PL83037B1 - - Google Patents

Description

Wyfcioiniuje sie 4 pomiary w tempera- 40 turze 25°Q w 4 róznych rozitworach, w których róznice stezenia sa w przylMizeniiu jednakowe i lep¬ kosc wewnetrzna oraz wskaznik wzajemnego od- dziaiywajndapolimeru i rozpusizwzainikaoibreslasiiena podstawie równania Huggims'© -~ »[rj\ = KJ[?7P C.W równaniu ttytm 17 sp oznacza lepkosc wlasciwa, C oaiDacza stezenie w g/100 ml, a [rj\ oznacza lepkosc wewnetrzna.Do wyrobu przyszw obuwniczych szczególnie w odpowiednie sa poliuretany o temperaiturze topnie¬ nia co naijpnniej I100°C, a korzystnie powyzej 150°C, np. okolo 170m2OO°C mierzonej za pomoca róznico¬ wej analizy termicznej lub róznicowej, punkitowa- nej kaflorytoetrii. Tworzywa te ufiormowane w po- 55 staoi gladkiej blony nie zawierajacej pecherzyków, majacej gjriutbosc 0i,!2^0,4 mm, przy stosowaniu od- gazowania rotatworu w dwumetylofoiimamidzie i od¬ parowaniu rozpuszczalnika w suchej aitmosferze, maja nasitepujace wlasciwosci: wytrzymalosc na roz- *° ciaganie co najmniej 210, a korzystnie co najmniej 360 kG/cm2, np. 420—560 kG/em2, wydluzenie przy zerwaniu co najmniej 300%, a korzystnie co naj¬ mniej 400%, np. 500—700%, modul elastycznosci co najmniej 105, a korzystnie co najmniej 360 kG/cm2, e5 20 np. 560--770 kG/cm2, 100% modul przecietny (na¬ prezenie podzielone przez oio^kszrtalcenie przy 100% wydluzenia) wynoszacy co najmniej 28 kG/cm2, a korzystnie co 'najmniej 84 kG/cm2, np. 110^134 kG/cm2. Podane wyzej wlasciwosci, mechaniczne oznacza sie wedlug normy ASTM D 882-67.Poliuretan badany w postaci denkiej blony, jak opisano wyzej, powinien korzytsitnie przybierac cal¬ kowicie pierwotna wielikosc po wydluzeniu go o 5% w temperaiturze pokojowej (23°C) i po wydluzeniu 0 100% powljnien przybierac stala positac w gra¬ nicach okolo 5—20% lub 10—20%, np. okolo 15%.Te stala positac oznacza sie zwykle po uplywie 1 godziny cd ustania naprezenia rozciagajacego.Np. material, który poddany wydluzeniu o 100% w ciagu ilO miiinut, po otwarciu uchwytów urzadze- nia do ncizicliagainiia wyikazuje bezposrednio po tym odksztalcenie o 24—26%, a po uplywie 1 godziny odksztalcenie to wynosi 14%, Próby przeprowadza sie z blona szerokosci. 1 cm, dlugosci 5 cm i roz¬ ciagu o 100% z predlkoscia 254% w oiajgu 1 minuty.Korzystnie jest jezeli, maiterial ma twardosc mie¬ rzona metoda Shore'a wynoszaca co najmniej 75 A, a zwlaszcza 90A do 60D (oznaczenie wedlug normy ASTM D 1706-67).Tworzywo mikroporowate stosowane zgodniie z wynalazkiem wytwarza sie korzystnie w ten spo¬ sób, ze odlewa sie grufba warstwe zawiesiny mikro¬ skopijnej wielkosci czastek soli w roztworze po¬ liuretanu w dwometyloformamidzie, koaguluje roz¬ twór i luguje sól. Grubosc skoagulowamego arkusza po wylugowaniu i wysuszeniu wynosi korzystnie co najmiej 0,63 mm, nip. okolo 0,75—2$ mm^ a zwlasz¬ cza 0,75—11,8 mm. Mozna jednak stosowac i inne sposoby wytwarzania.Czastki soli, np. chlorku sodowego, wynosi mniej niz 100, a korzystnie mniej niz 50 mikronów, ale wiecej niz 1 mikron, a korzystnie okolo 3—20 mi¬ kronów. Stosunek calkowitej objetosci suibstancjii wytwarzajacej w materiale pecherzyki do calko¬ witej objetosci poliuretanu w roztworze moze wy^ nosic np. okolo 0,5:1 do 5:1, a korzystnie od 1:1 do 3-j1. Tak np. 178 g czastek chlorku sodowego mozna zmieszac z 333 g 30% roztworu poliuretanu w dwu- metyloformamidzie, przy czym stosunek objetosci sioflii do objetosci, polimeru wynosi 1:1.Miikroporowaty material ma pozorny ciezar wlas¬ ciwy korzystnie okolo 0,25—0,7 g/cm3, a zwlaszcza 0,35—0,5 ig/cm3. Poniiewaz gestosc poliuretanu wy¬ nosi przewaznie okolo 1,2, przeto z powyzszego wynika, ze okolo Vg—3/4 objetosci mikroporowateigo materialu stanowi powietrze. Plat materialu ma korzystnie wydluzenie rozrywajace powyzej 50%, np. 300^400% lub wyzsze, wytrzymalosc na ro¬ zerwanie powyzej 36 kG/cm2, np. 60—100 kG/cm2, modul elastycznosci powyzej 2 kG/cm2, zwlaszcza 4—9 kG/cm2 i wytrzymalosc na wcinanie powyzej 2 kG/mm grubosci. Material powinien przepuszczac pare Wodna co najmniej w ilosci 200 g/m2 w ciagu 24 godzin (norma ASTM E 96-<66,B). Pozadane jest takze, aby co niajmniej górna powierzchnia ma^ terialu^ po odpowiednim wykonczeniu^ byla odporna na dzialanie wody w postaci cieczy, to znaczy aby jej wysokosc cisnienia hydrostatycznego (brytyjska norma 2823/1957) byla powyzej 100 mm Hg. Plodczas21 gdy sami poliuretan zwykle wykazuje odksztalcenie po poddaniu go rozciaganiu o 100°/©, to tworzywo wedlug wynalazku z reguly odzyskuje pierwotna postac po takdm rozidaganiu, jak opisano wyzej. PL PL

