RU2013156037A - Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии - Google Patents
Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013156037A RU2013156037A RU2013156037/07A RU2013156037A RU2013156037A RU 2013156037 A RU2013156037 A RU 2013156037A RU 2013156037/07 A RU2013156037/07 A RU 2013156037/07A RU 2013156037 A RU2013156037 A RU 2013156037A RU 2013156037 A RU2013156037 A RU 2013156037A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- areas
- region
- feature
- image
- exposed
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
- G03B27/80—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus in dependence upon automatic analysis of the original
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/398—Design verification or optimisation, e.g. using design rule check [DRC], layout versus schematics [LVS] or finite element methods [FEM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
- H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31761—Patterning strategy
- H01J2237/31764—Dividing into sub-patterns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31774—Multi-beam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
1. Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии, способ содержит этапы, при которых:- предоставляют входное изображение, подлежащее экспонированию на целевую поверхность посредством множества составляющих пучков устройства для многопучковой литографии;- идентифицируют первые области в пределах входного изображения, при этом каждая первая область является областью, которая является экспонируемой исключительно одиночным составляющим пучком из множества составляющих пучков;- идентифицируют вторые области в пределах входного изображения, каждая вторая область является областью, которая является экспонируемой посредством более чем одного составляющего пучка из множества составляющих пучков; и- определяют, какой участок изображения должен экспонироваться каждым составляющим пучком, на основе оценки первой и второй областей,при этом оценка первой и второй областей заключается в том, что:- идентифицируют признаки входного изображения, подлежащего экспонированию;- определяют, для каждого признака, расположен ли признак в пределах одной или более первых областей, или вторых областей, либо обеих, и- при определении, что участок признака расположен в одной из вторых областей, и участки признака расположены в более чем одной из первых областей, назначают, для каждого такого признака, экспонирование участков признака в первых областях, соответствующим одиночным составляющим пучкам соответствующих первых областей, и назначают экспонирование участка признака во второй области одному или более составляющим пучкам, выполненным с возможностью экспонирования вто�
Claims (11)
1. Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии, способ содержит этапы, при которых:
- предоставляют входное изображение, подлежащее экспонированию на целевую поверхность посредством множества составляющих пучков устройства для многопучковой литографии;
- идентифицируют первые области в пределах входного изображения, при этом каждая первая область является областью, которая является экспонируемой исключительно одиночным составляющим пучком из множества составляющих пучков;
- идентифицируют вторые области в пределах входного изображения, каждая вторая область является областью, которая является экспонируемой посредством более чем одного составляющего пучка из множества составляющих пучков; и
- определяют, какой участок изображения должен экспонироваться каждым составляющим пучком, на основе оценки первой и второй областей,
при этом оценка первой и второй областей заключается в том, что:
- идентифицируют признаки входного изображения, подлежащего экспонированию;
- определяют, для каждого признака, расположен ли признак в пределах одной или более первых областей, или вторых областей, либо обеих, и
- при определении, что участок признака расположен в одной из вторых областей, и участки признака расположены в более чем одной из первых областей, назначают, для каждого такого признака, экспонирование участков признака в первых областях, соответствующим одиночным составляющим пучкам соответствующих первых областей, и назначают экспонирование участка признака во второй области одному или более составляющим пучкам, выполненным с возможностью экспонирования второго участка, на основании площади участков признака в первых областях.
2. Способ по п.1, в котором экспонирование участка признака во второй области, во всей своей полноте, назначается одному из составляющих пучков, выполненному с возможностью экспонирования упомянутой второй области.
3. Способ по п.1, в котором экспонирование участка признака во второй области назначается частично одному из составляющих пучков, выполненному с возможностью экспонирования упомянутой второй области, а частично другому одному из составляющих пучков, выполненному с возможностью экспонирования упомянутой второй области.
4. Способ по п.1, в котором назначение части признака во второй области является таким, что участок признака, назначенный упомянутому одному из составляющих пучков, является по существу таким же по размеру, как участок признака, назначенный другому одному из составляющих пучков.
