RU2451770C2 - Method for vacuum ion-plasma coating application - Google Patents
Method for vacuum ion-plasma coating application Download PDFInfo
- Publication number
- RU2451770C2 RU2451770C2 RU2010120199/02A RU2010120199A RU2451770C2 RU 2451770 C2 RU2451770 C2 RU 2451770C2 RU 2010120199/02 A RU2010120199/02 A RU 2010120199/02A RU 2010120199 A RU2010120199 A RU 2010120199A RU 2451770 C2 RU2451770 C2 RU 2451770C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- annealing
- cleaning
- cathode
- vacuum
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 23
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 20
- 230000003334 potential Effects 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 2
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 5
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 210000001736 Capillaries Anatomy 0.000 description 1
- 210000004544 DC2 Anatomy 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000005712 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000002530 ischemic preconditioning Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Abstract
Description
Область техникиTechnical field
Изобретение относится к области машиностроения, в частности к нанесению покрытий в вакууме ионно-плазменным способом, и может быть использовано при нанесении покрытий на деталях сложной конфигурации, например на рабочем колесе турбины, выполненных из высоколегированных сплавов, преимущественно на никелевой основе.The invention relates to the field of engineering, in particular to vacuum coating by the ion-plasma method, and can be used for coating parts of complex configuration, for example, on a turbine impeller made of high alloy alloys, mainly on a nickel basis.
Предшествующий уровень техникиState of the art
Известен способ ионно-плазменного нанесения покрытий на поверхность детали сложной конфигурации (патент RU №2192501, МПК С23С 14/34 от 2002 г.), изготовленной из высоколегированного никелевого сплава в высоком вакууме в присутствии инертного газа - аргона. Способ включает создание высоковольтной электродуги между деталью и катодом, при которой в камере образуется плазменный поток, содержащий ионы инертного газа (аргона), с помощью которого производят очистку поверхности детали, после чего снижают напряжение между деталью и катодом и производят нанесение покрытия с последующим отжигом, причем в процессе нанесения покрытия деталь вращают вокруг своей оси, далее охлаждают деталь до комнатной температуры, помещают в печь и производят диффузионный отжиг в вакуумной среде, при этом в процессе ионной очистки деталь экранируют от плазменного потока, испаряемого вещества катода, а после ионной очистки эти экраны отводят. Процесс очистки детали и нанесение покрытия производят неоднократно до требуемой толщины.The known method of ion-plasma coating on the surface of a part of complex configuration (patent RU No. 2192501, IPC С23С 14/34 from 2002), made of high-alloy nickel alloy in high vacuum in the presence of an inert gas - argon. The method includes creating a high-voltage electric arc between the part and the cathode, in which a plasma stream is formed in the chamber containing inert gas (argon) ions, by which the surface of the part is cleaned, then the voltage between the part and the cathode is reduced and coating is applied, followed by annealing, moreover, in the process of coating the part is rotated around its axis, then the part is cooled to room temperature, placed in a furnace and diffusion annealing is performed in a vacuum medium, while in the process onnoy purification item shielded from the plasma stream, the evaporated cathode material, and these screens is removed after the ion cleaning. The process of cleaning the part and coating is carried out repeatedly to the required thickness.
Однако в известном способе производительность процесса нанесения покрытия заданной толщины невысокая из-за необходимости проведения операций напыления слоев на подложку и их отжига в несколько циклов.However, in the known method, the performance of the coating process of a given thickness is low due to the need to carry out the deposition of layers on the substrate and their annealing in several cycles.
Раскрытие изобретенияDisclosure of invention
Задача изобретения - создание способа получения покрытия требуемой толщины, при котором очистку, нанесение покрытия требуемой толщины и отжиг осуществляют за один цикл.The objective of the invention is the creation of a method for producing a coating of the required thickness, in which cleaning, coating of the required thickness and annealing are carried out in one cycle.
