PT723008E

PT723008E - Processo para a limpeza de equipamento e dispositivo de limpeza de equipamento para a realizacao do processo

Info

Publication number: PT723008E
Application number: PT96100506T
Authority: PT
Inventors: Werner Stephan; Udo Hellmann; Wolfgang Stricker
Original assignee: Du Pont
Priority date: 1995-01-20
Filing date: 1996-01-16
Publication date: 2001-03-30
Also published as: ES2152439T3; GR3034992T3; JPH08245990A; DK0723008T3; US5700330A; DE59606107D1; AU4091296A; ATE197470T1; EP0723008B1; EP0723008A1; DE19501661C2; DE19501661A1; CA2167436A1

Description

V 1 2$4

Descrição “Processo para a limpeza de equipamento e dispositivo de limpeza de equipamento para a realização do processo” A invenção refere-se a um processo para a limpeza de equipamento sujo com restos de verniz, em que os restos de verniz são eliminados com uma mistura de dissolventes e um dispositivo de limpeza de equipamento baseada em dissolventes, que tem utilização em trabalhos de envernizamento para a limpeza ou a eliminação de restos de verniz em, por exemplo, recipientes, pistolas de pulverização e semelhantes. O dispositivo de limpeza de equipamento pode ser utilizado no processamento de materiais de verniz tanto à base de dissolvente como também diluiveis com água.

Nos trabalhos de envernizamento, por exemplo no envernizamento de veículos automóveis ou noutros domínios de utilização industrial, depois do envernizamento e também depois duma troca de tonalidades de cor ou duma troca do tipo do material a aplicar, é necessário limpar o equipamento de aplicação como especialmente pistolas de pulverização.

Para o efeito, em primeiro lugar esvazia-se o vemiz da pistola. Em seguida, adiciona-se no copo uma pequena quantidade de diluente de lavagem e faz-se funcionar a pistola. Repete-se este processo até sair apenas diluente limpo a partir da abertura do pulverizador. Em seguida, esfrega-se a pistola com um pano livre de pêlos até ficar limpa. Para uma limpeza profunda desmonta-se parcialmente a pistola de pulverização e limpam-se os componentes individuais com diluente de lavagem (“Die Autolackierung”, Vogel Buchverlag. Wurzburg, 4 edição 1988, página 128, Hauber, Mitz e Puchhahn). 7#

Além deste método de trabalho manual existe também a possibilidade de limpar a pistola de pulverização, depois de desmontada, em máquinas automáticas de lavagem especiais (por exemplo numa máquina de Drestler-Muschel).

Para a preparação de vernizes baseados em dissolventes utilizados correntemente como diluentes de lavagem utilizam-se hidrocarbonetos aromáticos como tolueno, xileno e ésteres, como acetato de etilo, acetato de isopropilo, acetato de isobutilo, acetato de n-butilo e fracções benzénicas como um ponto de inflamação inferior a 21°C. Assim por exemplo na DE-A-44 05 196 descrevem-se soluções de limpeza para limpar ferramentas de envernizamento que a 20°C possuem uma pressão de vapor no máximo igual a 3 mbar e 5 - 60% em peso de hidrocarbonetos aromáticos assim como 40 - 95% em peso de outros solventes escolhidos do grupo dos ésteres, cetonas, eterésteres, álcoois e/ou eterálcoois.

Na JP-A-63022393 descreve-se uma composição de limpeza com um teor de 5 a 20% em peso de um éter de Q-glicol, 5 a 30% em peso de uma C5.9 cetona e 50-90% em peso de um Cs.i2-hidrocarboneto. Estes possuem uma elevada segurança relativamente ao perigo de inflamação e de explosão e são portanto utilizados para a limpeza interior do sistema de aspiração de motores de veículos automóveis com um sistema de aspiração de combustível electrónico. A LiS-A-4 309 300 descreve misturas dissolventes que não se utilizam para a eliminação de superfícies envernizadas modificadas por luz ultravioleta sem separar o verniz como tal. Estas composições contêm 15-50 % em volume de éter glicóhco, 5-15% em volume de álcool, 3-11% em volume de cetona e 24-77% em volume de água.

