PL87443B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL87443B1 PL87443B1 PL16388773A PL16388773A PL87443B1 PL 87443 B1 PL87443 B1 PL 87443B1 PL 16388773 A PL16388773 A PL 16388773A PL 16388773 A PL16388773 A PL 16388773A PL 87443 B1 PL87443 B1 PL 87443B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- rhodium
- gold
- hydroxide
- coatings
- bath
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 13
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 claims description 5
- KTEDZFORYFITAF-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Rh+3] KTEDZFORYFITAF-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- UDDBYTKYQIYURU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylic acid rhodium Chemical compound [Rh].OC(=O)CC(O)(CC(O)=O)C(O)=O UDDBYTKYQIYURU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- YDZWPBPSQHXITB-UHFFFAOYSA-N [Rh].[Au] Chemical compound [Rh].[Au] YDZWPBPSQHXITB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 3
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 2
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [K+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 11
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- WMFZVLIHQVUVGO-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanol Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(O)C1=CC=CC=C1 WMFZVLIHQVUVGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania powlok ze stopu zloto — rod, zwlaszcza na styki kontaktronów miniaturowych.Stan techniki. Do pokrywania styków elektrycz¬ nych, a w szczególnosci stosowanych w elektronice styków miniaturowych wymagajacych duzej nieza¬ wodnosci i trwalosci dzialania, stosuje sie najczes¬ ciej powloki rodowe nakladane sposobem galwa¬ nicznym. Galwaniczne kapiele rodowe, z których otrzymuje sie wspomniane powloki rodowe, jak to wynika z opisu patentowego USA nr 2895890, po¬ siadaja szczególnie przy masowej produkcji szereg niedogodnosci. W czasie procesu nanoszenia powlok do rodowych kapieli przedostaja sie zanieczyszcze¬ nia jonów chlorkowych w ilosci okolo 0,1 g/l, co powoduje otrzymywanie szarych powlok. Przy wiekszych stezeniach zanieczyszczen rzedu 0,3 g/l otrzymuje sie powloki chropowate, nie nadajace sie do celów technicznych. Zabezpieczenie przed tego rodzaju zanieczyszczeniami jest bardzo trudne, zwlaszcza jezeli czesci pokrywane rodem, podda¬ wane sa wstepnej obróbce galwanicznej w kapie¬ lach zawierajacych jony chlorkowe.Kapiele rodowe zawieraja bardzo duze ilosci kwasu siarkowego i, na przyklad przy stezeniu g rodu w 1 litrze w postaci siarczanu, ilosc stezonego kwasu siarkowego wynosi okolo 50 cm*, czyli 92 g kwasu. Tak duza zawartosc kwasu siarkowego w kapielach rodowych powoduje latwe rozpuszczanie sie metali przy zetknieciu z kapiela lub przy spadnieciu pokrywanej czesci na dno wanny.Powloki rodowe, z powodu duzych naprezen wewnetrznych, duzej twardosci i zawartosci po¬ chlonietego wodoru latwo pekaja i odpryskuja od podloza. Podczas eksploatacji kapieli rodowych, wskutek wydzielania rodu, wzrasta stale stezenie kwasu siarkowego. Uzupelnianie ubytków solami rodu i zobojetnianie wytworzonego kwasu siarko¬ wego, na przyklad amoniakiem, zmienia sklad che¬ miczny kapieli. W nastepstwie tego ulegaja ciaglej zmianie warunki prowadzenia procesu galwanicz¬ nego nanoszenia powlok, co jest istotnym