Эта задача решена за счет того, что в способе вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий, включающем создание разности электрических потенциалов между деталью и катодом, очистку поверхности детали потоком ионов, снижение разности потенциалов и нанесение покрытия, проведение отжига покрытия путем повышения разности потенциалов, ионный поток и поток испаряющегося материала, идущий от катода к детали, при очистке экранируют, а очистку проводят ионами инертного газа, после очистки экраны отводят и наносят покрытие с последующим отжигом, причем в процессе нанесения покрытия деталь вращают вокруг своей оси, далее охлаждают деталь до комнатной температуры, помещают в печь и производят диффузионный отжиг в вакуумной среде, при этом очистку, нанесение покрытия требуемой толщины и отжиг осуществляют за один цикл, а диффузионный отжиг покрытия осуществляют ступенчато при Т=100±5, 340±10, 730±10 и 900±50°C в вакууме 1×10-3 мм рт.ст.This problem is solved due to the fact that in the method of vacuum ion-plasma coating, including creating a difference in electric potentials between the part and the cathode, cleaning the surface of the part with an ion flow, reducing the potential difference and coating, annealing the coating by increasing the potential difference, the ion flux and the flow of evaporating material going from the cathode to the part is shielded during cleaning, and the cleaning is carried out with inert gas ions, after cleaning, the screens are diverted and coated, followed by annealing ohm, and during the coating process, the part is rotated around its axis, then the part is cooled to room temperature, placed in a furnace and diffusion annealing is performed in a vacuum medium, while cleaning, coating of the required thickness and annealing are carried out in one cycle, and diffusion annealing of the coating carried out stepwise at T = 100 ± 5 , 340 ± 10 , 730 ± 10 and 900 ± 50 ° C in a vacuum of 1 × 10 -3 mm RT.article
Другими отличиями являются:Other differences are:
- очистку поверхности детали проводят при разности электропотенциалов между деталью и катодом 1500-2000 В.- cleaning the surface of the part is carried out at a difference of electric potentials between the part and the cathode 1500-2000 V.
- процесс нанесения покрытия осуществляют при разности электропотенциалов между деталью и катодом 70-90 В.- the coating process is carried out at a voltage difference between the part and the cathode of 70-90 V.
- отжиг нанесенного слоя покрытия проводят при разности электропотенциалов между деталью и катодом до 500 В.- annealing of the applied coating layer is carried out at a difference of electric potentials between the part and the cathode up to 500 V.
- диффузионный отжиг покрытия осуществляют ступенчато при Т=100±5, 340±10, 730±10 и 900±50°C в вакууме 1×10-3 мм рт.ст., при этом при 100±5 выдержка составляет 2,5 часа, при 340±10 - ~5 часов, при 730±10 - ~6 часов и при 900±50°C - ~2 часа.- diffusion annealing of the coating is carried out stepwise at T = 100 ± 5 , 340 ± 10 , 730 ± 10 and 900 ± 50 ° C in a vacuum of 1 × 10 -3 mm Hg, while at 100 ± 5 the shutter speed is 2.5 hours, at 340 ± 10 - ~ 5 hours, at 730 ± 10 - ~ 6 hours and at 900 ± 50 ° C - ~ 2 hours.
Пример осуществления способаAn example of the method
В качестве детали использовано рабочее колесо турбины диаметром 550 мм, выполненное из высоколегированного сплава на никелевой основе. В камере были расположены испарители с катодами из никеля, экранированными со стороны детали. После создания в камере разрежения 1·10-5 мм рт.ст., введения в нее аргона и создания разности электрических потенциалов между деталью и катодом до 2000 В был сформирован ионно-плазменный поток в основном из ионов этого газа. При этой разности электропотенциалов проводили процесс очистки поверхности детали ионами аргона. По окончании очистки разность электропотенциалов снижали до 70-90 В и осуществляли напыление слоя покрытия толщиной 200-300 мкм. Далее разность электропотенциалов повышали до 500 В и по мере достижения температуры детали не выше 850°С осуществляли отжиг покрытия с выдержкой 60 мин. Охлаждение детали до комнатной температуры проводили в этой же камере в высоком вакууме в течение 8 часов. После этого деталь помещали в вакуумную печь и производили диффузионный отжиг полученного покрытия с изотермическими выдержками от 3 до 12 часов при температурах 120±5°С, 340±10°С, 730±10°С и 900±50°С и разрежении 1·10-3 мм рт.ст. Охлаждение детали осуществляли с печью при том же вакууме.As a part, a turbine impeller with a diameter of 550 mm was used, made of a highly alloyed nickel-based alloy. Evaporators with nickel cathodes shielded from the side of the part were located in the chamber. After creating a 1 · 10 -5 mm Hg in the rarefaction chamber, introducing argon into it and creating the electric potential difference between the part and the cathode up to 2000 V, an ion-plasma flow was formed mainly from the ions of this gas. With this electric potential difference, the process of cleaning the surface of the part with argon ions was carried out. After cleaning, the difference in electric potentials was reduced to 70-90 V and a coating layer was sprayed with a thickness of 200-300 μm. Then, the electric potential difference was increased to 500 V, and as the temperature of the part reached no higher than 850 ° C, the coating was annealed for 60 min. The part was cooled to room temperature in the same chamber under high vacuum for 8 hours. After that, the part was placed in a vacuum furnace and diffusion annealing of the obtained coating was carried out with isothermal extracts from 3 to 12 hours at temperatures 120 ± 5 ° С, 340 ± 10 ° С, 730 ± 10 ° С and 900 ± 50 ° С and a vacuum of 1 · 10 -3 mmHg The parts were cooled with the furnace under the same vacuum.
