RU121812U1 - CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) - Google Patents
CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) Download PDFInfo
- Publication number
- RU121812U1 RU121812U1 RU2012127257/02U RU2012127257U RU121812U1 RU 121812 U1 RU121812 U1 RU 121812U1 RU 2012127257/02 U RU2012127257/02 U RU 2012127257/02U RU 2012127257 U RU2012127257 U RU 2012127257U RU 121812 U1 RU121812 U1 RU 121812U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- case
- base
- flat
- magnetron
- Prior art date
Links
Abstract
1. Катодно-распылительный узел магнетрона, включающий корпус в форме пенала с основанием, плоскую мишень протяженной формы из распыляемого материала, закрепленную с помощью боковой рамки и винтов напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, при этом в корпусе по его центру дополнительно установлен газораспределитель, а основание корпуса снабжено патрубком для ввода рабочих газов, отличающийся тем, что мишень выполнена из плоских элементов, прижимаемых к охладителю боковой рамкой и центральной вставкой, причем поверхность плоских элементов расположена ниже деталей рамки и вставки. ! 2. Катодно-распылительный узел магнетрона по п.1, отличающийся тем, что коэффициент распыления материала рамки и центральной вставки ниже коэффициента распыления материала мишени. ! 3. Катодно-распылительный узел магнетрона по п.1, отличающийся тем, что центральная вставка, прижимая мишень, находится непосредственно в тепловом контакте с охладителем. ! 4. Катодно-распылительный узел магнетрона, включающий корпус в форме пенала с основанием, плоскую мишень протяженной формы из распыляемого материала, закрепленную с помощью боковой рамки и винтов напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, при этом в корпусе по его центру дополнительно установлен газораспределитель, а основание корпуса снабжено патрубком для ввода рабочих газов, отличающийся тем, что мишень выполнена из плоских элементов, прижимаемых к охл� 1. Cathode-sputtering unit of the magnetron, including a case in the form of a case with a base, an elongated flat target made of sputtered material, fixed with a side frame and screws against the base of the case, a magnetic system and a cooler in the form of coaxial tori located between the base of the case and the flat with a target in the center of the case, while a gas distributor is additionally installed in the case in its center, and the base of the case is equipped with a branch pipe for introducing working gases, characterized in that the target is made of flat elements pressed to the cooler by a side frame and a central insert, and the surface of the flat elements is located below the frame and insert details. ! 2. Cathode-sputtering magnetron assembly according to claim 1, characterized in that the sputtering coefficient of the frame material and the central insert is lower than the sputtering coefficient of the target material. ! 3. Cathode-sputtering magnetron assembly according to claim 1, characterized in that the central insert, pressing the target, is in direct thermal contact with the cooler. ! 4. Cathode-sputtering unit of the magnetron, including a case in the form of a case with a base, a flat target of an extended shape made of sprayed material, fixed with a side frame and screws against the base of the case, a magnetic system and a cooler in the form of coaxial tori located between the base of the case and the flat with a target in the center of the body, while a gas distributor is additionally installed in the body in its center, and the base of the body is equipped with a branch pipe for introducing working gases, characterized in that the target is made of flat elements pressed to the cooling
Description
Полезная модель относится к области машиностроения, в частности к конструкции катодно-распылительного узла магнетрона и касается катода магнетронного распылителя, предназначенного для распыления материала мишени при нанесении покрытий в вакууме. Более конкретно, полезная модель относится к конструкции узла мишени магнетронного распылителя.The invention relates to the field of mechanical engineering, in particular to the design of the cathode-spraying unit of the magnetron, and relates to the cathode of the magnetron atomizer, intended for sputtering the target material during coating in vacuum. More specifically, a utility model relates to the design of a target assembly of a magnetron sputter.
Известна конструкция катодного узла магнетронного распылителя протяженной формы (см. US №4826584, МПК С23С 14/00, опубл. 02.05.1989), содержащего плоскую мишень, закрепленную напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель, размещенные между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, и позволяющего наносить покрытия на поверхности большой площади, при использовании которого для увеличения коэффициента использования материала мишени создают зигзагообразную зону распыления материала.A known design of the cathode assembly of a magnetron nebulizer of an extended form (see US No. 4826584, IPC С23С 14/00, publ. 05/02/1989) containing a flat target mounted opposite the base of the body, a magnetic system and a cooler located between the base of the body and the flat target in the center of the body, and allowing coating on a large surface area, using which to increase the utilization of the target material create a zigzag zone for spraying the material.
