RU2664009C1 - Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6 - Google Patents

Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6 Download PDF

Info

Publication number
RU2664009C1
RU2664009C1 RU2017130488A RU2017130488A RU2664009C1 RU 2664009 C1 RU2664009 C1 RU 2664009C1 RU 2017130488 A RU2017130488 A RU 2017130488A RU 2017130488 A RU2017130488 A RU 2017130488A RU 2664009 C1 RU2664009 C1 RU 2664009C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
cooling plate
films
solid solutions
plate
Prior art date
Application number
RU2017130488A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Виктор Иванович Шаповалов
Владислав Юрьевич Смирнов
Екатерина Андреевна Минжулина
Александр Андреевич Козин
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)
Priority to RU2017130488A priority Critical patent/RU2664009C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2664009C1 publication Critical patent/RU2664009C1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Abstract

FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the magnetron spraying unit for depositing films of solid solutions FeTiOwithin the range of 0<x<0.6 on the surface of metals, glasses or ceramics. Mentioned unit contains a target and a cooling plate, the target and the cooling plate being placed in a reactive medium consisting of a plasma-forming gas in the form of argon and a reactive gas in the form of oxygen. Target is rigidly attached to the cooling plate and is made in the form of two metal plates parallel to each other and located on the same axis as the cooling plate. Inner plate is made of iron, and the outer one is made of titanium, while the titanium plate is made with slits in the annular zone of erosion, the slits are located symmetrically with respect to the center of the target.EFFECT: increased homogeneity of films of solid solutions of two oxides with a homogeneous composition over the entire area of the substrate is ensured, while the chemical composition of this solution can be controlled by means of varying the total area of the slits.1 cl, 3 dwg, 1 ex

Description

Распылительный блок относится к устройствам, используемым в экологии для изготовления фотокаталитических пленок из твердых растворов двух оксидов на поверхности металлов, стекол и керамики.The spraying unit refers to devices used in ecology for the manufacture of photocatalytic films from solid solutions of two oxides on the surface of metals, glasses and ceramics.

Полупроводниковый фотохимический катализ применяется для решения ряда экологических задач [Шаповалов В.И. Нанопорошки и пленки оксида титана для фотокатализа: Обзор // Физика и химия стекла, - 2010. - Т. 36, №2, - С. 148-193]. Он эффективен для уничтожения бактерий и вирусов для инактивации рака, при фоторасщеплении воды для производства водорода, для связывания азота, для очистки от нефтяных пятен и минерализации широкого круга органических соединений таких, как алканы, алифатические этиловые спирты, алифатические ароматические кислоты, фенолы, поверхностно-активные вещества и пестициды, а также для редуктивного осаждения из водного раствора тяжелых металлов.Semiconductor photochemical catalysis is used to solve a number of environmental problems [Shapovalov V.I. Nanopowders and films of titanium oxide for photocatalysis: Overview // Physics and chemistry of glass, - 2010. - T. 36, No. 2, - S. 148-193]. It is effective for the destruction of bacteria and viruses for the inactivation of cancer, for the photodisintegration of water for the production of hydrogen, for the binding of nitrogen, for the removal of oil stains and the mineralization of a wide range of organic compounds such as alkanes, aliphatic ethyl alcohols, aliphatic aromatic acids, phenols, surface active substances and pesticides, as well as for reductive deposition from an aqueous solution of heavy metals.

В настоящее время установлено, что наиболее эффективным материалом для фотокатализа является диоксид титана TiO2 [Патент РФ 2447190, МПК С23С 14/35].It has now been established that the most effective material for photocatalysis is titanium dioxide TiO 2 [RF Patent 2447190, IPC С23С 14/35].