При использовании вышеописанной технологии были получены никелевые покрытия толщиной слоя 150-250 мкм на рабочем колесе турбины. Испытания этих изделий в составе энергетических установок показали высокий уровень адгезионных и защитных свойств покрытия.Using the above technology, nickel coatings with a layer thickness of 150-250 μm on the impeller of the turbine were obtained. Tests of these products as part of power plants showed a high level of adhesive and protective properties of the coating.
Применение данной технологии получения покрытий на деталях сложной конфигурации и больших размеров позволило значительно сократить временной цикл их получения (в 1,5-1,75 раз) и уменьшить энергоемкость всего технологического процесса за счет исключения многократных промежуточных отжигов, интенсификации процесса очистки подложки, а также скорости нагрева детали.The use of this technology for producing coatings on parts of complex configuration and large sizes has significantly reduced the time cycle for their production (1.5-1.75 times) and reduced the energy intensity of the entire process due to the elimination of multiple intermediate annealing, intensification of the substrate cleaning process, and part heating speed.
В процессе нанесения Ni-покрытия на деталь в присутствии аргона в рабочей камере в пористом покрытии всегда содержатся атомы аргона начиная от границы раздела покрытие - подложка. Присутствие атомов аргона на границе раздела препятствует диффузии Ni-покрытия в подложку, а наличие их в объеме покрытия тормозит процессы самодиффузии атомов никелевого покрытия в процессе термообработки. Таким образом, в первом случае ухудшаются условия для обеспечения адгезии никелевого покрытия с подложкой, во втором появляются ограничения в осуществлении процессов самодиффузии атомов никелевого покрытия, и, соответственно, покрытие остается пористым.In the process of applying a Ni coating to a part in the presence of argon, argon atoms are always contained in the porous coating in the working chamber, starting from the coating – substrate interface. The presence of argon atoms at the interface prevents the diffusion of the Ni coating into the substrate, and their presence in the coating volume inhibits the self-diffusion of nickel coating atoms during heat treatment. Thus, in the first case, the conditions for ensuring adhesion of the nickel coating to the substrate are worsened, in the second there are limitations in the implementation of self-diffusion of nickel coating atoms, and, accordingly, the coating remains porous.
Еще более угрожающим для осуществления процессов диффузии и самодиффузии является свободный подъем температуры при термообработке. Объясняется это тем, что в процессе произвольного нагрева возникает множество причин для взрывного механизма в покрытии, а связь между атомами никелевого покрытия и атомами никеля с подложкой после окончания процесса нанесения покрытия является слабой - на уровне физической связи. Физико-химическая связь на стадии, предшествующей термообработке, отсутствует.Even more threatening for the diffusion and self-diffusion processes is the free rise in temperature during heat treatment. This is explained by the fact that in the process of arbitrary heating there are many reasons for the explosive mechanism in the coating, and the bond between the nickel coating atoms and the nickel atoms with the substrate after the coating process is completed is weak - at the level of physical bonding. There is no physicochemical bond at the stage preceding the heat treatment.
Одной из причин взрыва покрытия может быть скопление аргона и частиц влаги в порах, которые содержатся в большом количестве в никелевом покрытии, при передаче детали для термообработки на другом оборудовании.One of the reasons for the explosion of the coating may be the accumulation of argon and moisture particles in the pores, which are contained in large quantities in the nickel coating, when transferring parts for heat treatment on other equipment.