Недостатком конструкции является то, что область рабочих давлений плазмообразующего газа, при которой обеспечивается устойчивая работа магнетронного распылителя, заключается в диапазоне от 0,3 до 0,6 Па, что снижает эффективную скорость откачки вакуумной камеры, загрязняет формируемое покрытие примесями, требует использования блоков питания с повышенным рабочим напряжением, и поэтому повышает стоимость оборудования.The design disadvantage is that the region of working pressures of the plasma-forming gas, which ensures the stable operation of the magnetron atomizer, is in the range from 0.3 to 0.6 Pa, which reduces the effective pumping speed of the vacuum chamber, contaminates the formed coating with impurities, requires the use of power supplies with increased operating voltage, and therefore increases the cost of equipment.
Наиболее близким по технической сущности к полезной модели является патент RU №111138, МПК С23С 14/35, опубл. 10.12.2011 "Катодно-распылительный узел магнетрона (варианты)", про катодно-распылительный узел магнетрона, содержащий корпус в форме пенала с основанием, плоскую мишень протяженной формы с распыляемым материалом, закрепленную напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, в котором центральная область плоской мишени выполнена перфорированной в виде системы отверстий, расположенных вдоль ее протяженной стороны, что позволяет подавать плазмообразующий газ прямо в область горения разряда и таким образом снижать рабочее давление в вакуумной камере.The closest in technical essence to the utility model is the patent RU No. 111138, IPC С23С 14/35, publ. 12/10/2011 "Magnetron cathode-spraying unit (options)", about a magnetron cathode-spraying unit, comprising a case in the form of a pencil case with a base, a long, flat target with sprayed material, mounted opposite the case base, a magnetic system and a coaxial torus cooler placed between the base of the casing and the flat target in the center of the casing, in which the central region of the flat target is perforated in the form of a system of holes located along its extended side, which allows feeding s plasma gas directly into the discharge region and thus reduce the working pressure in the vacuum chamber.
Недостатком конструкции является низкий коэффициент использования материала мишени.The design disadvantage is the low utilization of the target material.
Техническая задача, решаемая полезной моделью, состоит в повышении технологичности изготовления мишени катодно-распылительного узла магнетрона, снижении стоимости изготовления мишени.The technical problem solved by the utility model is to increase the manufacturability of the manufacture of the target cathode-spraying unit of the magnetron, reducing the cost of manufacturing the target.
Технический результат, заключающийся в увеличении коэффициента использования материала мишени достигается тем, что в известном катодно-распылительном узле магнетрона, включающем корпус в форме пенала с основанием, плоскую мишень протяженной формы из распыляемого материала, закрепленную с помощью боковой рамки и винтов напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, при этом в корпусе по его центру дополнительно установлен газораспределитель, а основание корпуса снабжено патрубком для ввода рабочих газов, отличающейся тем, что мишень выполнена из плоских элементов, прижимаемых к охладителю боковой рамкой и центральной вставкой, причем поверхность плоских элементов расположена ниже деталей рамки и вставки.The technical result, which consists in increasing the utilization rate of the target material, is achieved by the fact that in the known cathode-spraying unit of the magnetron, which includes a case in the form of a pencil case with a base, an extended flat target made of sprayed material, fixed with a side frame and screws opposite the base of the case, a system and a cooler in the form of coaxial tori placed between the base of the body and a flat target in the center of the body, while gas is additionally installed in the center of the body aspredelitel and housing base is provided with a socket for input of working gases, characterized in that the target is made of flat elements, pressed to the cooler side frame and a central insert, the surface of flat elements disposed below the frame and insert parts.
Кроме того, катодно-распылительный узел магнетрона может быть выполнен из таких материалов, что коэффициент распыления материала боковой рамки и центральной вставки ниже коэффициента распыления основного материала мишени.In addition, the cathode-spraying unit of the magnetron can be made of such materials that the atomization coefficient of the material of the side frame and the central insert is lower than the atomization coefficient of the main material of the target.
Кроме того, катодно-распылительный узел магнетрона может быть выполнен так, что центральная вставка, прижимая мишень, находится непосредственно в тепловом контакте с охладителем.In addition, the cathode-spraying unit of the magnetron can be made so that the Central insert, pressing the target, is directly in thermal contact with the cooler.
