RU2019584C1 - METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS - Google Patents

METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS Download PDF

Info

Publication number
RU2019584C1
RU2019584C1 SU4931917A RU2019584C1 RU 2019584 C1 RU2019584 C1 RU 2019584C1 SU 4931917 A SU4931917 A SU 4931917A RU 2019584 C1 RU2019584 C1 RU 2019584C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
temperature
solution
crystals
melt
melt solution
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Г.А. Петраковский
В.В. Руденко
Г.Н. Степанов
Original Assignee
Институт физики им.Л.В.Киренского СО РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт физики им.Л.В.Киренского СО РАН filed Critical Институт физики им.Л.В.Киренского СО РАН
Priority to SU4931917 priority Critical patent/RU2019584C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2019584C1 publication Critical patent/RU2019584C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

FIELD: chemical technology. SUBSTANCE: solution-melt containing GaBO3, Ga2O3, PbO-B2O3 is overheated up to 950-1000 C at stirring, cooled up to 815-845 C, kept for 22-24 h at stirring. Then temperature is increased up to 820-850 C following by decreasing by law PbF2 up to 810-840 C, where t-1 is time, hours. Components are taken at the following ratio, wt.-%: (10-7-10-8)t3 16.8-18.6; Ga2O3 42.4-42.9; PbO 27.3-28.2; B2O3 11.7-12.1. Product is used in controlled solution-melting crystallization at PbF2 preparing for physical experiment and optoelectronics. EFFECT: improved method of crystal growing. 1 tbl

Description

Изобретение относится к области управляемой раствор-расплавной кристаллизации и может найти применение при получении кристаллов GaBO3 в физическом эксперименте и оптоэлектронике.The invention relates to the field of controlled solution-melt crystallization and may find application in the preparation of GaBO 3 crystals in a physical experiment and optoelectronics.

Известен единственный способ получения монокристаллов GaBO3 Fe3+ с использованием борат-висмутового растворителя B2O3 - Bi2O3. В этом способе смесь Ga2O3 5,9 г, Fe2O3 0,13 г, В2О3 6,9 г, Bi2O3 17,1 г наплавляли в платиновый тигель объемом 18 см3. Тигель закрывали крышкой и помещали в печь электрического сопротивления. Температуру в печи поднимали до 1150оС и поддерживали 8 ч. Затем следовало быстрое охлаждение до 800оС с выдержкой 1 ч при этой температуре, после чего температуру быстро поднимали до 880оС с последующим понижением до 750оС по 2оС/ч.The only known method for producing single crystals of GaBO 3 Fe 3+ using a borate-bismuth solvent B 2 O 3 - Bi 2 O 3 . In this method, a mixture of Ga 2 O 3 5.9 g, Fe 2 O 3 0.13 g, B 2 O 3 6.9 g, Bi 2 O 3 17.1 g was melted into a platinum crucible with a volume of 18 cm 3 . The crucible was covered with a lid and placed in an electric resistance furnace. The furnace temperature was raised to 1150 C and maintained for 8 hours. This was followed by rapid cooling to 800 ° C with exposure 1 hour at this temperature, whereupon the temperature was rapidly raised to 880 ° C, followed by a decrease to 750 ° C at 2 ° C / hours

Этот способ является прототипом изобретения. Недостаток этого способа заключается в том, что состав шихты и интервалы кристаллизации количественно не обоснованы, так как не подкреплены физико-химическими исследованиями и, как следствие этого, небольшие размеры (2х2х0,5 мм3) монокристаллов. Кpоме того, использование растворителя B2O3 - Bi2O3 при выращивании кристаллов GaBO3 создает обширную область ликвидации раствора-расплава, что делает невозможным осуществление управляемого синтеза монокристаллов этого соединения.This method is a prototype of the invention. The disadvantage of this method is that the composition of the charge and the crystallization intervals are not quantitatively substantiated, since they are not supported by physicochemical studies and, as a result of this, the small sizes (2x2x0.5 mm 3 ) of single crystals. In addition, the use of the solvent B 2 O 3 - Bi 2 O 3 when growing GaBO 3 crystals creates an extensive area for the liquidation of the melt solution, which makes it impossible to carry out controlled synthesis of single crystals of this compound.

