RU2000109697A - METHOD OF ION-PLASMA APPLICATION OF COATINGS ON A SUBSTRATE - Google Patents

METHOD OF ION-PLASMA APPLICATION OF COATINGS ON A SUBSTRATE

Info

Publication number
RU2000109697A
RU2000109697A RU2000109697/02A RU2000109697A RU2000109697A RU 2000109697 A RU2000109697 A RU 2000109697A RU 2000109697/02 A RU2000109697/02 A RU 2000109697/02A RU 2000109697 A RU2000109697 A RU 2000109697A RU 2000109697 A RU2000109697 A RU 2000109697A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
coating
cathode
cleaning
annealing
Prior art date
Application number
RU2000109697/02A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2192501C2 (en
Inventor
Феликс Алексеевич Голощапов
Иван Анатольевич Кузнецов
Валерий Павлович Петров
Юрий Александрович Пестов
Виктор Никонорович Семенов
Геннадий Григорьевич Деркач
Александр Игоревич Додонов
Original Assignee
ОАО "Научно-производственное объединение энергетического машиностроения им. академика В.П. Глушко"
Filing date
Publication date
Application filed by ОАО "Научно-производственное объединение энергетического машиностроения им. академика В.П. Глушко" filed Critical ОАО "Научно-производственное объединение энергетического машиностроения им. академика В.П. Глушко"
Priority to RU2000109697A priority Critical patent/RU2192501C2/en
Priority claimed from RU2000109697A external-priority patent/RU2192501C2/en
Publication of RU2000109697A publication Critical patent/RU2000109697A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2192501C2 publication Critical patent/RU2192501C2/en

Links

Claims (10)

1. Способ ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку в вакуумированной среде инертного газа, включающий очистку поверхности подложки ионным потоком за счет создания разности электрических потенциалов между подложкой и катодом, нанесения покрытия при заданной выдержке после снижения разности потенциалов между ними с последующим повышением разности потенциалов с целью отжига покрытия, отличающийся тем, что при очистке поверхности подложки ионный поток и поток испаряющегося материала от катода к подложке экранируют, очищают поверхность подложки ионами инертного газа, а нанесение покрытия с последующим отжигом осуществляют неоднократно до получения слоя требуемой толщины.1. The method of ion-plasma coating on a substrate in a vacuum inert gas medium, comprising cleaning the surface of the substrate with an ion stream by creating a difference in electric potentials between the substrate and the cathode, coating at a given exposure after reducing the potential difference between them, followed by increasing the potential difference with the purpose of coating annealing, characterized in that when cleaning the surface of the substrate, the ion stream and the stream of evaporating material from the cathode to the substrate are shielded, cleaned more ited substrate by ions of an inert gas, and applying a coating, followed by annealing is performed repeatedly until the desired layer thickness. 2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что экранирование ионного потока и потока испаряющегося материала прекращают после завершения процесса очистки поверхности подложки. 2. The method according to p. 1, characterized in that the screening of the ion flow and the flow of the evaporating material is stopped after completion of the cleaning process of the surface of the substrate. 3. Способ по пп. 1-2, отличающийся тем, что подложка выполнена из высоколегированного сплава на никелевой основе. 3. The method according to PP. 1-2, characterized in that the substrate is made of a high alloy nickel-base alloy. 4. Способ по пп. 1-3, отличающийся тем, что в качестве материала катода используют никель. 4. The method according to PP. 1-3, characterized in that nickel is used as the cathode material. 5. Способ по пп. 1-4, отличающийся тем, что в качестве инертного газа используют аргон. 5. The method according to PP. 1-4, characterized in that the inert gas using argon. 6. Способ по пп. 1-5, отличающийся тем, что процессы очистки поверхности подложки, имеющей сложную конфигурацию, нанесение на нее покрытия, а также проведение отжигов осуществляют при ее вращении. 6. The method according to PP. 1-5, characterized in that the processes of cleaning the surface of the substrate having a complex configuration, coating on it, as well as annealing is carried out during its rotation. 7. Способ по пп. 1-6, отличающийся тем, что очистку поверхности подложки проводят при напряжении между катодом и подложкой 1000-1500 В при разрежении в камере 5•10-3-1•10-4 мм рт. ст.7. The method according to PP. 1-6, characterized in that the cleaning of the surface of the substrate is carried out at a voltage between the cathode and the substrate of 1000-1500 V with a vacuum in the chamber of 5 • 10 -3 -1 • 10 -4 mm RT. Art. 8. Способ по пп. 1-7, отличающийся тем, что нанесение покрытия на подложку проводят при напряжении 100-200 В между ней и катодом. 8. The method according to PP. 1-7, characterized in that the coating on the substrate is carried out at a voltage of 100-200 V between it and the cathode. 9. Способ по пп. 1-8, отличающийся тем, что отжиги слоев покрытия проводят при напряжении 1250-1500 В между подложкой и катодом. 9. The method according to PP. 1-8, characterized in that the annealing of the coating layers is carried out at a voltage of 1250-1500 V between the substrate and the cathode. 10. Способ по пп. 1-9, отличающийся тем, что после удаления из камеры подложки с нанесенным покрытием ее подвергают диффузионному отжигу при температуре 1000±50oС в вакууме не ниже 1•10-3 мм рт. ст.10. The method according to PP. 1-9, characterized in that after removing the coated substrate from the chamber, it is subjected to diffusion annealing at a temperature of 1000 ± 50 o C in a vacuum of at least 1 • 10 -3 mm RT. Art.
RU2000109697A 2000-04-20 2000-04-20 Method of vacuum ion-plasma coating of substrate RU2192501C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000109697A RU2192501C2 (en) 2000-04-20 2000-04-20 Method of vacuum ion-plasma coating of substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000109697A RU2192501C2 (en) 2000-04-20 2000-04-20 Method of vacuum ion-plasma coating of substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2000109697A true RU2000109697A (en) 2002-04-10
RU2192501C2 RU2192501C2 (en) 2002-11-10

