PL87443B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL87443B1
PL87443B1 PL16388773A PL16388773A PL87443B1 PL 87443 B1 PL87443 B1 PL 87443B1 PL 16388773 A PL16388773 A PL 16388773A PL 16388773 A PL16388773 A PL 16388773A PL 87443 B1 PL87443 B1 PL 87443B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
rhodium
gold
hydroxide
coatings
bath
Prior art date
Application number
PL16388773A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL16388773A priority Critical patent/PL87443B1/pl
Publication of PL87443B1 publication Critical patent/PL87443B1/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok ze stopu zloto — rod, zwlaszcza na styki kontaktronów miniaturowych.Stan techniki. Do pokrywania styków elektrycz¬ nych, a w szczególnosci stosowanych w elektronice styków miniaturowych wymagajacych duzej nieza¬ wodnosci i trwalosci dzialania, stosuje sie najczes¬ ciej powloki rodowe nakladane sposobem galwa¬ nicznym. Galwaniczne kapiele rodowe, z których otrzymuje sie wspomniane powloki rodowe, jak to wynika z opisu patentowego USA nr 2895890, po¬ siadaja szczególnie przy masowej produkcji szereg niedogodnosci. W czasie procesu nanoszenia powlok do rodowych kapieli przedostaja sie zanieczyszcze¬ nia jonów chlorkowych w ilosci okolo 0,1 g/l, co powoduje otrzymywanie szarych powlok. Przy wiekszych stezeniach zanieczyszczen rzedu 0,3 g/l otrzymuje sie powloki chropowate, nie nadajace sie do celów technicznych. Zabezpieczenie przed tego rodzaju zanieczyszczeniami jest bardzo trudne, zwlaszcza jezeli czesci pokrywane rodem, podda¬ wane sa wstepnej obróbce galwanicznej w kapie¬ lach zawierajacych jony chlorkowe.Kapiele rodowe zawieraja bardzo duze ilosci kwasu siarkowego i, na przyklad przy stezeniu g rodu w 1 litrze w postaci siarczanu, ilosc stezonego kwasu siarkowego wynosi okolo 50 cm*, czyli 92 g kwasu. Tak duza zawartosc kwasu siarkowego w kapielach rodowych powoduje latwe rozpuszczanie sie metali przy zetknieciu z kapiela lub przy spadnieciu pokrywanej czesci na dno wanny.Powloki rodowe, z powodu duzych naprezen wewnetrznych, duzej twardosci i zawartosci po¬ chlonietego wodoru latwo pekaja i odpryskuja od podloza. Podczas eksploatacji kapieli rodowych, wskutek wydzielania rodu, wzrasta stale stezenie kwasu siarkowego. Uzupelnianie ubytków solami rodu i zobojetnianie wytworzonego kwasu siarko¬ wego, na przyklad amoniakiem, zmienia sklad che¬ miczny kapieli. W nastepstwie tego ulegaja ciaglej zmianie warunki prowadzenia procesu galwanicz¬ nego nanoszenia powlok, co jest istotnym utrud¬ nieniem przy masowej produkcji, zwlaszcza styków kontaktronów.Znane sa inne sposoby nanoszenia powlok, zlota z róznymi domieszkami metalicznymi. W sposobie wedlug francuskiego opisu patentowego nr 1388541 jako dodatek stosuje sie do kapieli zlotych sole kwasów organicznych i nieorganicznych metali, jak: kobalt, ind, cynk, nikiel, antymon, platyna, pallad i rod. Przy czym do kapieli galwanicznej pokry¬ wania zlotem i rodem dodaje sie sól rodu w postaci fosforanu w ilosci 0,02 g/l. Wynika to z faktu, ze kwas fosforowy rozpuszcza wodorotlenek rodu i bardzo latwo otrzymuje sie fosforan rodu.Stezenie soli rodu — fosforanu rodu — w ilosci 0,02 g/l jest zbyt niskie, aby mogly powstac powlo¬ ki o zawartosci rodu rzedu 1—2%. Z kapieli za¬ wierajacych wyzsze stezenie fosforanu rodu rzedu 87 44387 443 1 g/l otrzymuje sie powloki ciemne, nie nadajace sie dla celów technicznych, w szczególnosci na styki kontaktronów.W sposobie wedlug szwajcarskiego opisu paten¬ towego nr 384072 do kapieli galwanicznej pokry- 5 wania zlotem stosuje sie dodatki w postaci roz¬ puszczalnych soli metali ciezkich podobnie jak to jest zawarte we wspomnianym francuskim opisie patentowym nr 1388541. W tym przypadku sole metali ciezkich, do których zaliczaja sie: nikiel, 10 cynk, ind, kobalt, dodaje sie pojedynczo lub we wzajemnych mieszaninach dwuskladnikowych, jak na przyklad: sól niklowa z cynkowa, kobaltowa z indowa itp.Istotna wspólna niedogodnoscia znanych sposobów 15 nanoszenia powjfik rodowych lub zlota z innymi dodatkami, jak Ha* przyklad: zlota z kobaltem, mo¬ libdenem itp. w odniesieniu do styków, a w szcze¬ gólnosci styków kontaktronów miniaturowych, jest to, ze powloki te nie zapewniaja stalych opornosci 20 zwarcia, a przy tym sa pracochlonne i kosztowne.Cel wynalazku. Celem wynalazku jest wyelimino¬ wanie powyzszych wad i niedogodnosci, a w szcze¬ gólnosci opracowanie takiego sposobu nakladania powloki, aby byla calkowicie pozbawiona spekan 25 i naprezen 4wlasnych, odznaczala sie, zwlaszcza w odniesieniu do kontaktronów miniaturowych stala opornoscia zwarcia, byla technologicznie znacznie prostsza i tansza.Opis wynalazku. Sposób wedlug wynalazku polega 10 na tym, ze do standradowej galwanicznej kapieli kwasnej, zawierajacej zloto jako cyjanozlocin pota¬ su, dodaje sie wodny roztwór soli rodowej w po¬ staci cytrynianu rodu w ilosci 1—3 g Rh/l, otrzy¬ many przez rozpuszczenie wodorotlenku rodu w « kwasie cytrynowym z osadu zawierajacego siarczan baru i wodorotlenek rodu, wydzielonych stechiome- tryczna iloscia — wodorotlenku baru z roztworu siarczanu rodu, przy czym proces nakladania po- 4 wloki prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3—1,5 A/dcm2 w temperaturze 18—25°C, przy pH w gra¬ nicach 3,8—4,5 stosujac mieszanie elektrolitu. Ilosc rodu, która rozpuscila sie w kwasie cytrynowym, oznaczac mozna analitycznie. Roztwór cytrynianu rodu po nastawieniu na wartosc pH 3,8—4,5 stosuje sie jako dodatek do kapieli zlota.Zalety wynalazku. Sposób wedlug wynalazku po¬ zwala na otrzymanie powlok zloto — rod do po¬ krywania styków odznaczajacych sie stala i jedna¬ kowa opornoscia zwarcia. Ponadto sposób ten jest prosty i tani w wykonaniu.Przyklad wykonania: Przygotowano kapiel gal¬ waniczna cyjanozlocinu potasu o zawartosci zlota metalicznego w ilosci 5 g/l, cytrynianu rodu o za¬ wartosci wolnego rodu 1 g/l.Z kapieli galwanicznej przy pH = 3,8—4,2 nasta¬ wianym za pomoca wodorotlenku potasu, o gestosci pradowej 0,5—1 A/dcm2, otrzymano powloki o gru¬ bosci 2 mikrometry w czasie 20 minut, o zawartosci rodu okolo 2%, oznaczonej za pomoca sondy elektro¬ nowej. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób galwanicznego wytwarzania powlok ze stopu zloto — rod, zwlaszcza na styki kontaktronów miniaturowych, z kapieli kwasnych zawierajacych zloto jako cyjanozlocin potasu, znamienny tym, ze do kapieli dodaje sie wodny roztwór soli rodowej w postaci cytrynianu rodu w ilosci 1—3 g Rh/l, otrzymany przez rozpuszczenie wodorotlenku rodu w kwasie cytrynowym z osadu zawierajacego siar¬ czan baru i wodorotlenku rodu, wydzielonych ste- chiometryczna iloscia wodorotlenku baru z roztwo¬ ru siarczanu rodu, przy czym proces nakladania powloki prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3—1,5 A/dcm2 w temperaturze 18—25°C przy pH w gra¬ nicach 3,8—4,5 stosujac mieszanie elektrolitu. WDL, zam. 3351 120 Cena 10 zl PL
PL16388773A 1973-07-06 1973-07-06 PL87443B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16388773A PL87443B1 (pl) 1973-07-06 1973-07-06