Цель изобретения - увеличение размеров монокристаллов и упрощение способа выращивания. Поставленная цель достигается тем, что в расплав, содержащий Ga2O3 и В2О3, вводят PbО-PbF2 при следующем соотношении компонентов, мас. % : Ga2O3 16,8-18,6 B2O3 42,4-42,9 PbO 27,3-28,2 PbF2 11,7-12,1 перегрев ведут до 950-1000оС с перемешиванием раствора-расплава, затем охлаждают до температуры 815-845оС и выдерживают 22-24 ч с перемешиванием раствора-расплава, далее температуру поднимают до 820-850оС с последующим понижением до температуры 810-840оС по закону (10-7-10-8)t3, где t3 - время, в часах, после чего мешалку с выросшими на ней кристаллами поднимают над тиглем. Кристаллы отделяют от мешалки.The purpose of the invention is the increase in the size of single crystals and the simplification of the method of growing. This goal is achieved by the fact that PbO-PbF 2 is introduced into the melt containing Ga 2 O 3 and B 2 O 3 in the following ratio of components, wt. %: Ga 2 O 3 16.8-18.6 B 2 O 3 42.4-42.9 PbO 27.3-28.2 PbF 2 11.7-12.1 overheating leads to 950-1000 о С by stirring the melt solution, then it is cooled to a temperature of 815-845 о С and incubated for 22-24 hours with stirring of the melt solution, then the temperature is raised to 820-850 о С, followed by lowering to a temperature of 810-840 о С according to the law (10 - 7 -10 -8 ) t 3 , where t 3 is the time, in hours, after which the stirrer with the crystals grown on it is raised above the crucible. The crystals are separated from the stirrer.

Сравнение заявляемого способа с другими техническими решениями в данной области техники не позволяет выявить в них признаки, предлагаемые в качестве отличительных, на основании чего следует вывод, что заявляемое техническое решение соответствует критерию изобретения "существенные отличия". Comparison of the proposed method with other technical solutions in this technical field does not allow us to identify the signs proposed as distinctive, on the basis of which it follows that the claimed technical solution meets the criteria of the invention "significant differences".

В предлагаемом способе выращивания используются температура и соотношение компонентов раствора-расплава, выбранные на основе исследования кривой растворимости GaBO3 в растворителе состава 47,7 В2О3; 36,6 PbO; 15,7 PbF2. Предлагаемые составы укладываются на эту кривую растворимости. Отметим, что выбор такого состава растворителя обеспечивает гомогенность раствора-расплава.The proposed method of growing uses the temperature and the ratio of the components of the solution-melt, selected on the basis of the study of the solubility curve of GaBO 3 in a solvent of 47.7 V 2 O 3 ; 36.6 PbO; 15.7 PbF 2 . The proposed compositions fit into this solubility curve. Note that the choice of such a solvent composition ensures the homogeneity of the solution-melt.

Раствор-расплав перегревают в течение tпер. 5-7 ч при температурах Тпер. 1000-950оС с его перемешиванием, что на 150оС выше температуры насыщения Тнас., установленной из физико-химических исследований. Такой режим обеспечивает переход раствора-расплава в гомогенное состояние.The melt solution is overheated for tper. 5-7 hours at temperatures T per. 1000-950 о С with its stirring, which is 150 о С higher than the saturation temperature Т us. established from physico-chemical studies. This mode ensures the transition of the solution-melt into a homogeneous state.