Подъем температуры до 850° после окончания процесса нанесения никелевого покрытия и выдержка при ней 40÷60 мин позволяют уменьшить негативное влияние аргона на процессы диффузии и самодиффузии никелевого покрытия. Происходит это благодаря начавшемуся процессу кристаллизации атомов никелевого покрытия при этой температуре (создается более упорядоченная структура никелевого покрытия - типа ближнего порядка), и, соответственно, покрытие уплотняется. При этом обеспечивается улучшение процесса самодиффузии атомов Ni и диффузии его в подложку.Raising the temperature to 850 ° after the end of the nickel coating process and holding it for 40 ÷ 60 min allow reducing the negative effect of argon on the diffusion and self-diffusion of the nickel coating. This happens due to the onset of crystallization of the atoms of the nickel coating at this temperature (a more ordered structure of the nickel coating is created - a type of short-range order), and, accordingly, the coating becomes denser. This ensures an improvement in the self-diffusion of Ni atoms and its diffusion into the substrate.
Ступенчатый отжиг при медленном нагреве рабочего колеса турбины с никелевым покрытием начиная с 100°С с выдержкой 2,5 часа позволяет уже на первой ступени достичь равномерного прогрева подложки и покрытия и тем самым исключить появление градиента температур между подложкой и покрытием и, соответственно, влияния разницы коэффициентов термического расширения. Одновременно происходит ламинарное удаление атомов аргона из покрытия. Равномерно удаляемый аргон из покрытия не вызывает побочных «взрывных» явлений, и тем самым сохраняется при этой температуре достигнутое ранее сформированное состояние покрытия. Кроме того, такая выдержка при 100°С позволяет удалить частицы влаги из покрытия, которые попадают в него в процессе выполнения контрольных замеров его толщины. Известно, что пóра является хорошим капилляром, а контрольные операции осуществляют в атмосферных условиях. При дальнейшем нагреве до 340°С с выдержкой ~5 часов благоприятные условия для дальнейшего формирования покрытия сохраняются. Обеспечиваются они тем, что нагрев детали до этой температуры осуществляется медленно, т.к. время нагрева достаточно продолжительное и составляет не более 100°С в час, а выдержка в течение ~5 часов при этой температуре еще дополнительно позволяет сохранить эти условия. Таким образом, данная стадия позволяет полностью удалить остатки частиц влаги и уменьшить содержание атомов аргона в покрытии.Step annealing during slow heating of the impeller of a nickel-coated turbine starting at 100 ° C with a holding time of 2.5 hours allows even heating of the substrate and coating to be achieved at the first stage, thereby eliminating the appearance of a temperature gradient between the substrate and the coating and, accordingly, the effect of the difference thermal expansion coefficients. At the same time, laminar removal of argon atoms from the coating occurs. Evenly removed argon from the coating does not cause side "explosive" phenomena, and thereby the previously formed coating state is maintained at this temperature. In addition, such exposure at 100 ° C allows you to remove moisture particles from the coating that fall into it during the control measurements of its thickness. It is known that pore is a good capillary, and control operations are carried out in atmospheric conditions. Upon further heating to 340 ° C with a shutter speed of ~ 5 hours, favorable conditions for further coating formation remain. They are ensured by the fact that the part is heated to this temperature slowly, because the heating time is quite long and amounts to no more than 100 ° C per hour, and holding for ~ 5 hours at this temperature still further allows these conditions to be maintained. Thus, this stage allows you to completely remove residual moisture particles and reduce the content of argon atoms in the coating.
Продолжающийся нагрев до Т=730°С в течение ~6 часов и начавшийся процесс рекристаллизации никелевого покрытия и выдержка на этой температуре позволяют удалить большую часть атомов аргона из покрытия. Это способствует началу диффузии никеля в подложку, уплотнению никелевого покрытия благодаря процессу самодиффузии атомов никеля. Дальнейший нагрев до 900±50°C и выдержка при ней ~2 часа обеспечивают диффузию атомов никеля в подложку глубиной до 30-40 мкм и образование кристаллической гранецентрированной решетки во всем объеме покрытия. Эта завершающая стадия позволяет достичь высокой адгезии покрытия с подложкой и достаточную плотность покрытия.Continued heating to T = 730 ° C for ~ 6 hours and the onset of the process of recrystallization of the nickel coating and exposure to this temperature allow most of the argon atoms to be removed from the coating. This contributes to the onset of the diffusion of nickel into the substrate, the compaction of the nickel coating due to the process of self-diffusion of nickel atoms. Further heating to 900 ± 50 ° C and holding it for ~ 2 hours ensure the diffusion of nickel atoms into the substrate to a depth of 30-40 μm and the formation of a crystal face-centered lattice in the entire coating volume. This final stage allows to achieve high adhesion of the coating to the substrate and sufficient coating density.
