RU2022917C1 - Способ получения окиси азота - Google Patents

Способ получения окиси азота Download PDF

Info

Publication number
RU2022917C1
RU2022917C1 SU4744151A RU2022917C1 RU 2022917 C1 RU2022917 C1 RU 2022917C1 SU 4744151 A SU4744151 A SU 4744151A RU 2022917 C1 RU2022917 C1 RU 2022917C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
discharge
pressure
nitrogen oxide
transformer
kpa
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Г.И. Глухих
В.А. Коган
И.М. Уланов
Original Assignee
Уланов Игорь Максимович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Уланов Игорь Максимович filed Critical Уланов Игорь Максимович
Priority to SU4744151 priority Critical patent/RU2022917C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2022917C1 publication Critical patent/RU2022917C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относится к плазмохимии, в частности к технологии получения окиси азота (фиксации атмосферного азота) с помощью электрического разряда. Способ получения окиси азота включает нагрев воздуха в безэлектродном плазмотроне при повышенном давлении с применением ВЧ-разряда. С целью снижения удельных энергозатрат и упрощения способа процесс ведут в трансформаторном плазмотроне с вихревой стабилизацией при давлении 50 - 100 кПа и частоте разряда до 10 кГц. Способ позволит снизить расход энергии с 28000 кВт.ч на 1 т до 1500 - 3000 кВт.ч на 1 т продукта. 1 ил.

Description

Изобретение относится к плазмохимии, в частности к технологии получения окиси азота (фиксации атмосферного азота) с помощью электрического разряда.
Известен способ получения окислов азота в безэлектродном плазмотроне при атмосферном давлении с применением ВЧ- и СВЧ-разрядов, позволяющий получать высокие концентрации окислов азота NO 9-10%, что непосредственно связано с неравновесностью плазменного процесса, вследствие высокой частоты источника питания. Известно также, что широкое применение ВЧ- и СВЧ-технологий всегда ограничено низкими КПД системы источник питания - нагрузка (плазменный разряд). Даже для ВЧ-разрядов КПД не превышает 0,5-0,6%; кроме того, требуются достаточно дорогие источники питания и другое промежуточное оборудование, например, для защиты питающей сети.
При таких концентрациях окиси NO (9-10%) выход составляет 2,6 моль на 1 кВт, что соответствует расходу электроэнергии 28000 кВт.ч на 1 т.
Целью изобретения является снижение удельных энергозатрат и упрощение способа за счет исключения стадии закаливания продукта.
Цель достигается тем, что в известном способе, заключающемся в нагреве исходных компонентов с помощью энергии, выделяющейся в электрической дуге, и фиксации продукта, согласно изобретению нагрев осуществляют безэлектродным замкнутым разрядом с частотой тока до 10 кГц при давлении 50-100 кПа в разрядной камере трансформаторного плазмотрона с вихревой стабилизацией, в которой одновременно происходит фиксация получаемого продукта.
Способ поясняется чертежом.
Трансформаторный плазмотрон содержит трансформатор 1, выполненный из отдельных магнитопроводов с первичной обмоткой каждый, и замкнутую разрядную камеру 2, охватывающую сердечник трансформатора. Разрядная камера изготавливается из отдельных металлических водоохлаждаемых секций 3, между которыми помещены изолирующие прокладки 4. Камера имеет также завихритель газа 5 и узел вывода плазмы 6. Камера снабжена вспомогательными электродами 7 для поджига тлеющего разряда.
Устройство работает следующим образом. Предварительно осуществляется продувка воздуха. На вспомогательные электроды 7 подается напряжение порядка 3 кВт от повышающего неонового трансформатора, зажигается тлеющий разряд при давлении (1,3-13,3) Па. Если плазменный трансформатор обеспечивает необходимое напряжение для горения дуги на вторичном витке, то возникает устойчивый разряд. При этом неоновый трансформатор отключается. При подаче газа в завихритель 5 давление в камере возрастает до атмосферного и осуществляется стабилизация дуги потоком газа.
Трансформаторный плазмотрон с подачей на вход воздуха испытан в диапазоне давлений 30-100 кПа в камере диаметром 70 мм. При давлении в камере 30 кПа наблюдается переход от белого свечения к светло-желтому, при этом хорошо видно, что столб дуги начинает контрагироваться. При дальнейшем увеличении давления до 40-60 кПа свечение разряда становится ярко-желтым, а затем оранжевым, при этом столб дуги сильно контрагирован (радиус дуги составляет примерно 40-50 мм. При дальнейшем увеличении давления до атмосферного яркость свечения усиливается, а радиус дуги уменьшается до 30-40 мм. Ток в этом режиме поддерживается 85 А, мощность в разряде 70 кВт. В результате концентрация окислов в перерасчете на NO2 при атмосферном давлении достигает 40 г/м3 без применения закалочных схем. Удельный расход электроэнергии может быть снижен до удельного расхода в химическом способе получения окислов азота.
Использование данного способа получения окиси азота в трансформаторном плазмотроне обеспечивает по сравнению с существующими способами следующие преимущества:
1. Заявляемые параметры давления и частоты разряда при вихревой стабилизации потока позволяют осуществить фиксацию получаемого продукта непосредственно в разрядной камере и, как следствие, исключается вероятность обратного процесса разложения окиси азота. Таким образом, повышается выход готового продукта. Кроме того, отпадает необходимость последующей закалки и тем самым упрощается технологический процесс.
2. Отсутствие электродов приводит к значительному увеличению ресурса работы установки, к наращиванию мощности, что ведет, в свою очередь, к увеличению выхода готового продукта.