Por razões ecológicas prefere-se hoje em dia utilizar materiais de verniz à base de água reforçados. No caso de se utilizar vernizes diluíveis com água, no /k entanto, não se utilizam as composições de limpeza usualmente utilizadas. Se os resíduos de verniz diluíveis com água entrarem em contacto com as composições de limpeza usuais mencionadas antes, então venficam-se fenómenos de coagulação que fazem precipitar os produtos diluíveis com água. Para os vernizes de água devem--se portanto utilizar outros dissolventes nomeadamente miscíveis ou solúveis em água para a limpeza. Estes dissolventes não são apropriados para vernizes à base de dissolventes. Neste caso, há igualmente fenómenos de coagulação já mencionados.

Quer dizer, se se empregarem vernizes à base de dissolvente e vernizes à base de água ao lado uns dos outros então são necessários dois líquidos de limpeza baseados nos dois sistemas e, no caso da limpeza por meio de máquinas automáticas de limpeza, devem também existir duas dessas máquinas automáticas de limpeza. É portanto objectivo da presente invenção proporcionar um processo para a limpeza de equipamento sujo com restos de verniz e um dispositivo para limpeza de equipamento para a realização do processo que possam ser utilizados universalmente para materiais de verniz à base de água e à base de dissolventes.

Este objectivo foi atingido por meio de um processo do tipo mencionado antes que se caractenza pelo facto de, como mistura de dissolventes, se utilizar uma mistura que contém

A) 15 - 35% em peso de um ou mais éteres de glicol da fórmula geral I OH - (CH? - CH? - 0)m - R, 1 na qual R| = Ci_4-alquilo e m = 1 ou 2 e

B) 65 - 85% em peso de uma ou mais cetonas alifáticas da fórmula geral II

R, - C- R. O

II 4

na qual R2 = Ci.3-alquilo e R3 = Ci.3-alquilo e R2 e R3 podem ser iguais ou diferentes, em que a soma A) + B) é igual a 100% em peso. É também objecto da invenção um dispositivo para limpeza de equipamento à base de uma mistura de dissolventes para a realização do processo, que se caracteriza pelo facto de conter

A) 15 - 35% em peso de um ou mais éteres de glicol da fórmula geral I

OH - (CH2 - CH2 - 0)m - R, I na qual R] = Ct.4-alquilo e m = 1 ou 2 e

B) 65 - 85% em peso de uma ou mais cetonas alifáticas da fórmula geral II

II

R, -C-R. O na qual R2 = Ci.3-alquilo e R? = C1.3-alquilo e R2 e R3 podem ser iguais ou diferentes, em que a soma A) B) é igual a 100% em peso.

Surpreendentemente, a Requerente descobriu que, com a mistura de dissolventes de acordo com a presente invenção, não só se dissolvem bem os resíduos de verniz que se baseiam em dissolventes como também os diluíveis com água e a acção de limpeza se desenvolve também universalmente nos mais diversos materiais de verniz, tais como primários, tintas de enchimento, verniz de base, verniz de cobertura.

No componente A) da composição de limpeza de acordo com a presente invenção trata-se de éteres glicólicos da fórmula geral I mencionada antes. Exemplos de éteres glicólicos deste tipo são metilglicol, etilglicol, butilglicol, metildiglicol, etildiglicol, butildiglicol. Preferem-se metildiglicol e butildiglicol.