В другом варианте эта техническая задача решается тем, что в известном катодно-распылительном узле магнетрона, включающем корпус в форме пенала с основанием, плоскую мишень протяженной формы из распыляемого материала, закрепленную с помощью боковой рамки и винтов напротив основания корпуса, магнитную систему и охладитель в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса и плоской мишенью по центру корпуса, при этом в корпусе по его центру дополнительно установлен газораспределитель, а основание корпуса снабжено патрубком для ввода рабочих газов, отличающейся тем, что мишень выполнена из плоских элементов, прижимаемых к охладителю боковой рамкой и центральной вставкой, причем поверхность плоских элементов расположена ниже деталей рамки и вставки, причем центральная вставка выполнена с каналами для подачи плазмообразующего газа вдоль поверхности мишени.In another embodiment, this technical problem is solved by the fact that in the known cathode-spraying unit of the magnetron, including the case in the form of a pencil case with a base, a long, flat target made of sprayed material, fixed with a side frame and screws opposite the body base, a magnetic system and a cooler in in the form of coaxial tori placed between the base of the casing and a flat target in the center of the casing, while the gas distributor is additionally installed in the casing along its center, and the base of the casing is equipped with a nozzle for introducing working gases, characterized in that the target is made of flat elements pressed against the cooler by the side frame and the central insert, the surface of the flat elements being located below the details of the frame and insert, the central insert being made with channels for supplying plasma-forming gas along the surface of the target.
Сущность полезной модели поясняется чертежами, где на фиг.1 показан вид вертикального сечения катодно-распылительного узла магнетрона, установленного в рабочую камеру, на фиг.2 показан эскиз центральной вставки; на фиг.3 показан эскиз сборки пластин из распыляемого материала.The essence of the utility model is illustrated by drawings, where Fig. 1 shows a vertical sectional view of a cathode-spraying unit of a magnetron mounted in a working chamber, Fig. 2 shows a sketch of a central insert; figure 3 shows a sketch of the Assembly of the plates of the sprayed material.
Катодно-распылительный узел магнетрона расположен в вакуумной камере 1, содержит корпус 2 в форме пенала с основанием 3, плоскую мишень 4 протяженной формы из материала, напыляемого на изделие 5, закрепленную с помощью боковой рамки 6 и винтов напротив основания корпуса 3, магнитную систему 7 и герметичный охладитель 8 в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса 3 и плоской мишенью 4, при этом в корпусе 2 по его центру дополнительно установлен газораспределитель 9, а основание корпуса 3 снабжено патрубком 10 для ввода рабочих газов, плоская мишень 4 выполнена составной из отдельных пластин распыляемого материала простой формы без отверстий, прожимаемых к герметичной системе охлаждения 8 с использованием боковой рамки 6 по периметру мишени 4 и центральной вставки 11, между которыми находится пластины распыляемого материала мишени 4, кроме того, вставка 11 и рамка 6 возвышаются над поверхностью мишени 4, при этом центральная вставка 11 частью нижней поверхности прижата к герметичному охладителю 8.The cathode-spraying unit of the magnetron is located in the vacuum chamber 1, contains a housing 2 in the form of a pencil case with a base 3, a flat target 4 of an extended shape made of material sprayed onto the product 5, fixed with a side frame 6 and screws opposite the base of the housing 3, the magnetic system 7 and a sealed cooler 8 in the form of coaxial tori placed between the base of the housing 3 and a flat target 4, while the gas distributor 9 is additionally installed in the housing 2 at its center, and the base of the housing 3 is equipped with a nozzle 10 for introducing working gases, the flat target 4 is made of composite plates of sprayable material of a simple shape without holes squeezed to a sealed cooling system 8 using a side frame 6 around the perimeter of the target 4 and the central insert 11, between which there are plates of the sprayed material of the target 4, in addition, insert 11 and the frame 6 rise above the surface of the target 4, while the Central insert 11 is part of the lower surface pressed against the sealed cooler 8.
