RU2094961C1 - Трансформаторный плазмотрон - Google Patents
Трансформаторный плазмотрон Download PDFInfo
- Publication number
- RU2094961C1 RU2094961C1 SU4722521A RU2094961C1 RU 2094961 C1 RU2094961 C1 RU 2094961C1 SU 4722521 A SU4722521 A SU 4722521A RU 2094961 C1 RU2094961 C1 RU 2094961C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- transformer
- chamber
- plasma
- gas inlet
- power
- Prior art date
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Использование: высокотемпературный нагрев газов в плазмотронах большой мощности. Сущность изобретения: замкнутая водоохлаждаемая камера выполнена из изолированных друг от друга металлических секций, узел ввода газа, расположенный противоположно узлу вывода плазмы, снабжен завихрителем, а охватывающий камеру трансформатор выполнен из нескольких магнитопроводов с индивидуальными обмотками. 1 ил.
Description
Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано при создании плазмотронов большой мощности для нагревания до высоких температур самых разнообразных газов и других плазмообразующих веществ, а также в лазерной технике, в которой для возбуждения атомов или ионов и получения инверсной заселенности используется электрический разряд.
В настоящее время основными источниками получения низкотемпературной плазмы являются плазмотроны постоянного тока и плазмотроны ВЧ- и СВЧ-диапазонов тока.
Основным недостатком плазмотронов постоянного тока является сравнительно малый ресурс работы электродов (катод, анод) особенно при повышении мощности плазмотронов. Плазмотроны ВЧ и СВЧ-диапазона токов требуют сложных и дорогостоящих источников питания и у них малы коэффициенты связи для вводимой в плазму электрической мощности.
Из литературных данных [1 и 2] известно, что индукционный электрический разряд замкнутой конфигурации на сравнительно невысоких частотах до 10 кГц может быть осуществлен, когда плазменный виток является вторичной обмоткой трансформатора. Описанные в литературе [1 и 2] экспериментальные устройства для осуществления разрядов трансформаторного типа представляли собой трансформатор с Ш-образным магнитопроводом, на котором имелась первичная обмотка и вторичной обмоткой являлась замкнутая кварцевая разрядная камера, охватывающая центральный магнитопровод, в которой и осуществлялся непосредственно электрический разряд низкого давления 0,1 40 кПа.
Недостатком описанных устройств является то, что применяемые плазменные камеры из кварца не технологичны и не пригодны для создания плазмотронов большой мощности, так как не способны пропустить большие тепловые потоки, идущие в стенку от разряда. Кварцевые камеры, а также камеры из диэлектриков, кроме вышеуказанных недостатков, не выдерживают ударных нагрузок, возникающих при неустойчивом характере разряда.
Неустойчивый характер разрядов трансформаторного типа при давлении в разрядной камере 0,3-0,4 атм не позволил в описанных устройствах [1 и 2] поднять давление в разрядной камере до атмосферного, что снижало диапазон применения плазмотронов трансформаторного типа. В тоже время применение сплошной металлической плазменной камеры практически невозможно, так как она экранирует проникновение электрического поля, необходимого для возникновения и поддержания разряда.
Цель изобретения увеличение мощности в разряде при расширении диапазона давлений до атмосферного и использовании в качестве рабочего газа как инертных (гелий, аргон), так и молекулярных газов (водород, кислород, CO2) или воздуха.
Цель достигается тем, что в известном трансформаторном плазмотроне, содержащем трансформатор, выполненный в виде сердечника и первичной обмотки, и охватывающую сердечник замкнутую водоохлаждаемую разрядную камеру с узлами ввода газа и вывода плазмы, расположенными на противоположных участках камеры, разрядная камера выполнена из электроизолированных друг от друга металлических секций, узел ввода газа снабжен завихрителем, а трансформатор снабжен по меньшей мере еще одним дополнительным магнитопроводом с индивидуальной первичной обмоткой.