Температура Т1 845-815оС и время выдержки t1 22-24 ч выбраны на основе исследования числа центров кристаллизации, выпадающих на мешалке в зависимости от переохлаждения раствора-расплава. Выбор таких температур и времени выдержки оказывается достаточным для создания 10-20 центров кристаллизации.The temperature T 1 845-815 о С and the exposure time t 1 22-24 h are selected on the basis of a study of the number of crystallization centers falling on the mixer depending on the supercooling of the melt solution. The choice of such temperatures and the exposure time is sufficient to create 10-20 crystallization centers.

Затем температуру повышают на 5-7оС до Т2. Установлено, что при подъеме температуры на 5-7оС выше Т1 не происходит дальнейшего возникновения центров кристаллизации, но при этом раствор-расплав находится в метастабильном состоянии, что обеспечивает медленный устойчивый рост кристалла.Then the temperature is increased by 5-7 about C to T 2 . It is found that when the temperature rise of 5-7 ° C above the T 1 no further occurrence of nucleation, but the melt solution is in the metastable state, which ensures slow sustained growth of the crystal.

В дальнейшем температуру понижают по закону ≈t3, где t - время. Для заявляемого технического решения этот закон авторами приведен к виду Тt = Т2 - α t3, где Тt - текущая температура, t - время, в часах, α - коэффициент, рассчитываемый из конкретных условий эксперимента и для данного случая, в предположении, что кристалл аппроксимируется диском, равен

Figure 00000001
2πρNV 2 ( III)V[III], где m - тангенс угла наклона кривой растворимости, равный 11,43 ˙102; Со - концентрация GaBo3 в растворителе в нулевой момент времени, равная 0,2425; Go - исходная масса раствора-расплава, равная 300-400 г; N - число центров кристаллизации на мешалке ≈10-20, ρ - плотность кристалла 5 г/см3, V(III) - скорость роста кристалла и плоскости (III), равная ≈6˙ 10-4 см/ч, V[III] - скорость роста кристалла в направлении [III], равная ≈3˙ 10-4 см/ч при переохлаждении ≈10оС в динамическом режиме. Значения таких параметров дают коэффициент α≈10-7 - 10-8. Все эти параметры предварительно исследованы авторами.Subsequently, the temperature is lowered according to the law ≈t 3 , where t is time. For the proposed technical solution, this law is reduced by the authors to the form T t = T 2 - α t 3 , where Tt is the current temperature, t is time, in hours, α is a coefficient calculated from the specific conditions of the experiment and for this case, under the assumption that the crystal is approximated by a disk is
Figure 00000001
2πρNV 2 ( III) V [III] , where m is the slope of the solubility curve equal to 11.43 ˙ 10 2 ; Co is the concentration of GaBo 3 in the solvent at time zero, equal to 0.2425; Go is the initial mass of the melt solution, equal to 300-400 g; N is the number of crystallization centers on the stirrer ≈10-20, ρ is the crystal density of 5 g / cm 3 , V (III) is the crystal and plane (III) growth rate equal to ≈6˙ 10 -4 cm / h, V [III ] is the crystal growth rate in the [III] direction, equal to ≈3˙ 10 -4 cm / h under supercooling ≈10 о С in the dynamic mode. The values of such parameters give a coefficient α≈10 -7 - 10 -8 . All these parameters were previously investigated by the authors.

Температуру Т2 понижают на 9-10 до 840-810оС, что оказывается достаточным для получения 15-20 кристаллов размером от 2х2х1 до 5х5х2,5 мм3. После этого поднимают мешалку с выросшими на ней кристаллами над раствором-расплавом и отключают печь. Кристаллы отделяют от мешалки в горячем 20%-ном водном pастворе HNO3.T 2 The temperature was lowered to 9-10 840-810 C, which is sufficient to obtain a crystal size of 15-20 2h2h1 5h5h2,5 to 3 mm. After that, raise the stirrer with the crystals grown on it above the melt solution and turn off the furnace. The crystals are separated from the stirrer in a hot 20% aqueous solution of HNO 3 .

