PL96195B1 - Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych - Google Patents
Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych Download PDFInfo
- Publication number
- PL96195B1 PL96195B1 PL18147175A PL18147175A PL96195B1 PL 96195 B1 PL96195 B1 PL 96195B1 PL 18147175 A PL18147175 A PL 18147175A PL 18147175 A PL18147175 A PL 18147175A PL 96195 B1 PL96195 B1 PL 96195B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- composition
- addition
- layer
- weight
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 6
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 2
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- -1 luminescent Chemical compound 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N (1s,4r,5s,6r)-1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)[C@]2(Cl)[C@H](C(=O)O)[C@H](C(O)=O)[C@@]1(Cl)C2(Cl)Cl DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- PLVLWMLQCINABX-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 PLVLWMLQCINABX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Chemical class 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004054 benzoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000005181 nitrobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 208000007578 phototoxic dermatitis Diseases 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical class COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004059 quinone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania form drukowych fotorelief owych znajdujacych szerokie zastosowanie w technice typograficznej oraz w tzw. suchym offsecie. Obie techniki wykorzystuja wytworzone miejsca wypukle na formie, tzn. relief, na który moze przeniesc farbe.Znane sposoby wytwarzania formy drukowej polegaja na naniesieniu na podloze warstwy zdolnej do fotopolimeryzacji, naswietleniu tej warstwy przez negatyw, usunieciu obszarów nienaswietlonych oraz ewentualnym dodatkowym naswietleniu, w celu calkowitego utwardzenia miejsc naswietlonych. Warstwa swiatloczula moze byc nanoszona na podloze bezposrednio przed naswietleniem, badz tez duzo wczesniej, zaleznie od rodzaju skladników, z których jest wytworzona.Jako zródla swiatla uzywane sa ogólnie znane lampy lukowe, rteciowe, luminescencyjne, ksenonowe lub metalohalogenowe. Czas naswietlania warstwy zalezy od typu kompozycji swiatloczulej oraz rodzaju stosowanego oswietlenia i wynosi najczesciej 1—30 min. Usuwanie obszarów nienaswietlonych polega na ich wymywaniu za pomoca rozpuszczalników, takich jak alkohole, estry, ketony, weglowodory aromatyczne lub ich mieszaniny oraz wodne roztwory wodorotlenków metali alkalicznych.Najpowazniejszym problemem przy wytwarzaniu foto reliefowych form drukowych jest dobranie skladników tworzacych kompozycje fotopolimeryzujaca. Stosowane kompozycje zawieraja substancje fotopol i mery zujaca, inicjator reakcji fotopolimeryzacji oraz ewentualnie stabilizatory i inhibitory.W praktyce stosuje sie rózne kompozycje fotopolimeryzujace. Najczesciej stosowane kompozycje zawieraja monoestry wielowodorotlenowych alkoholi i kwasu akrylowego lub kwasu metakrylowego z dodatkiem inicjatora reakcji i stabilizatora.Znane sa równiez kompozycje oparte na poliwinylopirydynie, polistyrenie, kopolimerach styrenu z dodatkiem zwiazków azydkowych, chinonowych lub benzoinowych jako inicjatorów. Na przyklad wedlug opisu patentowego Wlk. Bryt. nr 1055196 kompozycja fotopolimeryzujaca sklada sie z mono-, dwu- lub trójakrylanów pentaerytrytolu otrzymanych przez kondensacje pentaerytrytolu z kwasem akrylowym oraz dwuetyloantrachinonu jako inicjatora i p-metoksyfenolu jako stabilizatora.2 96195 Wedlug opisu patentowego RFN nr 1285306 stosuje sie kompozycje zawierajace polietery otrzymane z 2,2-bis(4-hydroksyfenylo)-propanu i epichlorohydryny lub poliwinylopirydyne, polistyren, kopolimery styrenu z dodatkiem zwiazków azydkowych jako inicjatorów.Wedlug wynalazku sposób