Claims (1)

  1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОКИСИ АЗОТА, включающий нагрев воздуха в безэлектродном плазмотроне при повышенном давлении с применением ВЧ-разряда, отличающийся тем, что, с целью снижения удельных энергозатрат и упрощения способа за счет исключения стадии закаливания продукта, процесс ведут в трансформаторном плазмотроне с вихревой стабилизацией при давлении 50 - 100 кПа и частоте разряда до 10 кГц.
SU4744151 1989-09-27 1989-09-27 Способ получения окиси азота RU2022917C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4744151 RU2022917C1 (ru) 1989-09-27 1989-09-27 Способ получения окиси азота

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4744151 RU2022917C1 (ru) 1989-09-27 1989-09-27 Способ получения окиси азота

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2022917C1 true RU2022917C1 (ru) 1994-11-15

Family

ID=21472079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4744151 RU2022917C1 (ru) 1989-09-27 1989-09-27 Способ получения окиси азота

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2022917C1 (ru)

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6486431B1 (en) 1997-06-26 2002-11-26 Applied Science & Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US6552296B2 (en) 1997-06-26 2003-04-22 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US6815633B1 (en) 1997-06-26 2004-11-09 Applied Science & Technology, Inc. Inductively-coupled toroidal plasma source
US7569791B2 (en) 2005-09-30 2009-08-04 Energetiq Technology, Inc. Inductively-driven plasma light source
US7948185B2 (en) 2004-07-09 2011-05-24 Energetiq Technology Inc. Inductively-driven plasma light source
US8124906B2 (en) 1997-06-26 2012-02-28 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8143790B2 (en) 2004-07-09 2012-03-27 Energetiq Technology, Inc. Method for inductively-driven plasma light source
RU2505949C1 (ru) * 2012-08-03 2014-01-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Трансформаторный плазматрон низкого давления для ионно-плазменной обработки поверхности материалов
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8872525B2 (en) 2011-11-21 2014-10-28 Lam Research Corporation System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber
US8898889B2 (en) 2011-11-22 2014-12-02 Lam Research Corporation Chuck assembly for plasma processing
US8999104B2 (en) 2010-08-06 2015-04-07 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for separate plasma source control
US9083182B2 (en) 2011-11-21 2015-07-14 Lam Research Corporation Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range
US9111729B2 (en) 2009-12-03 2015-08-18 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9155181B2 (en) 2010-08-06 2015-10-06 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US9177762B2 (en) 2011-11-16 2015-11-03 Lam Research Corporation System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing
US9190289B2 (en) 2010-02-26 2015-11-17 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9263240B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Lam Research Corporation Dual zone temperature control of upper electrodes
RU2582077C2 (ru) * 2014-09-04 2016-04-20 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Устройство для нанесения функциональных слоёв тонкоплёночных солнечных элементов на подложку путём осаждения в плазме низкочастотного индукционного разряда трансформаторного типа низкого давления
US9396908B2 (en) 2011-11-22 2016-07-19 Lam Research Corporation Systems and methods for controlling a plasma edge region
RU2593297C2 (ru) * 2014-12-29 2016-08-10 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" Способ получения газовой смеси, содержащей окись азота
US9449793B2 (en) 2010-08-06 2016-09-20 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction
US9508530B2 (en) 2011-11-21 2016-11-29 Lam Research Corporation Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap
US9967965B2 (en) 2010-08-06 2018-05-08 Lam Research Corporation Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US10283325B2 (en) 2012-10-10 2019-05-07 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US10586686B2 (en) 2011-11-22 2020-03-10 Law Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery
CN111111582A (zh) * 2019-12-31 2020-05-08 河海大学常州校区 水雾射流电弧放电固氮装置及检测方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
С.Н.Ганз, В.Д.Пархоменко, А.И.Руденко. Интенсификация производства азотной кислоты, К., 1969, с.32-36. *