utrud¬ nieniem przy masowej produkcji, zwlaszcza styków kontaktronów.Znane sa inne sposoby nanoszenia powlok, zlota z róznymi domieszkami metalicznymi. W sposobie wedlug francuskiego opisu patentowego nr 1388541 jako dodatek stosuje sie do kapieli zlotych sole kwasów organicznych i nieorganicznych metali, jak: kobalt, ind, cynk, nikiel, antymon, platyna, pallad i rod. Przy czym do kapieli galwanicznej pokry¬ wania zlotem i rodem dodaje sie sól rodu w postaci fosforanu w ilosci 0,02 g/l. Wynika to z faktu, ze kwas fosforowy rozpuszcza wodorotlenek rodu i bardzo latwo otrzymuje sie fosforan rodu.Stezenie soli rodu — fosforanu rodu — w ilosci 0,02 g/l jest zbyt niskie, aby mogly powstac powlo¬ ki o zawartosci rodu rzedu 1—2%. Z kapieli za¬ wierajacych wyzsze stezenie fosforanu rodu rzedu 87 44387 443 1 g/l otrzymuje sie powloki ciemne, nie nadajace sie dla celów technicznych, w szczególnosci na styki kontaktronów.W sposobie wedlug szwajcarskiego opisu paten¬ towego nr 384072 do kapieli galwanicznej pokry- 5 wania zlotem stosuje sie dodatki w postaci roz¬ puszczalnych soli metali ciezkich podobnie jak to jest zawarte we wspomnianym francuskim opisie patentowym nr 1388541. W tym przypadku sole metali ciezkich, do których zaliczaja sie: nikiel, 10 cynk, ind, kobalt, dodaje sie pojedynczo lub we wzajemnych mieszaninach dwuskladnikowych, jak na przyklad: sól niklowa z cynkowa, kobaltowa z indowa itp.Istotna wspólna niedogodnoscia znanych sposobów 15 nanoszenia powjfik rodowych lub zlota z innymi dodatkami, jak Ha* przyklad: zlota z kobaltem, mo¬ libdenem itp. w odniesieniu do styków, a w szcze¬ gólnosci styków kontaktronów miniaturowych, jest to, ze powloki te nie zapewniaja stalych opornosci 20 zwarcia, a przy tym sa pracochlonne i kosztowne.Cel wynalazku. Celem wynalazku jest wyelimino¬ wanie powyzszych wad i niedogodnosci, a w szcze¬ gólnosci opracowanie takiego sposobu nakladania powloki, aby byla calkowicie pozbawiona spekan 25 i naprezen 4wlasnych, odznaczala sie, zwlaszcza w odniesieniu do kontaktronów miniaturowych stala opornoscia zwarcia, byla technologicznie znacznie prostsza i tansza.Opis wynalazku. Sposób wedlug wynalazku polega 10 na tym, ze do standradowej galwanicznej kapieli kwasnej, zawierajacej zloto jako cyjanozlocin pota¬ su, dodaje sie wodny roztwór soli rodowej w po¬ staci cytrynianu rodu w ilosci 1—3 g Rh/l, otrzy¬ many przez rozpuszczenie wodorotlenku rodu w « kwasie cytrynowym z osadu zawierajacego siarczan baru i wodorotlenek rodu, wydzielonych stechiome- tryczna iloscia — wodorotlenku baru z roztworu siarczanu rodu, przy czym proces nakladania po- 4 wloki prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3—1,5 A/dcm2 w temperaturze 18—25°C, przy pH w gra¬ nicach 3,8—4,5 stosujac mieszanie elektrolitu. Ilosc rodu, która rozpuscila sie w kwasie cytrynowym, oznaczac mozna analitycznie. Roztwór cytrynianu rodu po nastawieniu na wartosc pH 3,8—4,5 stosuje sie jako dodatek do kapieli zlota.Zalety wynalazku. Sposób wedlug wynalazku po¬ zwala na otrzymanie powlok zloto — rod do po¬ krywania styków odznaczajacych sie stala i jedna¬ kowa opornoscia zwarcia. Ponadto sposób ten jest prosty i tani w wykonaniu.Przyklad wykonania: Przygotowano kapiel gal¬ waniczna cyjanozlocinu potasu o zawartosci zlota metalicznego w ilosci 5 g/l, cytrynianu rodu o za¬ wartosci wolnego rodu 1 g/l.Z kapieli galwanicznej przy pH = 3,8—4,2 nasta¬ wianym za pomoca wodorotlenku potasu, o gestosci pradowej 0,5—1 A/dcm2, otrzymano powloki o gru¬ bosci 2 mikrometry w czasie 20 minut, o zawartosci rodu okolo 2%, oznaczonej za pomoca sondy elektro¬ nowej. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób galwanicznego wytwarzania powlok ze stopu zloto — rod, zwlaszcza na styki kontaktronów miniaturowych, z kapieli kwasnych zawierajacych zloto jako cyjanozlocin potasu, znamienny tym, ze do kapieli dodaje sie wodny roztwór soli rodowej w postaci cytrynianu rodu w ilosci 1—3 g Rh/l, otrzymany przez rozpuszczenie wodorotlenku rodu w kwasie cytrynowym z osadu zawierajacego siar¬ czan baru i wodorotlenku rodu, wydzielonych ste- chiometryczna iloscia wodorotlenku baru z roztwo¬ ru siarczanu rodu, przy czym proces nakladania powloki prowadzi sie przy gestosci pradu 0,3—1,5 A/dcm2 w temperaturze 18—25°C przy pH w gra¬ nicach 3,8—4,5 stosujac mieszanie elektrolitu. WDL, zam. 3351 120 Cena 10 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16388773A PL87443B1 (pl) | 1973-07-06 | 1973-07-06 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16388773A PL87443B1 (pl) | 1973-07-06 | 1973-07-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL87443B1 true PL87443B1 (pl) | 1976-06-30 |
Family
ID=19963363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16388773A PL87443B1 (pl) | 1973-07-06 | 1973-07-06 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL87443B1 (pl) |
-
1973
- 1973-07-06 PL PL16388773A patent/PL87443B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2859316B2 (ja) | 白金または白金合金の電気めっき浴および電気めっき方法 | |
| US3475292A (en) | Gold plating bath and process | |
| US3980531A (en) | Bath and process for the electrolytic separation of rare metal alloys | |
| DE69008974T2 (de) | Elektroabscheidung einer Palladiumschicht. | |
| JP6370380B2 (ja) | 銀−パラジウム合金の電着のための電解質、及びその析出方法 | |
| US4486274A (en) | Palladium plating prodedure | |
| US4427502A (en) | Platinum and platinum alloy electroplating baths and processes | |
| KR20140119712A (ko) | 무전해 니켈 도금욕 | |
| Fink et al. | The electrodeposition of tungsten from aqueous solutions | |
| US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
| US1949131A (en) | Rhodium plating | |
| US4297177A (en) | Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys | |
| DE60111727T2 (de) | Komplexes palladiumsalz und seine verwendung zur anpassung der palladiumkonzentration in elektrolytischen bädern bestimmt für die abscheidung von palladium oder einer seiner legierungen | |
| JPS6223078B2 (pl) | ||
| EP0059452B1 (en) | Palladium and palladium alloys electroplating procedure | |
| JPS6250560B2 (pl) | ||
| KR20090123928A (ko) | 블랙 루테늄의 장식층 및 기술층을 전착시키기 위한 전해액 및 방법 | |
| PL87443B1 (pl) | ||
| DE2226699A1 (de) | Elektroplatierbad für den Niederschlag von Rhodium-Platin-Legierungen | |
| US3380814A (en) | Electrolyte and method for coating articles with a gold-copper-antimony alloy and article thereof | |
| CA1045577A (en) | Electrodeposition of bright tin-nickel alloy | |
| US2138573A (en) | Electroplating | |
| US3374156A (en) | Electro-depositing stainless steel coatings on metal surfaces | |
| US3520785A (en) | Electroplating gold and thiomalate electrolyte therefor | |
| JP2899363B2 (ja) | 白金合金電気メッキ浴と白金合金電気メッキ方法 |