No caso do componente B) da composição de limpeza de acordo com a ?$ί presente invenção trata-se de cetonas alifáticas da fórmula geral II. São exemplos destas cetonas acetona, dietilcetona, di-isobutilcetona, metiletilcetona, metil-n--propilcetona. São preferidas acetona e metiletilcetona. O dispositivo para limpeza de equipamento de acordo com a invenção pode ser utilizado para a limpeza de pistolas de pulverização, recipientes e semelhantes que estão impurificados por restos de verniz que se baseiam em dissolvente ou são diluíveis com água. Trata-se de um dispositivo de limpeza universal que possui uma acção de limpeza igualmente boa para os mais diversos materiais de vernizes. A eliminação ou o afastamento dos resíduos de verniz nas máquinas automáticas de limpeza realiza-se apenas por acção de limpeza da mistura de dissolventes de acordo com a invenção; não são necessárias operações adicionais como por exemplo o trabalho com um pincel.

Como diversos materiais de vernizes podem mencionar-se: protecção contra o choque de pedras, plástico de pulverização PE, primário plástico, primário de 1K, demão de enchimento de plástico, demão de enchimento de 2K, hidro--enchimento 1K, verniz de base, verniz de base aquoso, verniz de cobertura 2K, verniz de cobertura aquoso. As mencionadas composições de revestimento podem nesse caso basear-se em todos os agentes ligantes conhecidos e necessários para a composição de revestimento especial. Como exemplos podem mencionar-se agentes ligantes alquídicos, de poliuretano, de poliuretano-ureia, de poliéster, de poliacrilato, resinas epoxido, combináveis com diferentes agentes de reticulação como poli-isocianatos (eventualmente bloqueados), resinas de aminoplastas, poliaminas, agentes de reticulação de re-esterificação.

No caso da limpeza de equipamento impurifícado com vernizes de água é vantajoso em pnmeiro lugar limpar o equipamento com água e em seguida utilizar a mistura de limpeza de equipamento de acordo com a presente invenção. Impurificações provenientes de vernizes baseados em dissolvente podem ser eliminadas directamente com a composição de acordo com a presente invenção. e A invenção é esclarecida por meio de exemplos.

Exemplos 1 e 2 e exemplos comparativos 3-8

Preparam-se misturas de dissolventes a partir de 75% em peso de acetona e 25% em peso de metildiglicol ou butildiglicol. Para comparação preparam-se outras misturas dissolventes que correspondem ao Quadro 1 (Colunas 3 - 8). No Quadro 2 avaliam-se as possibilidades de dissolução e irascibilidade das misturas dissolventes individuais para diferentes materiais de verniz.

Quadro 1

Mistura

Dissolvente 1 2 ! 3 4 5 6 7 8 Acetona 75 75 | 75 75 j 33 75 Metilcetona | í 33 Metildiglicol 25 ! Butildiglicol 25 ! i Acetato de butilo 33 33 33 Xileno i 25 34 Isopropanol 34 NMP 25 Butirolactona 25 Butilglicol 33 í Agua 34 i 7 Miscibi

Quadro 2 idade e capacidade de solição Composição do revestimento 1 2 3 4 5 6 7 8 comendo dissolventes Primário1K i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. Massa de enchimento 2K i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. Verniz de cobertura 2K. i.O. i.O. i.O. i.O i.O. i.O i.O. i.O. Demão de enchimento epoxi de 2K i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. Plástico de pulverização PE i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. ' n.i.O. Primário plástico i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. j n.i.O. Demão de enchimento plástico i.O. j i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. j n.i.O. Demão de enchimento plástico 2K i.O i i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. í i.O. 1 Diluivel com água ! | Demão de enchimento à base de água IK i.O. j 1.0. n.i.O. n.i.0. n.i.O. ni.O. n.i.O. n.i.O. Demão de enchimento à base de água dc 2K 1.0. i.O. i.O. i.O. ni.O. i.O. n.i.O. n.i.O. Verniz de cobertura à base de água i.O. 1 i.O. i.O. i.O. i.O. i.O. n.i.O. i.O. Verniz á base de água i.O. í i.O i.O. n.i.0. i.O. i.O. n.i.O. i.O. Protecção contra o choque de pedras i.O. i.O. n.i.O. n.i.0. n.i.O. n.i.O. n.i.O. n.i.O. i.O. = em ordem n.i.O. = não em ordem. O Quadro 2 mostra que um grande número de misturas dissolventes é apropriada para a eliminação de diversas sujidades de verniz. No entanto, apenas as misturas de dissolventes de acordo com a presente invenção são universalmente utilizáveis para a limpeza de todos os vernizes que contém dissolvente e diluíveis com água mencionados. íjat