5. Способ по любому одному из пп.1-4, при этом способ выполняется циклически в отношении двух смежных областей изображения, подлежащего экспонированию двумя разными составляющими пучками, и способ, после выполнения в отношении изображения, экспонируемого первыми двумя рассматриваемыми составляющими пучками, применяется к изображению, подлежащего экспонированию первым составляющим пучком, уже рассмотренным в более раннем цикле способа, и вторым пучком, выполненным с возможностью экспонирования участка изображения, прилегающего к участку, подлежащего экспонированию первым составляющим пучком.
6. Способ по п.5, при этом способ завершается после рассмотрения всех составляющих пучков.
7. Способ по любому одному из пп.1-4, дополнительно состоящий в том, что устанавливают минимальный размер признака, который должен экспонироваться одиночным составляющим пучком, в предопределенное значение.
8. Машинно-считываемый носитель, содержащий компьютерную программу, выполненную с возможностью для выполнения, когда приводится в исполнение процессором, способа для разбиения изображения по любому одному из предыдущих пунктов.
9. Устройство для литографии, содержащее:
- генератор составляющих пучков для формирования множества составляющих пучков;
- модулятор составляющих пучков для формирования изображения составляющих пучков, чтобы придавать форму модулированным составляющим пучкам;
- блок управления для выдачи входного сигнала для формирования изображения в модулятор составляющих пучков; и
- проектор составляющих пучков для проецирования модулированных составляющих пучков на поверхность целевого объекта;
при этом блок управления выполнен с возможностью приводить в исполнение способ для разбиения изображения по любому одному из пп.1-7.
10. Устройство для литографии по п.9, в котором блок управления выполнен с возможностью принимать машинно-считываемый файл данных, и способ для разбиения изображения применяется к данным в файле данных.
11. Устройство для литографии по п.10, в котором файл данных изображения снабжен меткой, указывающей, должен или нет применяться способ, и при этом блок управления выполнен с возможностью обнаруживать метку и принимать решение, должен или нет применяться способ для разбиения изображения, на основе значения метки.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161487465P | 2011-05-18 | 2011-05-18 | |
US61/487,465 | 2011-05-18 | ||
US201161488882P | 2011-05-23 | 2011-05-23 | |
US61/488,882 | 2011-05-23 | ||
PCT/EP2012/059269 WO2012156510A1 (en) | 2011-05-18 | 2012-05-18 | Method for splitting a pattern for use in a multi-beamlet lithography apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2013156037A true RU2013156037A (ru) | 2015-06-27 |
Family
ID=46085984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013156037/07A RU2013156037A (ru) | 2011-05-18 | 2012-05-18 | Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130120724A1 (ru) |
EP (1) | EP2710620A1 (ru) |
JP (1) | JP2014513871A (ru) |
RU (1) | RU2013156037A (ru) |
TW (1) | TW201303524A (ru) |
WO (1) | WO2012156510A1 (ru) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9460260B2 (en) | 2014-02-21 | 2016-10-04 | Mapper Lithography Ip B.V. | Enhanced stitching by overlap dose and feature reduction |
TWI661265B (zh) * | 2014-03-10 | 2019-06-01 | 美商D2S公司 | 使用多重射束帶電粒子束微影術於表面上形成圖案之方法 |
US11264206B2 (en) | 2014-03-10 | 2022-03-01 | D2S, Inc. | Methods and systems for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography |
EP3093869B1 (en) * | 2015-05-12 | 2018-10-03 | IMS Nanofabrication GmbH | Multi-beam writing using inclined exposure stripes |
US10410831B2 (en) * | 2015-05-12 | 2019-09-10 | Ims Nanofabrication Gmbh | Multi-beam writing using inclined exposure stripes |
TWI753865B (zh) | 2015-11-03 | 2022-02-01 | 以色列商奧寶科技有限公司 | 用於高解析度電子圖案化的無針跡直接成像 |
