RU2015101588A - Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью - Google Patents

Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью Download PDF

Info

Publication number
RU2015101588A
RU2015101588A RU2015101588A RU2015101588A RU2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
reaction chamber
stacks
installation according
longitudinal direction
loading devices
Prior art date
Application number
RU2015101588A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2635051C2 (ru
Inventor
Себастьен БЕРТРАН
Франк ЛАМУРУ
Стефан ГУЖАР
Седрик ДЕСКАМП
Original Assignee
Геракл
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Геракл filed Critical Геракл
Publication of RU2015101588A publication Critical patent/RU2015101588A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2635051C2 publication Critical patent/RU2635051C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

1. Установка (600) химической инфильтрации в паровой фазе пористых преформ (20) трехмерной формы, в основном вытянутых в продольном направлении, содержащая:реакционную камеру (610) параллелепипедальной формы, причем боковые стенки (611-614) реакционной камеры содержат нагревательные средства (615), несколько штабелей (50) загрузочных устройств (10), расположенных внутри реакционной камеры (610), причем каждое из загрузочных устройств (10) образовано параллелепипедальной оболочкой (11), снабженной несущими элементами (1100, 1110), предназначенными для размещения на них пористых преформ (20), предназначенных для инфильтрации.2. Установка по п. 1, в которой реакционная камера (610) имеет форму прямоугольного параллелепипеда, причем установка содержит по меньшей мере один ряд (510) из нескольких штабелей (50) загрузочных устройств (10), причем указанный ряд ориентирован в продольном направлении реакционной камеры.3. Установка по п. 2, в которой каждое загрузочное устройство (10) образовано оболочкой (11), имеющей форму прямоугольного параллелепипеда, причем штабели (50) размещены внутри указанной камеры (610) так, что продольное направление каждого загрузочного устройства (10) в реакционной камере ориентировано перпендикулярно продольному направлению камеры.4. Установка по п. 2, в которой реакционная камера (10) содержит несколько рядов (510, 520, 530) штабелей (50) загрузочных устройств (10), ориентированных в продольном направлении реакционной камеры, причем между двумя рядами штабелей загрузочных устройств расположены нагревательные средства (717).5. Установка по п. 1, в которой каждый штабель (50) содержит расположенные на его краях буферные зоны (540; 550), не предназначенные для размещения в них пористых подложек, предназначенных для уплотнения.6.

Claims (9)

1. Установка (600) химической инфильтрации в паровой фазе пористых преформ (20) трехмерной формы, в основном вытянутых в продольном направлении, содержащая:
реакционную камеру (610) параллелепипедальной формы, причем боковые стенки (611-614) реакционной камеры содержат нагревательные средства (615), несколько штабелей (50) загрузочных устройств (10), расположенных внутри реакционной камеры (610), причем каждое из загрузочных устройств (10) образовано параллелепипедальной оболочкой (11), снабженной несущими элементами (1100, 1110), предназначенными для размещения на них пористых преформ (20), предназначенных для инфильтрации.
2. Установка по п. 1, в которой реакционная камера (610) имеет форму прямоугольного параллелепипеда, причем установка содержит по меньшей мере один ряд (510) из нескольких штабелей (50) загрузочных устройств (10), причем указанный ряд ориентирован в продольном направлении реакционной камеры.
3. Установка по п. 2, в которой каждое загрузочное устройство (10) образовано оболочкой (11), имеющей форму прямоугольного параллелепипеда, причем штабели (50) размещены внутри указанной камеры (610) так, что продольное направление каждого загрузочного устройства (10) в реакционной камере ориентировано перпендикулярно продольному направлению камеры.
4. Установка по п. 2, в которой реакционная камера (10) содержит несколько рядов (510, 520, 530) штабелей (50) загрузочных устройств (10), ориентированных в продольном направлении реакционной камеры, причем между двумя рядами штабелей загрузочных устройств расположены нагревательные средства (717).
5. Установка по п. 1, в которой каждый штабель (50) содержит расположенные на его краях буферные зоны (540; 550), не предназначенные для размещения в них пористых подложек, предназначенных для уплотнения.
6. Установка по п. 5, в которой горизонтальные стенки (620, 630) реакционной камеры содержат нагревательные средства.
7. Установка по п. 6, в которой загрузочные устройства (10) каждого из штабелей (50) содержат волоконные преформы (20) лопаток авиационного двигателя.
8. Установка по п. 7, в которой волоконные преформы (20) лопаток в каждом из загрузочных устройств (10) выровнены в одну линию, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы в одном и том же направлении.
9. Установка по п. 8, в которой в каждом из штабелей (50) загрузочных устройств (10) волоконные преформы (20) лопаток в первом загрузочном устройстве выровнены в линию и расположены рядом друг с другом, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы в первом направлении, а волоконные преформы (20) лопаток во втором загрузочном устройстве, соседнем с первым загрузочным устройством, выровнены в одну линию и расположены рядом друг с другом, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы во втором направлении, противоположном первому направлению.
RU2015101588A 2012-07-19 2013-07-12 Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью RU2635051C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1257012 2012-07-19
FR1257012A FR2993555B1 (fr) 2012-07-19 2012-07-19 Installation d'infiltration chimique en phase vapeur a haute capacite de chargement
PCT/FR2013/051674 WO2014013168A1 (fr) 2012-07-19 2013-07-12 Installation d'infiltration chimique en phase vapeur à haute capacité de chargement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015101588A true RU2015101588A (ru) 2016-09-10
RU2635051C2 RU2635051C2 (ru) 2017-11-08