В другом варианте исполнения полезной модели катодно-распылительный узел магнетрона расположен в вакуумной камере 1, содержит корпус 2 в форме пенала с основанием 3, плоскую мишень 4 протяженной формы из материала, напыляемого на изделие 5, закрепленную с помощью боковой рамки 6 и винтов напротив основания корпуса 3, а также магнитную систему 7 и герметичный охладитель 8 в форме соосных торов, размещенных между основанием корпуса 3 и плоской мишенью 4, при этом в корпусе 2 по его центру дополнительно установлен газораспределитель 9, а основание корпуса 3 снабжено патрубком 10 для ввода рабочих газов, плоская мишень 4 выполнена составной из отдельных пластин распыляемого материала простой формы без отверстий, прижимаемых к герметичной системе охлаждения 8 с использованием боковой рамки 6 по периметру мишени 4 и центральной вставки 11, между которыми находятся пластины распыляемого материала мишени 4, кроме того вставка 11 и рамка 6 возвышаются над поверхностью мишени 4, при этом центральная вставка 11 нижней поверхностью частично прижата к герметичному охладителю 8, центральная вставка 11 выполнена с системой газовых каналов, направляющими газовый поток вдоль поверхности мишени.In another embodiment of the utility model, the magnetron cathode-spraying unit is located in the vacuum chamber 1, contains a case 2 in the form of a pencil case with a base 3, an extended flat target 4 made of material sprayed onto the product 5, fixed with a side frame 6 and screws opposite the base case 3, as well as a magnetic system 7 and a sealed cooler 8 in the form of coaxial tori placed between the base of the case 3 and a flat target 4, while in the case 2 in the center of the center there is an additional gas distributor 9, and the base to of the housing 3 is equipped with a nozzle 10 for introducing working gases, the flat target 4 is made up of separate plates of atomized material of simple shape without holes pressed to the hermetic cooling system 8 using a side frame 6 around the perimeter of the target 4 and the central insert 11, between which there are sprayed plates of the target material 4, in addition, the insert 11 and the frame 6 rise above the surface of the target 4, while the central insert 11 with the lower surface is partially pressed against the hermetic cooler 8, the central insert 11 is made with a system of gas channels directing the gas flow along the surface of the target.
Катодно-распылительный узел магнетрона работает следующим образом.The cathode-spraying unit of the magnetron operates as follows.
Рабочую камеру 1, содержащую катодно-распылительный узел, откачивают до разряжения порядка 10-3 Па. Затем через патрубок 10 для подачи рабочих газов, выполненный в основании корпуса 3, напускают смесь рабочих газов до давления порядка 0,1 Па. В газораспределителе 9 смесь рабочих газов равномерно распределяется по длине магнетрона и затем через центральные каналы 13 в центральной вставке 11 выходит в зону магнетронного разряда. К корпусу 2 катодно-распылительного узла и рабочей камере 1 прикладывают отрицательный и положительный потенциал, соответственно, от блока питания (на фиг.1-3 не показан). На поверхности мишени 4 возникает магнетронный разряд, положительные ионы которого бомбардируют мишень 4, распыляя ее материал. Распыляемый материал мишени 4 осаждается на изделие 5, в том числе на детали камеры. Такая конструкция катодно-распылительного узла магнетрона позволяет использовать пластины расходуемого материала минимальных размеров и простой геометрии, обеспечивает экономию исходного распыляемого материала на 30% по сравнению со сплошной мишенью.The working chamber 1, containing the cathode-spraying unit, is pumped to a vacuum of the order of 10 -3 Pa. Then, through the pipe 10 for supplying working gases, made in the base of the housing 3, a mixture of working gases is let in to a pressure of about 0.1 Pa. In the gas distributor 9, the mixture of working gases is evenly distributed along the length of the magnetron and then through the central channels 13 in the central insert 11 enters the magnetron discharge zone. A negative and positive potential are applied to the casing 2 of the cathode-spraying unit and the working chamber 1, respectively, from the power supply (not shown in FIGS. 1-3). A magnetron discharge arises on the surface of the target 4, the positive ions of which bombard the target 4, sputtering its material. The sprayed material of the target 4 is deposited on the product 5, including on the camera parts. This design of the cathode-spraying unit of the magnetron allows the use of plates of consumable material of minimum size and simple geometry, provides a saving of the initial sprayed material by 30% compared with a solid target.
В другом варианте катодно-распылительный узел магнетрона работает следующим образом.In another embodiment, the cathode-spraying unit of the magnetron operates as follows.