Подъем температуры до Тпер. = =1000-950оС, понижение температуры до Т1 = =845-815, подъем температуры до Т2 850-820оС может быть проведен с произвольной скоростью и в данном случае его скорость ограничивалась теплофизическими характеристиками печи.Temperature rise up to T lane = 1000-950 ° C, lowering the temperature to T 1 = 845-815, the temperature rise up to T 2 of 850-820 C may be conducted at an arbitrary speed, and in this case its speed is limited by the thermal characteristics of the furnace.

Таким образом, обоснованный выбор состава шихты и температурного режима, с использованием данных по кривой растворимости, числа центров и скоростей роста граней кристалла в зависимости от переохлаждения, обеспечивает возможность получения монокристаллов до 5х5х2,5 мм3.Thus, a reasonable choice of the composition of the mixture and the temperature regime, using data on the solubility curve, the number of centers and growth rates of crystal faces depending on supercooling, makes it possible to obtain single crystals up to 5x5x2.5 mm 3 .

Упрощение способа, по сравнению с прототипом, состоит в том, что сокращен температурный интервал кристаллизации, понижена температура Тпер.The simplification of the method, compared with the prototype, consists in the fact that the temperature range of crystallization is reduced, the temperature T per .

П р и м е р 1. Шихту массой 300 г (Ga2O3 - 17,6 мас.% квалификации ОСЧ, В2О3 - 42,7 мас.% квалификации ОСЧ, PbО - 27,8 мас.% квалификации ОСЧ, PbF2 11,9 мас.% квалификации ОСЧ) наплавляли в платиновый тигель объемом 225 см3 (стакан конусный платина ПЛ 99,9 ТКА 07073 ТУ-48-1-447-83, D= 70; d = 60; δ= 1,0; Н = 70) при температуре 850оС. Глубина направленного раствора-расплава 25 мм. Температура насыщения Тнас. = 845оС.PRI me R 1. The mixture weighing 300 g (Ga 2 O 3 - 17.6 wt.% Qualification OSH, In 2 About 3 - 42.7 wt.% Qualification OSH, PbO - 27.8 wt.% Qualification TSP, PbF 2 11.9 wt.% TSP qualification) was melted into a platinum crucible with a volume of 225 cm 3 (cup cone platinum PL 99.9 TKA 07073 TU-48-1-447-83, D = 70; d = 60; δ = = 1.0; N = 70) at 850 ° C. The depth-directional solution melt of 25 mm. Saturation temperature T us. = 845 about C.

После наплавления шихты тигель устанавливали в печь электрического сопротивления. Температуру в печи за 1-1,5 ч поднимали до Тпер. 1000оС и выдерживали tпер. 5 ч с перемешиванием раствора-расплава (скорость вращения мешалки ω= 60 об/мин, мешалка платиновая, платина ПЛ 99,9). Затем мешалку отключали, и понижалась температура за 20-25 мин до Т1830оС с последующей выдержкой в течение t1 24 ч и перемешиванием раствора-расплава, ω=60 об/мин. Затем температуру поднимали до Т2 835оС за 1-2 мин с последующим понижением по закону Tt = Т2 - 10-7 t3. При температуре Тtкон ≈ 825оС мешалка, с выросшими на ней кристаллами, была поднята над тиглем, а печь отключена.After the charge was fused, the crucible was installed in an electric resistance furnace. The temperature in the furnace for 1-1.5 hours was raised to T per. 1000 about C and withstood t per. 5 hours with stirring of the melt solution (stirrer rotation speed ω = 60 rpm, platinum stirrer, PL 99.9 platinum). Then the stirrer was turned off, and lowers the temperature for 20-25 min to T 1830 ° C, followed by aging for 1 to 24 hours t and stirring the molten solution, ω = 60 rev / min. Then the temperature was raised to T 2 835 about With 1-2 minutes, followed by a decrease in the law T t = T 2 - 10 -7 t 3 . At a temperature Т tcon ≈ 825 о С, the mixer, with the crystals grown on it, was raised above the crucible, and the furnace was switched off.