Family

ID=20233489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2000109697A RU2192501C2 (en) 2000-04-20 2000-04-20 Method of vacuum ion-plasma coating of substrate

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2192501C2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2451770C2 (en) * 2010-05-21 2012-05-27 Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение Энергомаш имени академика В.П. Глушко" Method for vacuum ion-plasma coating application
RU2478140C2 (en) * 2011-06-02 2013-03-27 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" Method for obtaining ion-plasma coating on blades of compressor from titanium alloys
RU2502828C1 (en) * 2012-06-18 2013-12-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" Application of antifriction wear-proof coat on titanium, alloys

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI360529B (en) Methods of finishing quartz glass surfaces and com
JP2002025794A (en) Plasma processing apparatus with real-time particle filter
KR100782621B1 (en) Plasma processing method and plasma processing device
JPH0642480B2 (en) Method for treating the backside of a semiconductor wafer
TW200847422A (en) Method of cleaning a patterning device, method of depositing a layer system on a substrate, system for cleaning a patterning device, and coating system for depositing a layer system on a substrate
TWI752925B (en) Surface coating treatment
US3900585A (en) Method for control of ionization electrostatic plating
RU2000109697A (en) METHOD OF ION-PLASMA APPLICATION OF COATINGS ON A SUBSTRATE
JP2007530788A (en) Manufacturing method of semiconductor coated substrate
JP5736317B2 (en) Cleaning method for coating equipment
RU2554838C2 (en) Method of cleaning for coating application plants
WO1992001823A1 (en) Anti-wear coating on a substrate based on titanium
JP3305786B2 (en) Manufacturing method of permanent magnet with excellent corrosion resistance
TWI509654B (en) Ion beam processing device, electrode group, and electrode group
KR20190056558A (en) manufacturing method of Ti-Zr alloy target and coating method of gold color thin layer using the same
JP4355046B2 (en) Cleaning method and substrate processing apparatus
JP2004281228A (en) Beam source and beam treatment device equipped with beam source
TW201222658A (en) Plasma processing method
JP3260905B2 (en) Film forming equipment
WO2000046830A1 (en) Diaphragm plate and its processing method
JP3114400B2 (en) Surface processing method
KR100779247B1 (en) Manufacturing method of decorative metal plate
JPH09252047A (en) Electrostatic attraction electrode
JP3279762B2 (en) Plasma processing equipment
TWI472637B (en) Surface treatment for aluminum alloy and housing manufactured by the aluminum alloy