Кроме этого установлено, что действенным способом увеличения фотокаталитических свойств TiO2 является создание на его основе композита [Gracia F., Holgado J. P., Caballero A., Gonzalez-Elipe A. R. Structural, optical and photoelectrochemical properties of Mn+-TiO2 model thin film // J. Phys. Chem. В 2004. V. 108. N. 45. P. 17466-17476.]. Такой композит, содержащий TiO2 и несколько процентов оксида, например, железа обычно рассматривают как твердый раствор замещения двух оксидов с химическим составом FexTi(1-x)O2. Наиболее часто композиты изготавливают в виде пленок. Если для фотовозбуждения носителей заряда в пленке TiO2 нужен искусственный источник УФ излучения, то для пленки FexTi(1-x)O2 достаточно использовать естественный солнечный свет. Это связано со смещением ее края фундаментального поглощения в длинноволновую область (фиг. 2).In addition, it was found that an effective way to increase the photocatalytic properties of TiO 2 is to create a composite [Gracia F., Holgado JP, Caballero A., Gonzalez-Elipe AR Structural, optical and photoelectrochemical properties of Mn + -TiO 2 model thin film / / J. Phys. Chem. In 2004. V. 108. N. 45. P. 17466-17476.]. Such a composite containing TiO 2 and several percent oxide, for example, iron, is usually considered as a solid substitution solution of two oxides with the chemical composition Fe x Ti (1-x) O 2 . Most often, composites are made in the form of films. If for the photoexcitation of charge carriers in a TiO 2 film, an artificial source of UV radiation is needed, then for the Fe x Ti (1-x) O 2 film, it is sufficient to use natural sunlight. This is due to the shift of its fundamental absorption edge to the long-wavelength region (Fig. 2).

Синтез пленок оксидов выполняют с помощью множества химических и физических методов. Наиболее популярны методы реактивного магнетронного распыления. Типичный плоский магнетронный источник содержит распылительный блок, содержащий мишень, магнитную систему, корпус и систему охлаждения. Известны магнетронные источники, предназначенные для синтеза композиционных пленок [Патент РФ 2371514, С23С 14/35; патент США №2371514, С23С 14/34]. Они содержат два планарных магнетрона, расположенные рядом друг с другом в одной плоскости, и имеют мишени, изготовленные из разных материалов. Между магнетронами помещен магнитный шунт, выполненный из магнитной стали, который перераспределяет магнитные поля, связывая магнетроны между собой. Магнетроны подключены к системе питания с изменяемой полярностью. Когда на магнетроны подается отрицательный потенциал, происходит распыление мишени ионами рабочего газа, а когда положительный - плазменные электроны высаживаются на поверхность и разряжают диэлектрическую пленку, очищая катод.The synthesis of oxide films is carried out using a variety of chemical and physical methods. The most popular methods are reactive magnetron sputtering. A typical planar magnetron source comprises a spray unit containing a target, a magnetic system, a housing, and a cooling system. Known magnetron sources for the synthesis of composite films [RF Patent 2371514, C23C 14/35; US patent No. 2371514, C23C 14/34]. They contain two planar magnetrons located next to each other in the same plane, and have targets made of different materials. Between the magnetrons is placed a magnetic shunt made of magnetic steel, which redistributes the magnetic fields, linking the magnetrons to each other. Magnetrons are connected to a power system with a changeable polarity. When a negative potential is applied to magnetrons, the target is sputtered by ions of the working gas, and when positive, plasma electrons are deposited on the surface and discharge the dielectric film, cleaning the cathode.

Общим недостатком этих магнетронов является трудность обеспечения заданного состава при осаждении фотокаталитической пленки в виде твердого раствора из двух оксидов. Этот недостаток обусловлен сложностью конструкции магнетрона и сложностью электрического питания с изменяемой полярностью. Кроме этого такие магнетроны позволяют получить однородность пленок по площади подложки не более 80%. Однородность определяют как отношение, выраженное в процентах, наименьшего значения по площади подложки стехиометрического коэффициента х в химической формуле FexTi1-xO2 к наибольшему.A common drawback of these magnetrons is the difficulty of providing a given composition during the deposition of a photocatalytic film in the form of a solid solution of two oxides. This disadvantage is due to the complexity of the design of the magnetron and the complexity of the electrical power with variable polarity. In addition, such magnetrons make it possible to obtain film uniformity over the substrate area of not more than 80%. Homogeneity is defined as the ratio, expressed as a percentage, of the smallest value over the substrate area of the stoichiometric coefficient x in the chemical formula Fe x Ti 1-x O 2 to the largest.

