамка, 2 и 3 кристаллы полупроводникового прибора, 4 проволочные выводы, 5 защитное покрытие.
1 выводная рамка, 2 и 3 кристаллы полупроводникового прибора, 4 проволочные выводы, 5 защитное покрытие.
В качестве примера было взято изготовление транзисторных сборок (см. фиг. 1), состоящих из трех полупроводниковых кристаллов, по следующему маршруту:
посадка кристаллов методом эвтектики на флажки выводной рамки из ковра с позолоченными выводами;
термообработка при Т=300оС;
термокомпрессия выводов;
нанесение защитного покрытия;
отверждение защитного покрытия;
герметизация приборов при Т=175оС эпоксидной формующей пластмассой;
вырубка приборов и гибка выводов;
снятие окалины;
обслуживание выводов при Т=265±15оС;
термоциклирование при Т=-60оС-+85оС, 10 циклов;
измерение электропараметров (I);
электротоковая тренировка (ЭТТ);
измерение электропараметров (II);
маркировка;
измерение электропараметров (III).
посадка кристаллов методом эвтектики на флажки выводной рамки из ковра с позолоченными выводами;
термообработка при Т=300оС;
термокомпрессия выводов;
нанесение защитного покрытия;
отверждение защитного покрытия;
герметизация приборов при Т=175оС эпоксидной формующей пластмассой;
вырубка приборов и гибка выводов;
снятие окалины;
обслуживание выводов при Т=265±15оС;
термоциклирование при Т=-60оС-+85оС, 10 циклов;
измерение электропараметров (I);
электротоковая тренировка (ЭТТ);
измерение электропараметров (II);
маркировка;
измерение электропараметров (III).
Для нанесения защитного покрытия был приготовлен компаунд в соотношениях, мас. роливсан 8-15; ароматические растворители 85-92. Отверждение проведено в диапазоне температур от 120 до 220оС со средней скоростью подъема температуры 15-20оС/ч. В диапазоне температур от 180 до 220оС применялась вакуумная сушка (при давлении Р=0,8-1,0 кгс/см2).
Для проверки кислотостойкости отвержденного компаунда, нанесенного в качестве защитного покрытия, проведены испытания на воздействие трех агрессивных сред.
Среда А представляет собой раствор, состоящий из 1 г KI, 10 г уротропина и 1 л HCl.
Среда Б представляет собой флюс, состоящий из 38% глицерина, 59% этиленгликоля и 31% HCl.
Среда В представляет собой флюс, состоящий из 490 г цинка хлористого "Ч", 120 г хлористого аммония, 200 мл глицерина, 400 мл деионизованной воды.
Методика обмывки приборов после воздействия трех агрессивных сред.
Среда А промывка в деионизованной воде, обезжиривание в ацетоне, сушка при 100оС.
Среда Б и В промывка в горячей проточной воде при 65 ± 5оС, кипячение в течение 10 мин, обезжиривание в изопропиловом спирте, сушка при 100оС.
Методика обмывки приборов после лужения выводов включает промывку в горячей проточной воде при 65 ± 5оС, сушку при 100оС.
Результаты эксперимента с разделением видов брака приведены в табл. 1.
Проведены с положительными результатами дополнительные испытания (см. табл. 2):
испытания термоциклированием 60-85оС, 60 циклов (при норме 10);
испытания термоциклированием 60оС-155оС, 37 циклов (при норме 5);
испытания в камере тепла и влаги 4 и 21 сут.
испытания термоциклированием 60-85оС, 60 циклов (при норме 10);
испытания термоциклированием 60оС-155оС, 37 циклов (при норме 5);
испытания в камере тепла и влаги 4 и 21 сут.
Использование в способе в качестве защитного покрытия компаунда на основе роливсана дает возможность увеличить вдвое процент выхода годных приборов за счет увеличения кислотостойкости, влагостойкости, адгезионных свойств к SiO2, Al, Au.