Рабочую камеру 1, содержащую катодно-распылительный узел, откачивают до разряжения порядка 10-3 Па. Затем через патрубок 10 для подачи рабочих газов, выполненный в основании корпуса 3, напускают смесь рабочих газов до давления порядка 0,1 Па. В газораспределителе 9 смесь рабочих газов равномерно распределяется по длине магнетрона и затем через боковые каналы 12 в центральной вставке 11 выходит в зону магнетронного разряда (центральные каналы 13 в этом варианте катодно-распылительного узла заглушены). К корпусу 2 катодно-распылительного узла и рабочей камере 1 прикладывают отрицательный и положительный потенциал, соответственно, от блока питания (на фиг.1-3 не показан). На поверхности мишени 4 возникает магнетронный разряд, положительные ионы которого бомбардируют мишень 4, распыляя ее материал. Распыляемый материал мишени 4 осаждается на изделие 5, в том числе на детали камеры.The working chamber 1, containing the cathode-spraying unit, is pumped to a vacuum of the order of 10 -3 Pa. Then, through the pipe 10 for supplying working gases, made in the base of the housing 3, a mixture of working gases is let in to a pressure of about 0.1 Pa. In the gas distributor 9, the mixture of working gases is evenly distributed along the length of the magnetron and then through the side channels 12 in the central insert 11 enters the magnetron discharge zone (the central channels 13 in this embodiment of the cathode-spray unit are muffled). A negative and positive potential are applied to the casing 2 of the cathode-spraying unit and the working chamber 1, respectively, from the power supply (not shown in FIGS. 1-3). A magnetron discharge arises on the surface of the target 4, the positive ions of which bombard the target 4, sputtering its material. The sprayed material of the target 4 is deposited on the product 5, including on the camera parts.
Такая конструкция катода-мишени магнетрона обеспечивает снижение рабочего давления на 25-50% и снижение напряжения магнетронного разряда на 20%. Это позволяет использовать в качестве средств высоковакуумной откачки стандартные диффузионные насосы и блоки питания с пониженной рабочей точкой по напряжению, а также работать в частотно-импульсном режиме.This design of the magnetron target cathode provides a reduction in working pressure by 25-50% and a decrease in the voltage of the magnetron discharge by 20%. This makes it possible to use standard diffusion pumps and power supplies with a reduced operating point in voltage as a means of high-vacuum pumping, as well as operate in a pulse-frequency mode.
Под магнетроном или магнетронным распылителем подразумевается устройство катодного распыления материалов в вакууме с использованием источника энергии постоянного и/или переменного тока для нанесения проводящих и/или диэлектрических покрытий на изделия.By magnetron or magnetron atomizer is meant a device for cathodic atomization of materials in vacuum using a constant and / or alternating current energy source for applying conductive and / or dielectric coatings to articles.
Под магнетронным распылением подразумевается физический процесс нанесения тонких пленок (покрытий) в вакууме в плазме газового разряда на поверхность изделия с помощью магнетрона.Magnetron sputtering refers to the physical process of applying thin films (coatings) in a vacuum in a gas discharge plasma to the surface of a product using a magnetron.
Под мишенью магнетрона подразумевается часть катодно-распылительного узла магнетрона, предназначенная для физического распыления ионами газа.By a magnetron target is meant a part of the cathode-spraying unit of a magnetron intended for physical sputtering by gas ions.
Под подложкой подразумевается часть изделия, на которой формируется покрытие.Under the substrate is meant the part of the product on which the coating is formed.
Под коэффициентом использования материала мишени подразумеваем отношение распыленного количества материала мишени за все время эксплуатации до потери ее работоспособности к общему количеству материала мишени. Мишень считается потерявшей работоспособность, когда глубина эрозионной канавки на мишени, образующаяся в результате распыления, становится равной толщине мишени.By the coefficient of utilization of the target material, we mean the ratio of the sprayed amount of the target material for the entire period of operation until its operability is lost to the total amount of target material. The target is considered to have lost working capacity when the depth of the erosion groove on the target resulting from sputtering becomes equal to the thickness of the target.
Поверхность распыляемых элементов считается расположенной ниже деталей боковой рамки и центральной вставки, если наружная поверхность рамки и вставки выступает над наружной поверхностью распыляемых элементов на 1 и более миллиметров.The surface of the sprayed elements is considered to be located below the details of the side frame and the central insert, if the outer surface of the frame and insert protrudes 1 mm or more above the outer surface of the sprayed elements.
Увеличение толщины боковой рамки и центральной вставки, вследствие уменьшения величины остаточных магнитных полей над их поверхностью, позволяет предотвратить их распыление, и загрязнение материала пленок.An increase in the thickness of the side frame and the central insert, due to a decrease in the residual magnetic fields above their surface, allows them to be prevented from sputtering and contamination of the film material.