Наиболее близким к заявляемому изобретению по совокупности существенных признаков, является мишень магнетрона, описанного в патенте, взятым за прототип [RU 121812 U1, 10.11.2012].Closest to the claimed invention in terms of essential features, is the target of the magnetron described in the patent, taken as a prototype [RU 121812 U1, 10.11.2012].

В патенте предлагается магнетрон, который содержит одиночную охлаждаемую водой мишень. Данное устройство, может быть использовано для осаждения пленок в виде одиночного оксида или нитрида, соответственно.The patent proposes a magnetron that contains a single water-cooled target. This device can be used to deposit films in the form of a single oxide or nitride, respectively.

Недостатком прототипа является отсутствие возможности осаждать однородные по химическому составу пленки твердого раствора из двух оксидов по всей площади подложки.The disadvantage of the prototype is the lack of the ability to precipitate uniform in chemical composition of the film of a solid solution of two oxides over the entire area of the substrate.

Задача, на решение которой направлено заявляемое изобретение, является создание распылительного блока магнетрона, позволяющего увеличить однородность по химическому составу пленок по всей площади подложки.The problem to which the invention is directed is to create a magnetron spraying unit, which allows to increase the uniformity in the chemical composition of the films over the entire area of the substrate.

Данная задача решается за счет того, что распылительный блок магнетрона для осаждения пленок твердых растворов FexTi(1-x)O2 в диапазоне 0<х<0.6, содержит мишень, так же, как в известном устройстве. Но в отличие от него предлагаемое устройство снабжено охлаждающей пластиной, причем мишень и охлаждающая пластина размещены в реактивной среде, состоящей из плазмообразующего газа в виде аргона и химически активного газа в виде кислорода, а мишень жестко прикреплена к охлаждающей пластине и выполнена в виде двух металлических пластин, параллельных друг другу и расположенных на одной оси с охлаждающей пластиной, причем внутренняя пластина выполнена из железа, а внешняя - из титана, при этом титановая пластина выполнена с прорезями в кольцевой зоне эрозии, расположенными симметрично относительно центра мишени.This problem is solved due to the fact that the magnetron sputtering block for the deposition of films of solid solutions Fe x Ti (1-x) O 2 in the range 0 <x <0.6 contains the target, as well as in the known device. But in contrast to it, the proposed device is equipped with a cooling plate, and the target and the cooling plate are placed in a reactive medium consisting of a plasma-forming gas in the form of argon and a reactive gas in the form of oxygen, and the target is rigidly attached to the cooling plate and made in the form of two metal plates parallel to each other and located on the same axis with the cooling plate, and the inner plate is made of iron and the outer one is made of titanium, while the titanium plate is made with slots in the ring Eve erosion zone located symmetrically about the target center.

Достигаемым техническим результатом является увеличение однородности пленок твердых растворов из двух оксидов по всей площади подложки.Achievable technical result is an increase in the uniformity of the films of solid solutions of two oxides over the entire area of the substrate.

Сущность изобретения поясняется чертежами, где:The invention is illustrated by drawings, where:

фиг. 1 - конструкция распылительного блока;FIG. 1 - design of the spray unit;

фиг. 2 - оптические спектры пропускания композиционной пленки FexTi(1-x)O2;FIG. 2 - optical transmission spectra of a composite film Fe x Ti (1-x) O 2 ;

фиг. 3 - зависимость химического состава пленки FexTi(1-x)O2 от суммарной площади прорезей.FIG. 3 - dependence of the chemical composition of the film Fe x Ti (1-x) O 2 from the total area of the slots.