Были получены 15-20 монокристаллов GaBO3 размером от 2х2х1 дот 5х5х2,5 мм3.15–20 GaBO 3 single crystals were obtained with sizes ranging from 2 × 2 × 1 to 5 × 5 × 2.5 mm 3 .

П р и м е р 2. Шихту массой 300 г (Ga2O3 - 18,6 мас.% квалификации ОСЧ, В2О3 - 42,4 мас.% квалификации ОСЧ, PbО - 27,3 мас.% квалификации ОСЧ, PbF2 - 11,7 мас.% квалификации ОСЧ) наплавляли в платиновый тигель объемом 225 см3 (стакан конусный, платина ПЛ 99,9 ТКА 07073 ТУ-48-1-447-83, D 70, d 60, δ1,0, 70) при температуре ≈850оС. Глубина наплавленного раствора-расплава 25 мм. Температура насыщения Тнас. 860оС. После наплавления шихты тигель устанавливали в печь электрического сопротивления. Температуру в печи за 1-1,5 ч поднимали до Тпер. = 1000оС и выдерживали tпер. 7 ч с перемешиванием раствора-расплава (скорость вращения мешалки ω 50 об/мин, мешалка платиновая, платина ПЛ 99,9). Затем мешалка отключалась и следовало понижение температуры за 20-25 мин до Т1 845оС с последующей выдержкой в течение t1 22 ч и перемешиванием раствора-расплава, ω 50 об/мин. Затем температуру поднимали до Т2 850оС за 1-3 мин с последующим понижением по закону Тt = Т2 - 10-7 t3. При температуре Тtкон. ≈841оС мешалка, с выросшими на ней кристаллами, была поднята над тиглем, а печь отключена. Были получены около 20 монокристаллов GaBO3 размером от 2х2х1 до 5х4х2,5 мм3.PRI me R 2. The mixture weighing 300 g (Ga 2 O 3 - 18.6 wt.% Qualification OSH, In 2 About 3 - 42.4 wt.% Qualification OSH, PbO - 27.3 wt.% Qualification TSP, PbF 2 - 11.7 wt.% TSP qualification) was melted into a 225 cm 3 platinum crucible (conical beaker, PL 99.9 TKA 07073 TU-48-1-447-83, D 70, d 60, δ1 platinum , 0, 70) at a temperature of ≈850 о С. The depth of the deposited melt solution is 25 mm. Saturation temperature T us. 860 C. After the batch fusing the crucible was set in a furnace of the electric resistance. The temperature in the furnace for 1-1.5 hours was raised to T per. = 1000 about C and withstood t per. 7 hours with stirring of the melt solution (stirrer rotation speed ω 50 rpm, platinum stirrer, PL 99.9 platinum). Then the mixer was turned off and the temperature decreased for 20–25 min to Т 1 845 о С, followed by exposure for t 1 22 h and stirring of the melt solution, ω 50 r / min. The temperature was then raised to T 2 850 C for 1-3 minutes followed by lowering the law T t = T 2 - 10 -7 t 3. At a temperature T tcon. ≈841 о С the stirrer, with crystals grown on it, was raised above the crucible, and the furnace was turned off. About 20 GaBO 3 single crystals were obtained with sizes ranging from 2 × 2 × 1 to 5 × 4 × 2.5 mm 3 .

