RU2001133770A - METHOD FOR PRODUCING ION BEAM - Google Patents

METHOD FOR PRODUCING ION BEAM

Info

Publication number
RU2001133770A
RU2001133770A RU2001133770/09A RU2001133770A RU2001133770A RU 2001133770 A RU2001133770 A RU 2001133770A RU 2001133770/09 A RU2001133770/09 A RU 2001133770/09A RU 2001133770 A RU2001133770 A RU 2001133770A RU 2001133770 A RU2001133770 A RU 2001133770A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
ion beam
target
probe
substrate
electric
Prior art date
Application number
RU2001133770/09A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2219618C2 (en
Inventor
Евгений Николаевич Ивашов
Борис Глебович Львов
Сергей Валентинович Степанчиков
Original Assignee
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электроники и математики (технический университет) filed Critical Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Priority to RU2001133770A priority Critical patent/RU2219618C2/en
Priority claimed from RU2001133770A external-priority patent/RU2219618C2/en
Publication of RU2001133770A publication Critical patent/RU2001133770A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2219618C2 publication Critical patent/RU2219618C2/en

Links

Claims (1)

Способ получения ионного луча, включающий ионизацию инертного газа электронами, возбужденными пересекающимися электрическим и магнитным полями, бомбардировку ионизированным газом мишени, отличающийся тем, что поток электронов и первичный ионный луч создают от мишени к зонду путем последовательного воздействия прямым электрическим, магнитным и обратным электрическим полями, затем между мишенью и зондом устанавливают подложку и вновь воздействуют прямым электрическим полем, причем мишень и подложку предварительно электрически связывают и создают вторичный ионный луч.A method for producing an ion beam, including ionizing an inert gas by electrons excited by intersecting electric and magnetic fields, bombarding an ionized target gas, characterized in that the electron stream and the primary ion beam are generated from the target to the probe by successive exposure to direct electric, magnetic and reverse electric fields, then a substrate is mounted between the target and the probe and again exposed to a direct electric field, the target and the substrate being previously electrically connected They melt and create a secondary ion beam.
RU2001133770A 2001-12-17 2001-12-17 Ion beam generation process RU2219618C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2001133770A RU2219618C2 (en) 2001-12-17 2001-12-17 Ion beam generation process

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2001133770A RU2219618C2 (en) 2001-12-17 2001-12-17 Ion beam generation process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2001133770A true RU2001133770A (en) 2003-07-20
RU2219618C2 RU2219618C2 (en) 2003-12-20

Family

ID=32065738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2001133770A RU2219618C2 (en) 2001-12-17 2001-12-17 Ion beam generation process

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2219618C2 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2001026133A8 (en) High transmission, low energy beamline apparatus for ion implanter
US6294862B1 (en) Multi-cusp ion source
JP2005339812A (en) Mass spectroscope
RU2002106203A (en) Electromagnet for beam control (options) and a beam control method using it
AU2007201217B2 (en) Ion detection system with neutral noise suppression
US4542321A (en) Inverted magnetron ion source
WO2002093987A3 (en) Ion sorces
EP0473227A2 (en) Magnet for use in a drift tube of an X-ray tube
DE10083121D2 (en) Electron impact ion source
WO2011007830A1 (en) Film-forming apparatus
RU2001133770A (en) METHOD FOR PRODUCING ION BEAM
Leung The application and status of the radio frequency driven multi-cusp ion source
JPH0660840A (en) Magnetic quadrupole lens and ion-beam accelerating and decelerating devices using it
JPS6244936A (en) Ion beam generating method and device therefor
RU2219618C2 (en) Ion beam generation process
JP3079585B2 (en) Neutral particle mass spectrometer
JPS6046368A (en) Sputtering target
JPH0636734A (en) Manufacture of substrate by ion implanting method
JP4219925B2 (en) Magnetron sputtering equipment
RU2000102560A (en) METHOD OF INDUSTRIAL ELECTROMAGNETIC SEPARATION OF ISOTOPES OF CHEMICAL ELEMENTS
WO2006008541A3 (en) Electronic apparatus
JP3236928B2 (en) Dry etching equipment
JP2627420B2 (en) Fast atom beam source
JP2834147B2 (en) Method of forming charged particle beam
JPH0750637B2 (en) Fast atom beam source