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8124906B2 (en) 1997-06-26 2012-02-28 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US6552296B2 (en) 1997-06-26 2003-04-22 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US6559408B2 (en) 1997-06-26 2003-05-06 Applied Science & Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US6664497B2 (en) 1997-06-26 2003-12-16 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US6815633B1 (en) 1997-06-26 2004-11-09 Applied Science & Technology, Inc. Inductively-coupled toroidal plasma source
US6486431B1 (en) 1997-06-26 2002-11-26 Applied Science & Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US7948185B2 (en) 2004-07-09 2011-05-24 Energetiq Technology Inc. Inductively-driven plasma light source
US8143790B2 (en) 2004-07-09 2012-03-27 Energetiq Technology, Inc. Method for inductively-driven plasma light source
US7569791B2 (en) 2005-09-30 2009-08-04 Energetiq Technology, Inc. Inductively-driven plasma light source
US9911578B2 (en) 2009-12-03 2018-03-06 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9111729B2 (en) 2009-12-03 2015-08-18 Lam Research Corporation Small plasma chamber systems and methods
US9735020B2 (en) 2010-02-26 2017-08-15 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9190289B2 (en) 2010-02-26 2015-11-17 Lam Research Corporation System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas
US9155181B2 (en) 2010-08-06 2015-10-06 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US9967965B2 (en) 2010-08-06 2018-05-08 Lam Research Corporation Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
US8999104B2 (en) 2010-08-06 2015-04-07 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for separate plasma source control
US9449793B2 (en) 2010-08-06 2016-09-20 Lam Research Corporation Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction
US9177762B2 (en) 2011-11-16 2015-11-03 Lam Research Corporation System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing
US9083182B2 (en) 2011-11-21 2015-07-14 Lam Research Corporation Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range
US9508530B2 (en) 2011-11-21 2016-11-29 Lam Research Corporation Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap
US8872525B2 (en) 2011-11-21 2014-10-28 Lam Research Corporation System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber
US10586686B2 (en) 2011-11-22 2020-03-10 Law Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery
US9263240B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Lam Research Corporation Dual zone temperature control of upper electrodes
US9396908B2 (en) 2011-11-22 2016-07-19 Lam Research Corporation Systems and methods for controlling a plasma edge region
US8898889B2 (en) 2011-11-22 2014-12-02 Lam Research Corporation Chuck assembly for plasma processing
US10622195B2 (en) 2011-11-22 2020-04-14 Lam Research Corporation Multi zone gas injection upper electrode system
US11127571B2 (en) 2011-11-22 2021-09-21 Lam Research Corporation Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery
RU2505949C1 (ru) * 2012-08-03 2014-01-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Трансформаторный плазматрон низкого давления для ионно-плазменной обработки поверхности материалов
US10283325B2 (en) 2012-10-10 2019-05-07 Lam Research Corporation Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus
RU2582077C2 (ru) * 2014-09-04 2016-04-20 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) Устройство для нанесения функциональных слоёв тонкоплёночных солнечных элементов на подложку путём осаждения в плазме низкочастотного индукционного разряда трансформаторного типа низкого давления
RU2593297C2 (ru) * 2014-12-29 2016-08-10 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" Способ получения газовой смеси, содержащей окись азота
CN111111582A (zh) * 2019-12-31 2020-05-08 河海大学常州校区 水雾射流电弧放电固氮装置及检测方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2022917C1 (ru) Способ получения окиси азота
US6822396B2 (en) Transformer ignition circuit for a transformer coupled plasma source
US6388226B1 (en) Toroidal low-field reactive gas source
US8776719B2 (en) Microwave plasma reactor
KR101441608B1 (ko) 고주파 램프 및 고주파 램프 작동 방법
CN100417308C (zh) 用于形成等离子体的设备和方法
RU2094961C1 (ru) Трансформаторный плазмотрон
JP3237450U (ja) 複合プラズマ源
CN102576645A (zh) 低压放电灯
JPH07307199A (ja) 誘導プラズマの発生方法および装置
JPS55161361A (en) High frequency lighting apparatus
KR100729877B1 (ko) 고압 가스 방전 램프를 점화 및 급전하는 밸러스트
RU2099392C1 (ru) Способ получения синтез-газа из углеродсодержащего топлива
JP4910111B2 (ja) 放電ランプを点弧するための点弧回路構成体および放電ランプの点弧方法
JPH09223595A (ja) 高周波誘導結合アークプラズマの点火方法およびプラズマ発生装置
US20240306284A1 (en) Hollow cathode discharge assistant transformer coupled plasma source and operation method of the same
US7884554B2 (en) Ignition circuit for igniting a discharge lamp and method for igniting the discharge lamp
JPS5566854A (en) No-electrode fluorescent lamp apparatus
RU2379860C1 (ru) Трансформаторный плазмотрон с диэлектрической разрядной камерой
RU2094900C1 (ru) Способ получения оптического излучения и газоразрядное безэлектродное устройство для его осуществления
FI89248C (fi) Foerfarande foer att aostadkomma en hjaelpljusbaoge vid plasmasvetsning och hjaelpstroemkaella foer anvaendning vid foerfarandet
RU2558728C1 (ru) Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда
JPS59141043A (ja) 高周波誘導結合プラズマ点灯装置
JPS6280998A (ja) 発光ガス放電装置パワ−供給システム
JP2000150178A (ja) メタルハライドランプ瞬時再点灯方法及び装置