US10325756B2 (en) | 2016-06-13 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for compensating pattern placement errors caused by variation of pattern exposure density in a multi-beam writer |
WO2018074306A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 株式会社ニコン | 露光システム及びリソグラフィシステム |
US10325757B2 (en) | 2017-01-27 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Advanced dose-level quantization of multibeam-writers |
US10522329B2 (en) | 2017-08-25 | 2019-12-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus |
US11569064B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-01-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for irradiating a target using restricted placement grids |
US10651010B2 (en) | 2018-01-09 | 2020-05-12 | Ims Nanofabrication Gmbh | Non-linear dose- and blur-dependent edge placement correction |
US10840054B2 (en) | 2018-01-30 | 2020-11-17 | Ims Nanofabrication Gmbh | Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering |
US11099482B2 (en) | 2019-05-03 | 2021-08-24 | Ims Nanofabrication Gmbh | Adapting the duration of exposure slots in multi-beam writers |
KR20210132599A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 대전 입자 소스 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5112617B2 (ja) | 2002-10-25 | 2013-01-09 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | リソグラフィシステム |
WO2009127658A1 (en) | 2008-04-15 | 2009-10-22 | Mapper Lithography Ip B.V. | Projection lens arrangement |
-
2012
- 2012-05-18 JP JP2014510824A patent/JP2014513871A/ja active Pending
- 2012-05-18 WO PCT/EP2012/059269 patent/WO2012156510A1/en active Application Filing
- 2012-05-18 EP EP12721543.2A patent/EP2710620A1/en not_active Withdrawn
- 2012-05-18 US US13/474,744 patent/US20130120724A1/en not_active Abandoned
- 2012-05-18 RU RU2013156037/07A patent/RU2013156037A/ru not_active Application Discontinuation
- 2012-05-18 TW TW101117746A patent/TW201303524A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201303524A (zh) | 2013-01-16 |
JP2014513871A (ja) | 2014-06-05 |
US20130120724A1 (en) | 2013-05-16 |
EP2710620A1 (en) | 2014-03-26 |
WO2012156510A1 (en) | 2012-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2013156037A (ru) | Способ для разбиения изображения для использования в устройстве для многопучковой литографии | |
JP2017087676A5 (ja) | 画像処理装置及びその方法及びプログラム | |
EP2860694A3 (en) | Image processing apparatus, image pickup apparatus, image processing method, image processing program, and non-transitory computer-readable storage medium | |
JP2017026992A5 (ru) | ||
ATE544297T1 (de) | Verfahren, vorrichtung und system zur verarbeitung von tiefenbezogenen informationen | |
JP2018036897A5 (ja) | 画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム | |
JP2014106476A5 (ru) | ||
JP2017517818A5 (ru) | ||
JP2014115109A5 (ru) | ||
JP2013016710A5 (ru) | ||
KR20140088697A (ko) | 깊이 영상 처리 장치 및 방법 | |
JP2012054426A5 (ru) | ||
RU2014114176A (ru) | Устройство и способ одновременного трехмерного измерения поверхностей несколькими длинами волн | |
US20170028648A1 (en) | 3d data generation apparatus and method, and storage medium | |
JP2012054425A5 (ru) | ||
US20140285816A1 (en) | Measuring device, measuring method, and computer program product | |
JP2012098397A5 (ru) | ||
EP2887658A3 (en) | Projection apparatus, geometric correction adjustment method, and program for geometric correction adjustment | |
JP2017156581A5 (ru) | ||
US20150261186A1 (en) | Digital holographic image recording method and system based on hierarchical hogel | |
JP2012185158A5 (ru) | ||
WO2012144848A3 (ko) | 기설정 배율각을 가진 다중투사광의 2차원 영상획득을 통한 3차원 인식 방법 | |
WO2017060296A3 (de) | Verfahren und vorrichtung zur strahlanalyse | |
JP6420131B2 (ja) | 検査システム、及び検査方法 | |
JP2018055258A5 (ru) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20150519 |