Достоинство способа состоит в его простоте и технологичности, в плотном сцеплении защитного покрытия с поверхностью полупроводникового кристалла, предотвращении доступа водяных паров кислорода и иных веществ, в кислотостойкости и влагостойкости применяемой пассивации.
Claims (2)
1. СПОСОБ ЗАЩИТЫ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ ПЕРЕД ГЕРМЕТИЗАЦИЕЙ, включающий нанесение материала защитного покрытия на кристалл и отверждение защитного покрытия, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных, в качестве защитного покрытия используют компаунд, состоящий из следующих ингредиентов, мас.
Роливсан 8 15
Ароматические растворители 85 92
а для отверждения осуществляют прогрев при 120 250oС в течение 5 7 ч.
Ароматические растворители 85 92
а для отверждения осуществляют прогрев при 120 250oС в течение 5 7 ч.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве ароматических растворителей используют соединения из ряда, включающего бензол, толуол или их смеси.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904845306A RU2036538C1 (ru) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904845306A RU2036538C1 (ru) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2036538C1 true RU2036538C1 (ru) | 1995-05-27 |
Family
ID=21524288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU904845306A RU2036538C1 (ru) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2036538C1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2511007C2 (ru) * | 2012-06-20 | 2014-04-10 | Открытое акционерное общество "Концерн радиостроения "Вега" | Способ увеличения выхода годных при изготовлении высокоплотных электронных модулей |
RU2792924C2 (ru) * | 2021-06-02 | 2023-03-28 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Дагестанский государственный технический университет" | Способ защиты кристаллов на основе стекла |
-
1990
- 1990-07-02 RU SU904845306A patent/RU2036538C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
И.63.088.081 ТУ-78 г. "Микросхемы бескорпусные серии ИС-700" Шауляй, Литва. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2511007C2 (ru) * | 2012-06-20 | 2014-04-10 | Открытое акционерное общество "Концерн радиостроения "Вега" | Способ увеличения выхода годных при изготовлении высокоплотных электронных модулей |
RU2792924C2 (ru) * | 2021-06-02 | 2023-03-28 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Дагестанский государственный технический университет" | Способ защиты кристаллов на основе стекла |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0544741B1 (en) | Cyanate ester adhesives for electronic applications | |
EP0273294B1 (en) | Process for removal of cured epoxy | |
US3931454A (en) | Printed circuit board and method of preparing it | |
EP0644909B1 (en) | Process for coating a substrate with a silicon and zirconium based lacquer | |
US3740831A (en) | Soldering fluxes | |
US4271425A (en) | Encapsulated electronic devices and encapsulating compositions having crown ethers | |
RU2036538C1 (ru) | Способ защиты полупроводниковых приборов перед герметизацией | |
US3024119A (en) | Glass composition and coated article | |
EP0151801A1 (en) | High flash point/low surface energy solvent systems for polyimide conformal coatings | |
US4540603A (en) | Resin-molded semiconductor device and a process for manufacturing the same | |
JPH0586328A (ja) | 被覆溶液及び該被覆溶液で被覆してなる物品 | |
JPH0259573B2 (ru) | ||
Rabilloud | Adhesives for electronics | |
US3546014A (en) | Method for making thin wall insulated wire | |
US3928683A (en) | Corrosion inhibitor | |
US4722758A (en) | Method of covering an electrical connection or cable with a fluoroelastomer mixture | |
JP3340242B2 (ja) | 半導体素子・集積回路装置 | |
RU2074841C1 (ru) | Состав для пайки титана и его сплавов со стеклом и стеклотитановое паяное изделие | |
ES8403942A1 (es) | Procedimiento para preparar una pieza colada de alta resistencia al impacto. | |
US2532699A (en) | Sealing composition | |
GB1569028A (en) | Solder-glass material filled with a granular filler | |
JP2546361B2 (ja) | 含フッ素シラン化合物を表面に付着結合させたハンダ付け性のない導電性金属 | |
WO2007099760A1 (ja) | 半田用フラックス這い上がり防止組成物 | |
GB2028828A (en) | Conductive Adhesive System Including a Conductivity Enhancer | |
JPS6129546B2 (ru) |