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16388773A PL87443B1 (pl) 1973-07-06 1973-07-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL87443B1 true PL87443B1 (pl) 1976-06-30

Family

ID=19963363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL16388773A PL87443B1 (pl) 1973-07-06 1973-07-06

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL87443B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2859316B2 (ja) 白金または白金合金の電気めっき浴および電気めっき方法
US3475292A (en) Gold plating bath and process
US3980531A (en) Bath and process for the electrolytic separation of rare metal alloys
DE69008974T2 (de) Elektroabscheidung einer Palladiumschicht.
JP6370380B2 (ja) 銀−パラジウム合金の電着のための電解質、及びその析出方法
US4486274A (en) Palladium plating prodedure
US4427502A (en) Platinum and platinum alloy electroplating baths and processes
KR20140119712A (ko) 무전해 니켈 도금욕
Fink et al. The electrodeposition of tungsten from aqueous solutions
US20040195107A1 (en) Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys
US1949131A (en) Rhodium plating
US4297177A (en) Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys
DE60111727T2 (de) Komplexes palladiumsalz und seine verwendung zur anpassung der palladiumkonzentration in elektrolytischen bädern bestimmt für die abscheidung von palladium oder einer seiner legierungen
JPS6223078B2 (pl)
EP0059452B1 (en) Palladium and palladium alloys electroplating procedure
JPS6250560B2 (pl)
KR20090123928A (ko) 블랙 루테늄의 장식층 및 기술층을 전착시키기 위한 전해액 및 방법
PL87443B1 (pl)
DE2226699A1 (de) Elektroplatierbad für den Niederschlag von Rhodium-Platin-Legierungen
US3380814A (en) Electrolyte and method for coating articles with a gold-copper-antimony alloy and article thereof
CA1045577A (en) Electrodeposition of bright tin-nickel alloy
US2138573A (en) Electroplating
US3374156A (en) Electro-depositing stainless steel coatings on metal surfaces
US3520785A (en) Electroplating gold and thiomalate electrolyte therefor
JP2899363B2 (ja) 白金合金電気メッキ浴と白金合金電気メッキ方法