RU2010393C1 - Process of removal of plastic coats - Google Patents

Process of removal of plastic coats Download PDF

Info

Publication number
RU2010393C1
RU2010393C1 SU4823585A RU2010393C1 RU 2010393 C1 RU2010393 C1 RU 2010393C1 SU 4823585 A SU4823585 A SU 4823585A RU 2010393 C1 RU2010393 C1 RU 2010393C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
removal
arc
plastic coats
plasma
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
А.Д. Мосеенков
Original Assignee
Мосеенков Аркадий Дмитриевич
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Мосеенков Аркадий Дмитриевич filed Critical Мосеенков Аркадий Дмитриевич
Priority to SU4823585 priority Critical patent/RU2010393C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2010393C1 publication Critical patent/RU2010393C1/en

Links

Images

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

FIELD: semiconductor equipment. SUBSTANCE: for removal of plastic coats of semiconductor device plasma is created by passing of current through gas medium above treated coat. Attack on coat is performed with plasmoids having duration from 10 to 15 μs which are formed with the aid of pulse magnetic field. EFFECT: enhanced efficiency of removal of plastic coats. 1 dwg

Description

Изобретение относится к электронной технике, к механической обработке полупроводниковых приборов в пластмассовых корпусах, где снятие покрытий с изделий производится путем обработки их сыпучими материалами, эжектируемыми воздухом через форсунки [1] . The invention relates to electronic equipment, to the machining of semiconductor devices in plastic cases, where the removal of coatings from products is carried out by treating them with bulk materials ejected by air through nozzles [1].

Наиболее близким к предлагаемому является способ изготовления тонких структур для контактирования полупроводников [2] , где покрытие удаляется путем испарения под действием импульсного излучения эксимерным лазером, получаемого кратковременным включением излучения. Этот способ требует уникальности оборудования при низкой производительности ввиду малых зон обработки и экранирующего действия порошкообразных остатков облоя. Closest to the proposed method is the manufacture of thin structures for contacting semiconductors [2], where the coating is removed by evaporation under the action of pulsed radiation by an excimer laser, obtained by short-term inclusion of radiation. This method requires equipment uniqueness at low productivity due to the small processing zones and the shielding effect of the powdery residues of the flash.

Целью изобретения является повышение эффективности и качества снятии покрытия, которая достигается тем, что при снятии покрытий полупроводниковых приборов, плазму создают путем пропускания тока в газовой среде над обрабатываемым покрытием, а воздействие на покрытие осуществляют сгустками плазмы длительностью 10-15 мкс, которые формируют с помощью импульсного магнитного поля. The aim of the invention is to increase the efficiency and quality of the removal of the coating, which is achieved by the fact that when removing the coatings of semiconductor devices, a plasma is created by passing current in a gaseous medium above the treated coating, and exposure to the coating is carried out by plasma clots with a duration of 10-15 μs, which are formed using pulsed magnetic field.

Для обработки покрытия применяется электродуга постоянного тока косвенного действия. На чертеже 1 - внутренний цилиндрический электрод, 2 - наружный цилиндрический электрод, 3 - электрическая дуга, 4 - изделие, 5 - катушка, 6 - покрытие. An indirect arc electric arc of indirect current is used to process the coating. In the drawing 1 - an inner cylindrical electrode, 2 - an outer cylindrical electrode, 3 - an electric arc, 4 - product, 5 - coil, 6 - coating.

Расстояние электродов от обрабатываемой поверхности зависит от скорости вращения и длины перемещения дуги и от термостойкости покрытия. The distance of the electrodes from the treated surface depends on the speed of rotation and the length of movement of the arc and on the heat resistance of the coating.

Геометрические и электрические параметры дуги, необходимые для разогрева покрытия: напряжение дуги 30 В при токе 100 А, напряжение холостого хода 180 В, длина дуги 1,5-2 мм, ширина дуги 1-1,5 мм. The geometric and electrical parameters of the arc necessary for heating the coating: arc voltage 30 V at a current of 100 A, open circuit voltage 180 V, arc length 1.5-2 mm, arc width 1-1.5 mm.