Рассмотрим пример выполнения распылительного блока магнетрона (фиг.1). Предлагаемое изобретение было реализовано на базе цилиндрического сбалансированного магнетрона с мишенью диаметром 130 мм, на котором авторы выполняли эксперименты. Распылительный блок содержит на одной оси охлаждающую пластину 1 толщиною 4 мм и мишень. Мишень состоит из двух пластин: внутренняя 2 изготовлена из Fe, внешняя 3 - из Ti. Толщина каждой равна 1 мм. Вся конструкция жестко скреплена с помощью болтов 4. Зона эрозии 5 титановой пластины имеет форму кольца с площадью s=36 см2. В этой зоне выполнены прорези 6, расположенные симметрично относительно центра мишени. Прорези выполнены в виде отверстий. Суммарная площадь прорезей s2 задает площадь зоны эрозии железной пластины 7. Для титановой пластины площадь аналогичной области равна s1=s-s2. Величина s2 является параметром устройства, который влияет на химический состав пленки.Consider an example of the implementation of the spray unit of the magnetron (figure 1). The present invention was implemented on the basis of a cylindrical balanced magnetron with a target with a diameter of 130 mm, on which the authors performed experiments. The spray block contains on one axis a cooling plate 1 with a thickness of 4 mm and a target. The target consists of two plates: the inner 2 is made of Fe, the outer 3 is made of Ti. The thickness of each is 1 mm. The whole structure is rigidly fastened with bolts 4. The erosion zone 5 of the titanium plate has a ring shape with an area of s = 36 cm 2 . In this zone, slots 6 are made, located symmetrically with respect to the center of the target. The slots are made in the form of holes. The total area of the slots s 2 defines the area of the erosion zone of the iron plate 7. For a titanium plate, the area of a similar region is s 1 = ss 2 . The value of s 2 is a parameter of the device, which affects the chemical composition of the film.

Устройство работает следующим образом (см. фиг.1). Распыление мишени происходит в реактивной среде Ar+O2 (Ar - плазмообразующий газ, O2 - химически активный газ) при суммарном давлении 2-8 мТорр. Управляя плотностью тока и расходом кислорода, мишень переводят в оксидный режим работы, при котором поверхность обеих пластин покрыта соответствующим оксидом. Ионы аргона, образующиеся в разряде, бомбардируют поверхности обеих пластин мишени, распыляя поверхностные молекулы оксидов.The device operates as follows (see figure 1). Sputtering of the target occurs in a reactive medium Ar + O 2 (Ar is a plasma-forming gas, O 2 is a chemically active gas) at a total pressure of 2-8 mTorr. By controlling the current density and oxygen flow, the target is transferred to the oxide mode of operation, in which the surface of both plates is coated with the corresponding oxide. Argon ions formed in the discharge bombard the surfaces of both target plates by sputtering surface oxide molecules.

Внутренняя пластина 2 распыляется ионами, которые бомбардируют его через прорези 6 в титановой мишени, создавая область эрозии 7. В результате за счет симметричного расположения прорезей возникают осесимметричные потоки двух оксидов, которые в газовой среде перемешиваются, создавая суммарный поток с однородным распределением молекул в сечениях на расстоянии более 40-60 мм от мишени. Причем соотношение между концентрацией молекул двух оксидов задает суммарная площадь прорезей: при ее увеличении в суммарном потоке возрастает доля молекул оксида железа. Таким образом, на подложку осаждается однородная пленка в виде твердого раствора из двух оксидов. Химическим составом этого раствора можно управлять, варьируя суммарную площадь прорезей 6.The inner plate 2 is sprayed by ions that bombard it through the slots 6 in the titanium target, creating an erosion region 7. As a result, due to the symmetrical arrangement of the slots, axisymmetric flows of two oxides arise, which are mixed in the gas medium, creating a total flow with a uniform distribution of molecules in cross sections a distance of more than 40-60 mm from the target. Moreover, the ratio between the concentration of molecules of two oxides is determined by the total area of the slots: as it increases in the total flow, the fraction of molecules of iron oxide increases. Thus, a uniform film in the form of a solid solution of two oxides is deposited on the substrate. The chemical composition of this solution can be controlled by varying the total area of the slots 6.

Таким образом, предлагаемая конструкция распылительного блока магнетрона позволяет получать пленки твердых растворов оксидов с однородным химическим составом по всей площади.Thus, the proposed design of the magnetron spraying unit allows to obtain films of solid solutions of oxides with a uniform chemical composition over the entire area.