wytwarzania form drukowych fotoreliefowych polega na powleczeniu podloza warstwa kompozycji fotopo I i mery zujacej o grubosci 0,1—3 mm skladajacej sie z zywicy poliestrowej zawierajacej wiazania nienasycone pochodzace od kwasu fumarowego, maleinowego, itakonowego, szesciochloroendometylenoczterowodoroftalowego i/lub ich bezwodników z dodatkiem inicjatora fotopolimeryzacji w ilosci 0,01—10% wagowych oraz ewentualnie z dodatkiem stabilizatorów w ilosci 0,01-5% wagowych, która naswietla sie poprzez negatyw za pomoca ogólnie stosowanych zródel swiatla, po czym obszary nienaswietlone usuwa sie mechanicznie za pomoca strumienia wody, ewentualnie z dodatkiem srodków powierzchniowo-czynnych.Jako podloze wedlug wynalazku stosuje sie plyty metalowe, takie jak np. aluminiowe, stalowe, cynkowe i inne o grubosci 0,05 mm-7 mm lub folie z tworzyw sztucznych takie jak np. folie poliestrowa, polipropylenowa, poliweglanowa, pol iary lanowa, z octanu celulozy i inne.Jako zywice poliestrowa stosuje sie zywice otrzymana przez kondensacje kwasu fumarowego, maleinowego, itakonowego, szesciochloroendometylenoczterowodoroftalowego (HET)*lub ich bezwodników zdiolami, korzystnie z glikolem etylenowym, dwuetylenowym, propylenowym, dwupropylenowym lub ich mieszaninami z dodatkiem monomerów sieciujacych np. estrów kwasów akrylowych lub metakrylowych, styrenu, eteru winylowego.Jako inicjatory reakcji stosuje sie pochodne benzoiny, takie jak ewentualnie chlorowcowane alkilobenzoiny, np. eter mety I o- lub etylobenzoinowy lub pochodne chinonowe takie jak alkilo- lub arylopodstawione antrachinony, naftochinony lub benzochinony. Jako stabilizatory kompozycji fotopo I i mery zujacej ewentualnie stosowane wedlug wynalazku uzywa sie znane stabilizatory termiczne, np. fiiepodstawione lub alkilo- lub arylopodstawione hydrochinony, fenol, pirydyna, nitrobenzeny i inne oraz stabilizatory reakcji ciemniowych.Dzieki zastosowaniu kompozycji f ot opól imery zujacej wedlug wynalazku osiaga sie krótki czas przygotowania formy drukowej, za pomoca której uzyskuje sie duze naklady rzedu kilkuset tysiecy odbitek a kompozycja charakteryzuje sie wysoka rozdzielczoscia rzedu 50—60 linii/cm. Forma drukowa wykonana sposobem wedlug wynalazku umozliwia wykorzystanie jej równiez do matrycowania. Ponadto do wytworzenia kompozycji swiatloczulej wedlug wynalazku stosuje sie latwodostepne i tanie surowce oraz dzieki temu, ze do wymywania nienaswietlonych obszarów uzywa sie wody oszczedza sie rozpuszczalniki.Przedmiot wynalazku jest blizej wyjasniony w przykladach.wykonania, które jednakze nie ograniczaja jego zakresu.Przyklad I. Kompozycje swiatloczula skladajaca sie z 9,5 g zywicy poliestrowej otrzymanej przez kondensacje kwasu fumarowego z glikolem dwuetylenowym z dodatkiem metakrylanu metylu jako srodka sieciujacego i 0,5 g eteru metylobenzoinowego jako inicjatora reakcji naklada sie na plyte stalowa o grubosci 2 mm. Nastepnie do plyty przyklada sie negatyw i naswietla nalozona warstwe w czasie 5 min., stosujac jako zródlo swiatla dwie lampy rteciowe o lacznej mocy 500 W. Nienaswietlone obszary usuwa sie za pomoca strumienia wody, po czym naswietla sie plyte dodatkowo jeszcze przez 5 min. Otrzymuje sie forme drukowa charakteryzujaca sie rozdzielczoscia 54 linie/cm.Przyklad II. Kompozycje swiatloczula skladajaca sie z 9,7 g zywicy poliestrowej otrzymanej przez kondensacje bezwodnika maleinowego i kwasu szesciochloroendometylenoczterowodoroftalowego z glikolem propylenowym z dodatkiem eteru winylowego jako srodka sieciujacego i 0,2 g 9,10-antrachinonu jako srodka inicjujacego z dodatkiem 0,1 g fenolu jako stabilizatora pokrywa sie plyte cynkowa warstwa o grubosci 3 mm.Zródlo swiatla i czas naswietlania jak w przykladzie I. Otrzymuje sie forme drukowa charakteryzujaca sie rozdzielczoscia 54 linie/cm. » Przyklad III. Warstwa o grubosci 0,8 mm kompozycji swiatloczulej skladajacej sie z 9,4 g zywicy