Например, для снятия пластмассового облоя полупроводниковых приборов, получаемого в виде пленки толщиной до 1 мм, расстояние между электродами и поверхностью равно 3-4 мм при скорости перемещения дуги 20 м/с. Для снятия автомобильной краски расстояние между электродами и поверхностью можно увеличить до 4-5 мм при скорости перемещения дуги 20 м/с. В обоих случаях расход инертного газа равен 1 л/с, а диаметр окружности перемещения дуги - 100 мм. For example, to remove the plastic coating of semiconductor devices, obtained in the form of a film up to 1 mm thick, the distance between the electrodes and the surface is 3-4 mm at an arc velocity of 20 m / s. To remove automotive paint, the distance between the electrodes and the surface can be increased to 4-5 mm at an arc speed of 20 m / s. In both cases, the inert gas flow rate is 1 l / s, and the diameter of the circumference of the arc displacement is 100 mm.

В сравнении с известным техническим решением в предлагаемом способе не только увеличивается производительность снятия покрытия, но обеспечивается снятие с изделий покрытий повышенной толщины, исключается ручная операция дозачистки. (56) 1. Электронная промышленность, 1982, N 1, с. 59-63. In comparison with the known technical solution, the proposed method not only increases the performance of removing the coating, but also provides removal from the products of coatings of increased thickness, eliminates the manual operation of additional cleaning. (56) 1. Electronic Industry, 1982, N 1, p. 59-63.

2. Заявка ФРГ N 3608410, кл. Н 01 L 21/48, 1987. 2. Application of Germany N 3608410, cl. H 01 L 21/48, 1987.

Claims (1)

СПОСОБ СНЯТИЯ ПЛАСТМАССОВЫХ ПОКРЫТИЙ , включающий воздействие на покpытие плазмой и механическое удаление покpытия, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности пpи снятии покpытий полупpоводниковых пpибоpов, плазму создают путем пpопускания тока в газовой сpеде над обpабатываемым покpытием, а воздействие на покpытие осуществляют сгустками плазмы длительностью 10 - 15 мкс, котоpые фоpмиpуют с помощью импульсного магнитного поля.  METHOD FOR REMOVING PLASTIC COATINGS, including exposure to a plasma coating and mechanical removal of a coating, characterized in that, in order to increase efficiency when removing coatings of semiconductor devices, a plasma is created by passing current in a gaseous medium over a coating that is coated with a coating 10 - 15 μs, which are generated using a pulsed magnetic field.
SU4823585 1990-05-07 1990-05-07 Process of removal of plastic coats RU2010393C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4823585 RU2010393C1 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Process of removal of plastic coats

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU4823585 RU2010393C1 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Process of removal of plastic coats

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2010393C1 true RU2010393C1 (en) 1994-03-30

Family

ID=21513284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU4823585 RU2010393C1 (en) 1990-05-07 1990-05-07 Process of removal of plastic coats

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2010393C1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4414765B2 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
JP2003217898A (en) Discharge plasma processing device
US5225659A (en) Method and apparatus for surface treating an axially symmetric substrate at atmosphere pressure
JP2003019433A (en) Discharge plasma treating apparatus and treating method using the same
JP2003093869A (en) Discharge plasma treatment apparatus
JPH0465156B2 (en)
JP2002058995A (en) Plasma treating device and plasma treating method
RU2010393C1 (en) Process of removal of plastic coats
JP4348176B2 (en) Dry etching processing apparatus and processing method
KR100491140B1 (en) Method and apparatus for removing contaminants from the surface of a substrate with atmospheric-pressure plasma
JP2002110397A (en) Generating method of normal pressure pulse plasma
JP2022020586A (en) Additive manufacturing apparatus and method for component
JP2003318000A (en) Discharge plasma treatment apparatus
JP3782708B2 (en) Discharge plasma processing apparatus and discharge plasma processing method using the same
JP2002151480A (en) Processing method for semiconductor element and device therefor
JP2002094221A (en) Normal pressure pulse plasma treatment method and its device
JP2002020514A (en) Method for modifying surface of fluororesin
RU2052540C1 (en) Film coating deposition method
JP2002320845A (en) Normal pressure plasma treatment device
JP2008047372A (en) Plasma generating apparatus
JP3984514B2 (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR200306427Y1 (en) Apparatus for removing contaminants from the surface of a substrate with atmospheric-pressure plasma
JP2003129246A (en) Discharge plasma treatment apparatus
JP3773510B2 (en) Discharge plasma processing method and discharge plasma processing apparatus
JP2004115896A (en) Discharge plasma treatment device, and discharge plasma treatment method