Устройство было использовано для осаждения на стекло пленок с химическим составом FexTi(1-x)O2. Для экспериментов была изготовлена партия титановых пластин с отверстиями, имеющими суммарную площадь s2=4, 8, 12 и 16 см2. С помощью каждой из них были получены образцы пленок. Для определения однородности были использованы оптические измерения. Химический состав определяли с помощь вторично-ионной масс-спектрометрии. Однородность пленок по площади подложки в образцах была не ниже 95%, что доказывает достижение технического результата. Экспериментальные зависимости стехиометрического коэффициента x в формуле FexTi(1-x)O2 от площади прорезей s2 представлены на фиг. 3.The device was used to deposit films with the chemical composition Fe x Ti (1-x) O 2 on glass. For experiments, a batch of titanium plates with holes having a total area of s 2 = 4, 8, 12, and 16 cm 2 was made . Using each of them, film samples were obtained. Optical measurements were used to determine uniformity. The chemical composition was determined using secondary ion mass spectrometry. The uniformity of the films over the substrate area in the samples was not lower than 95%, which proves the achievement of the technical result. The experimental dependences of the stoichiometric coefficient x in the formula Fe x Ti (1-x) O 2 on the area of slots s 2 are shown in FIG. 3.

Зависимости на фиг.3 доказывают, что заявляемое устройство позволяет осаждать фотокаталитические пленки в виде твердого раствора из двух оксидов с заданным химическим составом. Управление химическим составом обеспечено в диапазоне 0<х<0.6 изменением суммарной площади прорезей.The dependences in Fig. 3 prove that the inventive device allows the photocatalytic films to be deposited in the form of a solid solution of two oxides with a given chemical composition. The chemical composition is controlled in the range 0 <x <0.6 by changing the total area of the slots.

Claims (1)

Распылительный блок магнетрона для осаждения пленок твердых растворов FexTi(1-x)O2 в диапазоне 0<х<0,6, содержащий мишень, отличающийся тем, что он снабжен охлаждающей пластиной, причем мишень и охлаждающая пластина размещены в реактивной среде, состоящей из плазмообразующего газа в виде аргона и химически активного газа в виде кислорода, а мишень жестко прикреплена к охлаждающей пластине и выполнена в виде двух металлических пластин, параллельных друг другу и расположенных на одной оси с охлаждающей пластиной, причем внутренняя пластина выполнена из железа, а внешняя - из титана, при этом титановая пластина выполнена с прорезями в кольцевой зоне эрозии, расположенными симметрично относительно центра мишени.A magnetron spraying unit for depositing Fe x Ti (1-x) O 2 solid solutions films in the range 0 <x <0.6, containing a target, characterized in that it is provided with a cooling plate, the target and the cooling plate being placed in a reactive medium, consisting of a plasma-forming gas in the form of argon and a reactive gas in the form of oxygen, and the target is rigidly attached to the cooling plate and made in the form of two metal plates parallel to each other and located on the same axis with the cooling plate, and the inner plate olnena of iron, and the outer - titanium, the titanium plate is provided with slits in the annular erosion zone located symmetrically with respect to the target center.
RU2017130488A 2017-08-28 2017-08-28 Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6 RU2664009C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017130488A RU2664009C1 (en) 2017-08-28 2017-08-28 Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017130488A RU2664009C1 (en) 2017-08-28 2017-08-28 Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2664009C1 true RU2664009C1 (en) 2018-08-14

Family

ID=63177434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017130488A RU2664009C1 (en) 2017-08-28 2017-08-28 Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0<x<0_6