Сопоставительный анализ с прототипом показывает, что предлагаемый плазмотрон отличается выполнением разрядной камеры и трансформатора.
Таким образом, заявляемый плазмотрон соответствует критерию изобретения "новизна".
На чертеже схематически представлено сечение трансформаторного плазмотрона.
Трансформаторный плазмотрон содержит трансформатор, состоящий из нескольких магнитопроводов 1 с индивидуальными первичными обмотками и замкнутую водоохлаждаемую разрядную камеру 2, выполненную из электроизолированных друг от друга металлических секций 3, между которыми помещены изолирующие прокладки 4, с узлом ввода газа, снабженного завихрителем 5 и узлом вывода плазмы 6. Камера снабжена вспомогательными электродами 7 для поджига тлеющего разряда.
Трансформаторный плазмотрон работает следующим образом.
Предварительно осуществляется продувка газа. На вспомогательные электроды 7 подается напряжение порядка 3 кВ от повышающего неонового трансформатора, зажигается тлеющий разряд при давлении 10-2-10-1 мм.рт.ст. Если плазменный трансформатор обеспечивает необходимое напряжение для горения дуги на вторичном витке, то возникает устойчивый разряд. При этом неоновый трансформатор отключается. При подаче газа в завихритель 5 давление газа возрастает до атмосферного и осуществляется стабилизация дуги потоком газа.
В предлагаемом изобретении за счет выбранной конструкции трансформатора и металлической водоохлаждаемой секционной разрядной камеры с вихревой стабилизацией дуги потоком газа может быть достигнуто увеличение мощности в разряде определяемой мощностью источника питания и получение устойчивого разряда при давлениях вплоть до атмосферного в инертных и молекулярных газах.
Claims (1)
- Трансформаторный плазмотрон, содержащий трансформатор, выполненный в виде сердечника и первичной обмотки, и охватывающую сердечник замкнутую водоохлаждаемую разрядную камеру с узлами ввода газа и вывода плазмы, расположенными на противоположных участках камеры, отличающийся тем, что, с целью увеличения мощности плазмотрона при расширении диапазона давлений до атмосферного и использования как инертных, так и молекулярных газов, разрядная камера выполнена из электроизолированных одна от другой металлических секций, узел ввода газа снабжен завихрителем, а трансформатор снабжен по меньшей мере одним дополнительным магнитопроводом с индивидуальной первичной обмоткой.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4722521 RU2094961C1 (ru) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Трансформаторный плазмотрон |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4722521 RU2094961C1 (ru) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Трансформаторный плазмотрон |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2094961C1 true RU2094961C1 (ru) | 1997-10-27 |
Family
ID=21462623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4722521 RU2094961C1 (ru) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Трансформаторный плазмотрон |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2094961C1 (ru) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8124906B2 (en) | 1997-06-26 | 2012-02-28 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8872525B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-10-28 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber |
US8898889B2 (en) | 2011-11-22 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Chuck assembly for plasma processing |
US8999104B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-04-07 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for separate plasma source control |
US9083182B2 (en) | 2011-11-21 | 2015-07-14 | Lam Research Corporation | Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range |
RU2558728C1 (ru) * | 2014-05-29 | 2015-08-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) | Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда |
US9111729B2 (en) | 2009-12-03 | 2015-08-18 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9155181B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-10-06 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US9177762B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-11-03 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing |
US9190289B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-11-17 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9263240B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-02-16 | Lam Research Corporation | Dual zone temperature control of upper electrodes |
US9396908B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-07-19 | Lam Research Corporation | Systems and methods for controlling a plasma edge region |
US9449793B2 (en) | 2010-08-06 | 2016-09-20 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction |
US9508530B2 (en) | 2011-11-21 | 2016-11-29 | Lam Research Corporation | Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap |
US9967965B2 (en) | 2010-08-06 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US10283325B2 (en) | 2012-10-10 | 2019-05-07 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US10586686B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-03-10 | Law Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
-
1989
- 1989-07-20 RU SU4722521 patent/RU2094961C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1. Авторское свидетельство СССР N 1074376, кл.H 05B 7/22, 1983. 2. Гольдфарб В.М. и др. ТВТ. - 1979, т.17, N 4, с.698 - 702. * |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8124906B2 (en) | 1997-06-26 | 2012-02-28 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US9111729B2 (en) | 2009-12-03 | 2015-08-18 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9911578B2 (en) | 2009-12-03 | 2018-03-06 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9735020B2 (en) | 2010-02-26 | 2017-08-15 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9190289B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-11-17 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9967965B2 (en) | 2010-08-06 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US8999104B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-04-07 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for separate plasma source control |
US9155181B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-10-06 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US9449793B2 (en) | 2010-08-06 | 2016-09-20 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction |
US9177762B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-11-03 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing |
US8872525B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-10-28 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber |
US9508530B2 (en) | 2011-11-21 | 2016-11-29 | Lam Research Corporation | Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap |
US9083182B2 (en) | 2011-11-21 | 2015-07-14 | Lam Research Corporation | Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range |
US9263240B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-02-16 | Lam Research Corporation | Dual zone temperature control of upper electrodes |
US9396908B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-07-19 | Lam Research Corporation | Systems and methods for controlling a plasma edge region |
US8898889B2 (en) | 2011-11-22 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Chuck assembly for plasma processing |
US10586686B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-03-10 | Law Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
US10622195B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-04-14 | Lam Research Corporation | Multi zone gas injection upper electrode system |
US11127571B2 (en) | 2011-11-22 | 2021-09-21 | Lam Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
US10283325B2 (en) | 2012-10-10 | 2019-05-07 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
RU2558728C1 (ru) * | 2014-05-29 | 2015-08-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) | Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2094961C1 (ru) | Трансформаторный плазмотрон | |
US5243169A (en) | Multiple torch type plasma generation device and method of generating plasma using the same | |
US6432260B1 (en) | Inductively coupled ring-plasma source apparatus for processing gases and materials and method thereof | |
RU2022917C1 (ru) | Способ получения окиси азота | |
Schoenbach et al. | Self-organization in cathode boundary layer microdischarges | |
US7245084B1 (en) | Transformer ignition circuit for a transformer coupled plasma source | |
US8450945B2 (en) | High-frequency lamp and method for the operation thereof | |
JP2002525798A (ja) | 開口部を有する誘電体で覆われた電極を有するグロープラズマ放電装置 | |
US4253047A (en) | Starting electrodes for solenoidal electric field discharge lamps | |
US6541915B2 (en) | High pressure arc lamp assisted start up device and method | |
US5374802A (en) | Vortex arc generator and method of controlling the length of the arc | |
Yu et al. | Radio-frequency-driven near atmospheric pressure microplasma in a hollow slot electrode configuration | |
Steers et al. | Observations on the use of the microwave-boosted glow discharge lamp and the relevant excitation processes | |
US4331937A (en) | Stability enhanced halide lasers | |
JP3237450U (ja) | 複合プラズマ源 | |
US3517256A (en) | Shock-wave generator | |
Harry et al. | Production of a large volume discharge using a multiple arc system | |
US5296670A (en) | DC plasma arc generator with erosion control and method of operation | |
JPH05182639A (ja) | 無電極高光度放電ランプ用ガスプローブ起動装置 | |
CA1093628A (en) | Device and method of starting a long radiation source | |
JP3454388B2 (ja) | イオンビーム発生装置のアーク放電方法 | |
US3320476A (en) | Starting circuit for high intensity short arc lamps | |
RU2407249C2 (ru) | Устройство для получения плазмы с разомкнутым магнитопроводом и способ осуществления электрического разряда и получения плазмы в нем | |
RU2558728C1 (ru) | Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда | |
CA1144226A (en) | Starting electrodes for solenoidal electric field discharge lamps |