PL85465B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest czujnik rezystancyjny o kompensacji temperaturowej w warunkach dynamicz¬ nych stosowany w tensometriioporowejprzy pomiarach cisnienia hydrostatycznego, natezenia pola magnetyczn¬ ego.Znany jest sposób kompensacji wplywu temperatury przy pomiarach z czujnikiem rezystancyjnym wedlug polskiego opisu patentowego nr 55 669, w którym stosuje sie czujnik w postaci dwóch elementów rezystancyj- nych, elementu pomiarowego i elementu kompensacyjnego umieszczone w obszarze dzialania mierzonej wielkos¬ ci, przy czym wspólczynniki zmian rezystancji tych elementów wzgledem wielkosci mierzonej maja jak najwieksze wartosci bezwzgledne i przeciwne znaki, a temperaturowe wspólczynniki rezystancji maja zblizone wartosci i te same znaki. Taka kompensacja wplywu temperatury jest skuteczna tylko przy zalozeniu, ze w obu elementach czujników rezystancyjnego, pomiarowym i kompensacyjnym istnieje dla kazdej chwili czasu identycz¬ ny rozklad pola temperatury. Przy dostatecznie wolnych w porównaniu z bezwladnoscia cieplna czujnika, zmianach temperatury zalozenie to jest spelnione. Pola temperatur w obu elementach sa wtedy jednorodne i równe. Poniewaz jednak elementy czujnika pomiarowego i kompensacyjnego wykonywane sa z materialów, których stale takie jak gestosc wlasciwa p, przewodnictwo cieplne X, cieplo wlasciwe C sa rózne, to w warunkach dynamicznych gdy temperatura zmienia sie szybko, rozklady pola temperatur w obu elementach, bedacych funkcjami czasu i przestrzeni, nie zmieniaja sie na ogól identycznie. Efektem tego jest zupelny brak kompensacji temperaturowej w stanach przejsciowych, które w wielu zagadnieniach pomiarowych sa stanami permanentnymi.Wedlug wynalazku, czujnik rezystancyjny o kompensacji temperaturowej w warunkach dynamicznych sklada sie z szeregowo polaczonych, plytkowego elementu pomiarowego oraz plytkowego elementu kompensa¬ cyjnego o rezystancjach zmieniajacych sie w przeciwnych kierunkach w funkcji zmian wielkosci mierzonej a w jednakowych kierunkach w funkcji zmian temperatury. Element pomiarowy oraz element plytkowy sa wykonane w postaci plytek, których stosunek grubosci jest równy pierwiastkowi ze stosunku stalych dyfuzyj- nosci materialów uzytych do wykonania tych elementów.Rozwiazanie wedlug wynalazku skutecznie eliminuje blad dynamiczny przy pomiarach z zastosowaniem czujników rezystancyjnyeh, powodowany zmianami temperatury. Ponadto nie istnieje potrzeba uciazliwego2 85 465 doboru zblizonych lub równych wartosci temperaturowych wspólczynników rezystancji dla obu elementów czujnika.Przedmiot wynalazku zostanie blizej omówiony w oparciu o rysunek, obrazujacy czujnik rezystancyjny w przekroju poprzecznym. Jak uwidoczniono na rysunku, czujnik rezystancyjny sklada sie z dwóch elementów rezystancyjnyeh polaczonych szeregowo, pomiarowego Pp i kompensacyjnego Pk. Elementy te sa pokryte warstwa metalowa M i wykonane w postaci plytek pólprzewodnikowych o stosunku grubosci gdzie lp, lk oznaczaja grubosc plytek elementów Pp i Pk zas kp = Xk i *k = Pk-Ck oznaczaja stale dyfuzyjnosci cieplnej uzytych materialów, przy czym Xp Xk( oznaczaja przewodnictwo cieplne elementu pomiarowego i kompensacyjnego zas pp i pk oznaczaja gestosc wlasciwa, materialu elementu pomiarowego kompensacyjnego zas Cp i Ck oznaczaja cieplo wlasciwe uzytych materialów. k gdzie (lp, lk) oznaczaja grubosci plytek elementów rezystancyjnych, pomiarowego i kompensacyjnego a/cp i/ck oznaczaja odpowiednio stale dyfuzyjnosci cieplnej uzytych materialów pólprzewodnikowych.Prac. Poligraf. UP PRL naMad 120 + 18 Cena 45 zl PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Czujnik rezystancyjny o kompensacji temperaturowej w warunkach dynamicznych, skladajacy sie z szere¬ gowo polaczonych plytkowego elementu pomiarowego oraz plytkowego elementu kompensacyjnego o rezystan¬ cjach zmieniajacych sie w przeciwnych kierunkach w funkcji zmian wielkosci mierzonej a w jednakowych kierunkach w funkcji zmian temperatury, znamienny tym, ze plytkowy element pomiarowy (Pp) oraz plytkowy element kompensacyjny (Pk) posiadaja grubosc plytek (lp i lk) których stosunek wynika z zaleznosci ik~ / * PL