Family

ID=47424987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015101588A RU2635051C2 (ru) 2012-07-19 2013-07-12 Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10392696B2 (ru)
EP (1) EP2875167B1 (ru)
JP (1) JP6227643B2 (ru)
CN (1) CN104540980B (ru)
BR (1) BR112015001190B1 (ru)
CA (1) CA2879223C (ru)
FR (1) FR2993555B1 (ru)
RU (1) RU2635051C2 (ru)
WO (1) WO2014013168A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2974387A1 (en) * 2016-08-30 2018-02-28 Rolls-Royce Corporation Swirled flow chemical vapor deposition
US11624287B2 (en) 2020-02-21 2023-04-11 Raytheon Technologies Corporation Ceramic matrix composite component having low density core and method of making
US11932941B1 (en) 2021-12-29 2024-03-19 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US12000046B1 (en) * 2021-12-29 2024-06-04 Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. Load assemblies for loading parts in a furnace
US20240110281A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 Raytheon Technologies Corporation Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration
US20240173890A1 (en) * 2022-11-29 2024-05-30 Raytheon Technologies Corporation Fixture with grooves for processing cmc article

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5480678A (en) 1994-11-16 1996-01-02 The B. F. Goodrich Company Apparatus for use with CVI/CVD processes
FR2733254B1 (fr) * 1995-04-18 1997-07-18 Europ Propulsion Procede d'infiltration chimique en phase vapeur pour la densification de substrats poreux disposes en piles annulaires
EP1072693A1 (en) 1999-07-27 2001-01-31 Iljin Nanotech Co., Ltd. Chemical vapor deposition apparatus and method of synthesizing carbon nanotubes using the apparatus
US6953605B2 (en) * 2001-12-26 2005-10-11 Messier-Bugatti Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas
FR2834713B1 (fr) 2002-01-15 2004-04-02 Snecma Moteurs Procede et installation pour la densification de substrats par infiltration chimique en phase vapeur
US20040253377A1 (en) * 2002-10-24 2004-12-16 Bok Lowell D. Batch and continuous CVI densification furnace
US20050183824A1 (en) * 2004-02-25 2005-08-25 Advanced Display Process Engineering Co., Ltd. Apparatus for manufacturing flat-panel display
FR2882064B1 (fr) * 2005-02-17 2007-05-11 Snecma Propulsion Solide Sa Procede de densification de substrats poreux minces par infiltration chimique en phase vapeur et dispositif de chargement de tels substrats
FR2900226B1 (fr) * 2006-04-25 2017-09-29 Messier Bugatti Four de traitement ou analogue
US8282334B2 (en) * 2008-08-01 2012-10-09 Picosun Oy Atomic layer deposition apparatus and loading methods
FR2980486B1 (fr) * 2011-09-28 2013-10-11 Snecma Propulsion Solide Dispositif de chargement pour la densification par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirige de substrats poreux de forme tridimensionnelle

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014013168A1 (fr) 2014-01-23
FR2993555B1 (fr) 2015-02-20
CN104540980A (zh) 2015-04-22
EP2875167B1 (fr) 2017-09-06
BR112015001190B1 (pt) 2021-06-08
CA2879223C (en) 2020-08-18
JP6227643B2 (ja) 2017-11-08
CA2879223A1 (en) 2014-01-23
BR112015001190A2 (pt) 2017-07-04
US10392696B2 (en) 2019-08-27
RU2635051C2 (ru) 2017-11-08
EP2875167A1 (fr) 2015-05-27
JP2015524514A (ja) 2015-08-24
FR2993555A1 (fr) 2014-01-24
US20150218693A1 (en) 2015-08-06
CN104540980B (zh) 2018-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015101588A (ru) Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью
RU2016110139A (ru) Аккумуляторная батарея
BR112014004393B8 (pt) Método para proporcionar unidades de transporte
UA104989C2 (ru) Канистра и контейнер для транспортировки, хранения и/или содержания отходов ядерного топлива
WO2015130377A3 (en) Structural honeycomb panel
MX2012007280A (es) Tanque acumulador con paredes divisorias.
ES2525197R1 (es) Caldera solar
EA201691637A1 (ru) Охлаждаемая складская система
RU2015155449A (ru) Пакет твердооксидных топливных элементов электрогенератора
MX2013006538A (es) Caja de retorno de intercambiador termico e intercambiador termico correspondiente.
WO2016028514A3 (en) Spent fuel storage rack
WO2012138192A3 (ko) 열풍 대류식 벨트타입 건조장치
BR112019023353A2 (pt) Conversor catalítico de leito múltiplo com resfriamento entre leitos
RU2013141911A (ru) Устройство для пиролиза углеродосодержащего сырья
BR112017020527A2 (pt) trocador de placa para reatores químicos com coletores soldáveis automaticamente
ES2444297B1 (es) Conjunto de almacenamiento térmico latente, de tipo modular
SA516371354B1 (ar) مبادل حراري ذو غلاف وأنابيب له غلاف ذو قطاع عديد الأضلاع
WO2013110938A3 (en) A generator for an absorption chiller and an absorption chiller comprising such a generator
WO2011147485A8 (en) Apparatus for digital printing on articles constituted by containers made of sintered expanded polystyrene
JP2016225304A5 (ru)
CN203895420U (zh) 容置单元和容置架
ATE456779T1 (de) Wärmetauscher
ES2692851T3 (es) Recinto de confinamiento para sistema de pila de combustible, concretamente para un vehículo submarino
CN204345965U (zh) 一种用于制冷循环系统的蓄能板
TW201402410A (zh) 棧板裝置