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2664009C1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU207556U1 (en) * 2021-08-10 2021-11-01 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)» (СПбГЭТУ «ЛЭТИ») Sputtered magnetron assembly for deposition of a FexNi1-x binary alloy film in the range 0.23 <x <0.27
RU2794659C1 (en) * 2023-01-23 2023-04-24 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет" Method for producing photocatalytic titanium oxide films and device for its implementation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986006416A1 (en) * 1985-05-02 1986-11-06 Hewlett-Packard Company Method and target for sputter depositing thin films
RU2026418C1 (en) * 1991-06-24 1995-01-09 Минский радиотехнический институт Apparatus for application of coatings in vacuum
RU2210620C1 (en) * 2001-12-21 2003-08-20 Ширяев Сергей Аркадьевич Process of ion-plasma deposition of multicomponent film coats , mosaic target for its implementation and process of manufacture of target
RU121812U1 (en) * 2012-07-02 2012-11-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS)

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986006416A1 (en) * 1985-05-02 1986-11-06 Hewlett-Packard Company Method and target for sputter depositing thin films
RU2026418C1 (en) * 1991-06-24 1995-01-09 Минский радиотехнический институт Apparatus for application of coatings in vacuum
RU2210620C1 (en) * 2001-12-21 2003-08-20 Ширяев Сергей Аркадьевич Process of ion-plasma deposition of multicomponent film coats , mosaic target for its implementation and process of manufacture of target
RU121812U1 (en) * 2012-07-02 2012-11-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" CATHODE-SPRAY ASSEMBLY OF MAGNETRON (OPTIONS)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU207556U1 (en) * 2021-08-10 2021-11-01 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)» (СПбГЭТУ «ЛЭТИ») Sputtered magnetron assembly for deposition of a FexNi1-x binary alloy film in the range 0.23 <x <0.27
RU2794659C1 (en) * 2023-01-23 2023-04-24 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет" Method for producing photocatalytic titanium oxide films and device for its implementation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bräuer et al. Magnetron sputtering–Milestones of 30 years
Suda et al. Preparation of high quality nitrogen doped TiO2 thin film as a photocatalyst using a pulsed laser deposition method
Konstantinidis et al. Titanium oxide thin films deposited by high-power impulse magnetron sputtering
US10056237B2 (en) Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
CA2846177A1 (en) Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment
Cemin et al. Low-energy ion irradiation in HiPIMS to enable anatase TiO2 selective growth
Ratova et al. Photocatalytic visible-light active bismuth tungstate coatings deposited by reactive magnetron sputtering
Biederman et al. Nanocomposite and nanostructured films with plasma polymer matrix
WO2013018192A1 (en) Method for forming silicon carbide thin film
Surpi et al. HiPIMS deposition of TiOx in an industrial-scale apparatus: Effects of target size and deposition geometry on hysteresis
RU2664009C1 (en) Magnetron spraying unit for depositing the films of solid solutions fexti(1-x)o2 within the range of 0&lt;x&lt;0_6
Li et al. Facilitating complex thin film deposition by using magnetron sputtering: a review
Sarra-Bournet et al. Low temperature growth of nanocrystalline TiO2 films with Ar/O2 low-field helicon plasma
RU2578336C2 (en) Perfected procedure of combined spraying of alloys and compounds with application of dual c-mag cathode structure and appropriate unit
Šícha et al. Ion flux characteristics in pulsed dual magnetron discharges used for deposition of photoactive TiO2 films
Sirghi Plasma synthesis of photocatalytic TiOx thin films
Chodun et al. Reactive sputtering of titanium compounds using the magnetron system with a grounded cathode
Dave et al. Synthesis of visible spectrum-active TiO2 thin film induced by RF magnetron sputtering
Lecoq et al. Elaboration of a wide range of TiO2 micro/nanostructures by high power impulse inverted cylindrical magnetron sputtering
Ratova et al. HiPIMS deposition of tungsten-doped titania coatings for photocatalytic applications
RU2316613C1 (en) Zinc oxide films deposition method
Vlček et al. Detailed pathway for a fast low-temperature synthesis of strongly thermochromic W-doped VO2 films with a low transition temperature
De Araújo et al. Deposition of TiO2 on silicon by sputtering in hollow cathode
Boivin et al. Towards control of TiO2 thickness film in R-HiPIMS process with a coupled optical and electrical monitoring of plasma
RU2747487C2 (en) Magnetron sputtering device