poliestrowej otrzymanej przez kondensacje kwasu maleinowego z glikolem etylenowym i dwupropylenowym z dodatkiem akrylanu etylu jako srodka sieciujacego i 0,4 g 1,4-naftachinonu jako inicjatora reakcji i 0,2 g beta nafto I u jako srodka stabilizujacego pokrywa sie folie z octanu celulozy i naswietla lampa lukowa o mocy 1000 W w czasie 3 minut po czym nienaswietlone obszary usuwa sie za pomoca strumienia wody i dodatkowo naswietla w czasie 1 minuty. Uzyskuje sie forme drukowa o rozdzielczosci 58 linii/cm. PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania form drukowych fotoreliefowych przez nakladanie na podloze warstwy kompozycji fotopolimeryzujacej, naswietlanie kompozycji poprzez negatyw i usuniecie nienaswietlonych obszarów przez wymycie ich woda, znamienny tym, ze, jako kompozycje fotopo I imery zujaca nakladana96195 3 na podloze warstwe o grubosci 0,1—3 mm stosuje sie zywice poliestrowa otrzymana przez kondensacje glikolu etylowego, glikolu dwuetylowego, glikolu propylenowego i/lub ich mieszanin z nienasyconymi kwasami fumarowym, maleinowy m, itakonowym, szesciochlorocndometylenoczterowodoroftalowym i/lub ich bezwodnikami z dodatkiem inicjatora fotopolimeryzacji w ilosci 0,01—10% wagowych oraz ewentualnie z dodatkiem stabilizatorów w ilosci 0,01-5% wagowych i po naswietleniu warstwy kompozycji fotopo I i mery zujacej nienaswietlone obszary usuwa sie.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze nienaswietlone obszary kompozycji fotopolimeryzujacej usuwa sie mechanicznie za pomoca strumienia wody z dodatkiem 0,01—5% wagowych srodków powierzchniowo-czynnych. PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18147175A PL96195B1 (pl) | 1975-06-23 | 1975-06-23 | Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18147175A PL96195B1 (pl) | 1975-06-23 | 1975-06-23 | Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL96195B1 true PL96195B1 (pl) | 1977-12-31 |
Family
ID=19972666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL18147175A PL96195B1 (pl) | 1975-06-23 | 1975-06-23 | Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL96195B1 (pl) |
-
1975
- 1975-06-23 PL PL18147175A patent/PL96195B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3376139A (en) | Photosensitive prepolymer composition and method | |
| US3870524A (en) | Photopolymerizable composition | |
| EP0109291B1 (en) | Photopolymerizable composition | |
| KR100305960B1 (ko) | 감광성조성물및이조성물을사용한패턴형성방법 | |
| GB2029423A (en) | Photo-polymerisable materials and recording method | |
| CS208687B2 (en) | Photopolymerable copying matter | |
| GB1343482A (en) | Photopolymerizable compositions and articles | |
| KR100187787B1 (ko) | 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록물질 | |
| US5541038A (en) | Photopolymerizable compositions | |
| CN108241259B (zh) | 一种具有良好孔掩蔽功能可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物 | |
| JP2000231190A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP2627430B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| US3493371A (en) | Radiation-sensitive recording material | |
| US3376138A (en) | Photosensitive prepolymer composition and method | |
| GB1208190A (en) | Improvements in and relating to light-sensitive mixtures and recording materials produced therefrom | |
| CA1058943A (en) | Light sensitive copying composition comprising a synergistic initiator system | |
| PL96195B1 (pl) | Sposob wytwarzania form drukowych fotoreliefowych | |
| KR940001549B1 (ko) | 고감도의 폴리아미드 에스테르 감광성 내식막 제제 | |
| US3650745A (en) | Printing plate carrying a photoactive layer | |
| JP2024003098A (ja) | 感光性樹脂フィルム、レジストパターンの形成方法、及び配線パターンの形成方法 | |
| US4053317A (en) | Light-sensitive composition | |
| JPWO2002079878A1 (ja) | 回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造法 | |
| JPS59171949A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2024526665A (ja) | 感光性組成物、感光性エレメント、及び配線基板の製造方法 | |
| JP2000500883A (ja) | 感光性組成物 |