П р и м е р 3. Шихту массой 400 г (Ga2O3 - 16,8 мас.% квалификации ОСЧ, В2О3 - 42,9 мас.% квалификации ОСЧ, PbO + 28,2 мас.% квалификации ОСЧ, PBF2 - 12.1 мас.% квалификации ОСЧ) наплавляли в платиновый тигель объемом 225 см3 (стакан конусный, платина ПЛ 99,9 ТКА 07073 ТУ-48-1-447-83, D = 70, d = 60, δ= 1,0, Н = 70) при температуре ≈850оС. Глубина наплавленного раствора-расплава 15 мм. Температура насыщения Тнас. 830оС. После наплавления шихты тигель устанавливали в печь электрического сопротивления. Температуру в печи за 1-1,5 ч поднимали до Тпер. 950оС и выдерживали tпер. 7 ч с перемешиванием раствора-расплава (скорость вращения мешалки ω= 60 об/мин, мешалка платиновая, платина ПЛ 99,9). Затем мешалку отключали и следовало понижение темпертатуры за 20-25 мин до Т1 815оС с последующей выдержкой в течение t1 24 ч и перемешиванием раствора-расплава, ω= 60 об/мин. Затем температуру поднимали до Т2 822оС за 1-2 мин с последующим понижением по закону Тt = = Т2 - 7˙ 10-8 t 3. При температуре Тtкон≈813оС мешалка, с выросшими на ней кристаллами, была поднята над тиглем, а печь отключена. Были получены около 20 монокристаллов GaBO3, размеры от 2х2х1 до 4х4х2 мм3.PRI me R 3. The mixture weighing 400 g (Ga 2 O 3 - 16.8 wt.% Qualification TSP, In 2 About 3 - 42.9 wt.% Qualification TSP, PbO + 28.2 wt.% Qualification TSP, PBF 2 - 12.1 wt.% TSP qualification) was melted into a 225 cm 3 platinum crucible (conical beaker, PL 99.9 TKA 07073 TU-48-1-447-83 platinum, D = 70, d = 60, δ = 1.0, Н = 70) at a temperature of ≈850 о С. The depth of the deposited melt solution is 15 mm. Saturation temperature T us. 830 C. After the batch fusing the crucible was set in a furnace of the electric resistance. The temperature in the furnace for 1-1.5 hours was raised to T per. 950 about C and kept t per. 7 hours with stirring the melt solution (stirrer rotation speed ω = 60 rpm, platinum stirrer, PL 99.9 platinum). Then the mixer was turned off and the temperature was reduced in 20–25 min to Т 1 815 о С, followed by exposure for t 1 24 h and stirring of the melt solution, ω = 60 r / min. The temperature was then raised to T 2 822 C for 1-2 minutes followed by lowering the law T t = = T 2 - 7˙ 10 -8 t 3. At a temperature Т tcon ≈813 о С, the mixer, with the crystals grown on it, was raised above the crucible, and the furnace was switched off. About 20 GaBO 3 single crystals were obtained, sizes from 2 × 2 × 1 to 4 × 4 × 2 mm 3 .

Данные по другим экспериментам, приведенным по такой же схеме, но с другим соотношением компонентов раствора-расплава, приведены в таблице. Data for other experiments shown in the same way, but with a different ratio of the components of the solution-melt, are given in the table.

Claims (1)

СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ БОРАТА ГАЛЛИЯ GaBO3, включающий перегрев раствора-расплава в тигле, содержащего оксид галлия Ga2O3 и оксид бора В2О3, кристаллизацию и последующее охлаждение, отличающийся тем, что, с целью увеличения размеров монокристаллов и упрощения способа, в раствор-расплав дополнительно вводят оксид и фторид свинца при следующем соотношении компонентов, мас.%:
Оксид галлия Ga2O3 16,8 - 18,6
Оксид бора В2О3 42,4 - 42,9
Оксид свинца РвО 27,3 - 28,2
Фторид свинца PbF 11,7 - 12,1
перегрев ведут до 950 - 1000oС при перемешивании раствора-расплава мешалкой, затем охлаждают его до T1 = 815 - 845oС и выдерживают 22 - 24 ч, после чего нагревают раствор-расплав до T2 = 820 - 850oС, а затем охлаждают на 10oС по закону
Tt = T2 - α t 3 ,
где Tt - текущая температура, oС;
α = 10-7 - 10-8;
t - текущее время,
после чего мешалку с выросшими кристаллами поднимают над тиглем и отделяют кристаллы.
METHOD FOR GROWING GALLIUM BORATE SINGLE CRYSTALS GaBO 3 , including overheating of a melt solution in a crucible containing gallium oxide Ga 2 O 3 and boron oxide B 2 O 3 , crystallization and subsequent cooling, characterized in that, in order to increase the size of single crystals and simplify the method, lead oxide and fluoride are additionally introduced into the melt solution in the following ratio of components, wt.%:
Gallium oxide Ga 2 O 3 16.8 - 18.6
Boron oxide B 2 O 3 42.4 - 42.9
Lead oxide RvO 27.3 - 28.2
Lead fluoride PbF 11.7 - 12.1
overheating is carried out to 950 - 1000 o С while stirring the melt solution with a stirrer, then it is cooled to T 1 = 815 - 845 o С and incubated for 22 - 24 hours, after which the melt solution is heated to T 2 = 820 - 850 o С, and then cooled at 10 o With the law
T t = T 2 - α t 3 ,
where T t is the current temperature, o C;
α = 10 -7 - 10 -8 ;
t is the current time,
after which the mixer with the grown crystals is raised above the crucible and the crystals are separated.
SU4931917 1991-04-29 1991-04-29 METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS RU2019584C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4931917 RU2019584C1 (en) 1991-04-29 1991-04-29 METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4931917 RU2019584C1 (en) 1991-04-29 1991-04-29 METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2019584C1 true RU2019584C1 (en) 1994-09-15

Family

ID=21572220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4931917 RU2019584C1 (en) 1991-04-29 1991-04-29 METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2019584C1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Руденко В.В. Магнитная анизотропия ромбоэдрических антиферромагнитных кристаллов со слабым ферромагнетизмом. Кандидатская диссертация. Симферополь, 1983 г., с.113-117. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4040895A (en) Control of oxygen in silicon crystals
JPH0152359B2 (en)
JP2002293693A (en) Terbium-aluminum-garnet single crystal and method of manufacturing for the same
EP0092409B1 (en) Process for manufacturing boron-doped gallium arsenide single crystal
RU2019584C1 (en) METHOD OF GROWING OF GALLIUM BORATE GaBO3 MONOCRYSTALS
JP3289896B2 (en) Doped crystalline compositions and methods for their production
Bonner A novel non-Pb flux system for the preparation of yttrium and rare earth iron gallium and aluminum garnets
Burianek et al. Crystal growth of boron sillenite Bi24B2O39
JPH0244798B2 (en)
JPH0234597A (en) Growing method for gaas single crystal by horizontal bridgman method
JPH11268998A (en) Gallium arsenic single crystal ingot, its production, and gallium arsenic single crystal wafer using the same
US4302280A (en) Growing gadolinium gallium garnet with calcium ions
US4046954A (en) Monocrystalline silicates
JP3237408B2 (en) Method for manufacturing compound semiconductor crystal
RU2108418C1 (en) Method for growing single crystals of lanthanum-gallium silicate
JP3196182B2 (en) Single crystal growth method
US3051656A (en) Method of preparing magnetic garnet crystals
JP3216297B2 (en) Liquid phase epitaxial growth equipment
JPH10152393A (en) Growth of bulk crystal and seed crystal for bulk crystal growth
RU2112820C1 (en) Method of growing lithium triborate monocrystals
RU1175186C (en) Method of obtaining crystals with beryllium structure
RU1816813C (en) Process for preparing potassium and lead orthosilicate monocrystals
RU2156327C2 (en) Method of preparing charge for growing lanthanum-gallium silicate monocrystals
JP2739547B2 (en) Method for producing lithium borate single crystal
JP2787995B2 (en) Method for producing lithium tetraborate single crystal