Промышленная применимостьIndustrial applicability
Способ может быть использован при нанесении покрытий на деталях сложной конфигурации, например на рабочих колесах турбины, выполненных из высоколегированных сплавов, преимущественно на никелевой основе.The method can be used when coating parts of complex configuration, for example, on turbine impellers made of high alloy alloys, mainly on a nickel basis.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010120199/02A RU2451770C2 (en) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | Method for vacuum ion-plasma coating application |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010120199/02A RU2451770C2 (en) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | Method for vacuum ion-plasma coating application |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2010120199A RU2010120199A (en) | 2011-11-27 |
| RU2451770C2 true RU2451770C2 (en) | 2012-05-27 |
Family
ID=45317610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2010120199/02A RU2451770C2 (en) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | Method for vacuum ion-plasma coating application |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2451770C2 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2323855A (en) * | 1997-04-01 | 1998-10-07 | Ion Coat Ltd | Depositing a coating on a conductive substrate using positive bias and electron bombardment |
| RU2164549C2 (en) * | 1999-05-27 | 2001-03-27 | Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов | Method for evaporation and condensation of current conductive materials |
| RU2192501C2 (en) * | 2000-04-20 | 2002-11-10 | ОАО "Научно-производственное объединение энергетического машиностроения им. акад. В.П.Глушко" | Method of vacuum ion-plasma coating of substrate |
| RU2368701C2 (en) * | 2007-11-08 | 2009-09-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Method of machining metal part |
-
2010
- 2010-05-21 RU RU2010120199/02A patent/RU2451770C2/en active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2323855A (en) * | 1997-04-01 | 1998-10-07 | Ion Coat Ltd | Depositing a coating on a conductive substrate using positive bias and electron bombardment |
| RU2164549C2 (en) * | 1999-05-27 | 2001-03-27 | Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов | Method for evaporation and condensation of current conductive materials |
| RU2192501C2 (en) * | 2000-04-20 | 2002-11-10 | ОАО "Научно-производственное объединение энергетического машиностроения им. акад. В.П.Глушко" | Method of vacuum ion-plasma coating of substrate |
| RU2368701C2 (en) * | 2007-11-08 | 2009-09-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Method of machining metal part |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2010120199A (en) | 2011-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4938754B2 (en) | Method for depositing a diamond layer on a graphite substrate | |
| KR102238109B1 (en) | Method for producing graphene, graphene and its substrate | |
| CN101831651A (en) | Hard alloy cutter and film plating method of same | |
| JP6051492B2 (en) | Diffusion bonding sputtering target assembly manufacturing method | |
| CN111270207A (en) | Preparation method of high-entropy alloy thin film material with layered structure | |
| CN112501569A (en) | Surface gradient high-entropy alloy layer and preparation method thereof | |
| Huang et al. | Oxidation of iridium coating on rhenium coated graphite at elevated temperature in stagnated air | |
| JP2011124528A5 (en) | Manufacturing method of resistance memory | |
| CN103691962A (en) | Preparation method of size-controllable metal nano particles | |
| RU2451770C2 (en) | Method for vacuum ion-plasma coating application | |
| JP4641533B2 (en) | Carbon composite material for reducing atmosphere furnace and method for producing the same | |
| CN108004506B (en) | A kind of noble metal nano particles and preparation method thereof based on In alloy | |
| RU2015123046A (en) | GLASS WITH OPTICALLY TRANSPARENT PROTECTIVE COATING AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE | |
| KR101353451B1 (en) | Coated steel sheet and method for manufacturing the same | |
| JP6931008B2 (en) | How to protect hafnium-free nickel-based single crystal superalloy parts from corrosion and oxidation | |
| US20150252466A1 (en) | High surface areas (hsa) coatings and methods for forming the same | |
| CN104388900A (en) | Method for diffusion coating of LaTaAlY alloy layer on surface of gamma-TiAl alloy | |
| JP2017516918A5 (en) | ||
| JP2015509134A (en) | Titanium-nickel alloy thin film and method for producing titanium-nickel alloy thin film using co-sputtering method | |
| JP2015105438A (en) | Formation method of amorphous alloy film, and printed wiring board manufactured by formation method | |
| US20130065078A1 (en) | Coated article and method for making said article | |
| JP4641534B2 (en) | Method for producing carbon composite material for reducing atmosphere furnace | |
| JP2015010280A (en) | Workpiece and manufacturing method thereof | |
| KR20130074646A (en) | Coated steel sheet and method for manufacturing the same | |
| RU2192501C2 (en) | Method of vacuum ion-plasma coating of substrate |