Обеспечение прижима центральной вставки к охладителю препятствует ее перегреву плазмой магнетронного разряда.Providing a clamp of the central insert to the cooler prevents its overheating by magnetron discharge plasma.
Комбинированный, т.е. обладающий свойствами обоих вариантов, узел катода-мишени магнетрона характеризуется следующими параметрами при нанесении пленок нитрида хрома (CrxNy): экономия материала мишени составила 27%, снижение рабочего давления с 0,35 Па до 0,17 Па.Combined i.e. having the properties of both options, the magnetron target cathode assembly is characterized by the following parameters when applying chromium nitride (Cr x N y ) films: the target material was saved by 27%, and the working pressure decreased from 0.35 Pa to 0.17 Pa.
Полезная модель может быть использована при производстве ответственных покрытий с низким коэффициентом трения, высокой твердостью и химической стойкостью взамен химических и гальванических покрытий.The utility model can be used in the manufacture of critical coatings with a low coefficient of friction, high hardness and chemical resistance instead of chemical and galvanic coatings.
Использование полезной модели позволяет уменьшить затраты на приобретение исходных распыляемых пластин на 30% и уменьшить стоимость блоков питания магнетронных распылительных устройств.Using the utility model allows to reduce the cost of acquiring the original sprayed plates by 30% and to reduce the cost of power supplies of magnetron spraying devices.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2012127257/02U RU121812U1 (en) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2012127257/02U RU121812U1 (en) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU121812U1 true RU121812U1 (en) | 2012-11-10 |
Family
ID=47322548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012127257/02U RU121812U1 (en) | 2012-07-02 | 2012-07-02 | CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU121812U1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2656318C1 (en) * | 2017-04-04 | 2018-06-04 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Magnetron spraying head |
| RU2664009C1 (en) * | 2017-08-28 | 2018-08-14 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) | Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6 |
| RU2752334C1 (en) * | 2020-05-08 | 2021-07-26 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук | Gas-discharge sputtering apparatus based on planar magnetron with ion source |
-
2012
- 2012-07-02 RU RU2012127257/02U patent/RU121812U1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2656318C1 (en) * | 2017-04-04 | 2018-06-04 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Magnetron spraying head |
| RU2664009C1 (en) * | 2017-08-28 | 2018-08-14 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) | Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6 |
| RU2752334C1 (en) * | 2020-05-08 | 2021-07-26 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук | Gas-discharge sputtering apparatus based on planar magnetron with ion source |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI469694B (en) | Showerhead electrode assembly with gas flow modification for extended electrode life | |
| CN102376521B (en) | Plasma processing apparatus and plasma control method | |
| WO2004061153A3 (en) | Magnetron sputtering systems including anodic gas distribution systems | |
| CN201068469Y (en) | Flat surface magnetron sputtering target capable of prolonging target material service lifetime | |
| US20150136585A1 (en) | Method for sputtering for processes with a pre-stabilized plasma | |
| JP5749769B2 (en) | High frequency antenna unit and plasma processing apparatus | |
| JP2012124168A5 (en) | ||
| RU121812U1 (en) | CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS) | |
| KR101246458B1 (en) | Magnetron sputtering apparatus and magnetron sputtering method | |
| CN100523276C (en) | Design of hardware features to facilitate arc-spray coating applications and functions | |
| CN104996000A (en) | Plasma source | |
| KR102372968B1 (en) | Target adapted to an indirect cooling device | |
| US6468386B1 (en) | Gas delivery system | |
| TWM592875U (en) | Tilted magnetron in a pvd sputtering deposition chamber | |
| JP2006253200A (en) | Ring for etcher with excellent etching resistance | |
| JP2014148703A (en) | Sputtering device | |
| RU2311492C1 (en) | Device for high-speed magnetron sputtering | |
| US5591313A (en) | Apparatus and method for localized ion sputtering | |
| CN110396664B (en) | Grounding ring, chamber and physical vapor deposition equipment | |
| TWI480408B (en) | Magnetron screening gun device | |
| JP2011108615A (en) | Plasma treatment device | |
| RU134932U1 (en) | MAGNETRON SPRAYING SYSTEM | |
| CN111663102A (en) | Evaporation equipment and evaporation process | |
| JP6619921B2 (en) | Evaporation source | |
| EP3900014A1 (en) | Vacuum treatment apparatus and method for vacuum plasma treating at least one substrate or for manufacturing a substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM9K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20180703 |