Lisboa, 5 de Dezembro de 2000 ·[ O Agente Oficial da Propriedade Indusinai

JOSE DE SAMPAIO A.Q.P.I. Rua do Salitre, 195, r/c-Ort. 1250 LISBOA

Claims

I Reivindicações 1. Processo para a limpeza de equipamento sujo com restos de verniz, em que os restos de verniz são eliminados com uma mistura dissolvente, caracterizado pelo facto de, como mistura dissolvente, se utilizaram uma mistura que contém A) 15 - 35% em peso de um ou mais éteres de glicol da fórmula geral 1 OH - (CH2 - CH? - 0)m - Rj I na qual Ri = Ci_4-alquilo e m = 1 ou 2 e B) 65 - 85% em peso de uma ou mais cetonas alifáticas da fórmula geral II R,-C-R3 II 0 na qual R2 = Cu-alquilo e R3 = C|.3-alquilo e R2 e R3 podem ser iguais ou diferentes, em que a soma A) + B) é igual a 100% em peso.
2. Processo de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo facto de, como componente A, se utilizarem metildiglicol e/ou butildiglicol.
3. Processo de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo facto de, como componente B, se utilizar acetona e/ou metiletilcetona.
4. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo facto de o equipamento sujo com restos de verniz e água ser previamente lavado com água.
5. Dispositivo para limpeza de equipamento à base de uma mistura dissolvente para a realização do processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo facto de conter A) 15 - 35% em peso de um ou mais éteres de glicol da fórmula geral I I OH - (CH2 - CH, - 0)m - R, na qual Ri = Ci_4-alquilo e m - 1 ou 2 e B) 65 - 85% em peso de uma ou mais cetonas alifáticas da fórmula geral II R,-Ç-Rs II 0 na qual R2 = Ci_3-álquilo e R3 = Cj.3-alquilo e R2 e R3 podem ser iguais ou diferentes, em que a soma A) + B) é igual a 100% em peso.
6. Dispositivo de limpeza de equipamento de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo facto de o componente A ser metildiglicol ou butildiglicol ou a sua mistura.
7. Dispositivo de limpeza de equipamento de acordo com a reivindicação 5 ou 6, caracterizado pelo facto de o componente B ser acetona ou metiletilcetona ou a sua mistura. Lisboa, 5 de Dezembro de 2000 1 O Agente Oficial da Propriedade Industrial

A.O.P.1. Rua do Salitre, 195, r/c-Drt. 125« LISBOA 1 Resumo “Processo para a limpeza de equipamento e dispositivo de limpeza de equipamento para a realização do processo*' A invenção refere-se a um processo para a limpeza de equipamento sujo com restos de verniz, no qual os restos de verniz são eliminados com uma mistura dissolvente e um dispositivo de limpeza de equipamento à base de uma mistura de dissolventes para a realização do processo. A mistura de dissolventes contém A) 15 - 35% em peso de um ou mais éteres de glicol da fórmula geral I OH - (CH2 - CH2 - 0)m - R, I na qual Ri = Ci^-alquilo e m = 1 ou 2 e B) 65 - 85% em peso de uma ou mais cetonas alifáticas da fórmula geral 11 R,-Ç-R3 II 0 na qual R2 = Ci.n-alquilo e Rj = C,.3-alquilo e R2 e R3 podem ser iguais ou diferentes. Lisboa, 5 de Dezembro de 2000 “7 ¥ fM Ό Agente Oficia! da Propriedade Industriai

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