Claims (12)

1. Zastrzezen ta patentowe 1. Sposób wytwarzania przepuszczalnego dla pary wodnej tworzywa1 o blyszczacej powierzchnia a zwlaszcza sposób koncowej obróbki sztucznej 9kólry o porowatej poliuiretanowej warstwie po¬ wierzchniowej polegajacy ma traktowaniu warstwy powierzchniowej aiktywnym wobec poMuretanu roz- rmszczalnikiem organicznym lub jago mieszanina z nieaktywnym rozpuszczalnikiem organicznym lub roztworem poliifuretanu w lych rozpuszczalnikach, usuwaniu rozpuszczalnika za pomoca nadmuchu powietrza^ znamienny tym, ze w celu uzyskania blyszczacej, przepuszczajacej pare Wodna sztucznej skóry jej warstwe powierzchniowa traktuje sie roz¬ puszczalnikiem aktywnym w ilosci 20—200 g/m2 a po odparowaniu rozpuszczalnika na powierzchnie warstwy powierzchniowej naklada sie gladka, blyszczaca folie z politeretftalanu etylenu o gruibosci 0,0025^0,025 mm i material pokryty ta folia prze¬ puszcza sie miedzy rolkami ogrzanymi do tem¬ peratury okolo 100°C nizszej od temperatury top¬ nienia poliuretanu stosujac nacisk 5^10 kg na cm dlugosci krawedzi' styku, w wyniku czego naste¬ puje ogólne zmniejszenie grubosci materialu o* nie wiecej nilz 20—30P/o, a nastepnie material chlodzi sie i usuwa z jego; powierzchni folie z politerefta- lanu etylenu. 2. Sposób wedlug zastrz, 1, znamienny tym, ze stosuje sie dwuwarstwowe twrzywo majace bar¬ dziej zwarta warstwe podkladowa o grubosci 0,8—1,5 mm i gestosci powyzej 0,4 oraz mniej zwar¬ ta warstwe powierzchniowa o grubosci 0;2—0,8 mm i gestosci ponizej 0,4, przy czym obróbce poddaje sie warstwe powierzchniowa^ której gestosc po prze¬ prowadzeniu obrÓbM wynosi co najmniej 0,4 i po^- zostaje ona nadal przepuszczalna dla pary wodnej, zas jako polimer stosuje sie poliuretan o gestosci w stanie wolnym od pecherzy wynoszacej okolo 1,

2.

3. Sposób wedlug zastrz. 1 aiibo 2, znamienny tym, ze rozpuszczalnikiem traktuje sie material poddany uprzednio, obróbce cieplnej powodujacej utwardze¬ nie w temperaturze, w której uzyskuje sie 5% skurczenie powierzchni, na przyklad w 160°C.

4. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2* znamienny tym, ze cienka, skoagulowiana warstwe powierzchniowa wytwarza sie nakladajac na powierzchnie arkusza rozitwór poliuretanu w rozpuszczalniku^ który roz¬ puszcza polirner, z którego jest wykonana ta war¬ stwa powierzchniowa, przy czym roztwór ten za¬ wiera 50^-80% wagowych skladnika nie bedacego rozpuszczalnikiem poiLijuiretainu przez co nalozony poliuretan koaiguiuje tworzac cienka warstwe, w której pory nie przekraczaja 0,3 mikrona^ a na¬ stepnie rozpuszczalinik oraz ciekly skladnik roz¬ tworu nie bedacy rozpuszczalnikiem usuwa sie przez ogrzewanie atmosfery przylegajacej do koaguilowanej warsrtiwy.

5. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze na powierzchnie arkusza materialu naklada sie rozpuszczalnik polimeru, z którego wykonana jest powierzchoiowia warstwa materialu^ przy czym roz- 10 15 25 83 037 22 puszczalnik ten nakladla sie w stanie znacznego rozdrobnienia, a nastepnie ogrzewa aitmosfere przy¬ legajaca do tej powierzchni!, usuwajac rozpuszczal¬ nik nalozony na nia i powodujac powstanie na mikroporowatej powierzchni denkliej, stopionej wamtwy praepusacszajajcej wode.

6. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze powierzchnie potraktowana rozpuszczalnikiem oigrzewa sie i nakladla na nia pod cisnieniem cienka polyskujaca powloke polimeryczna nie zawierajaca pecherzy, po czym material chlodzi sie* a nastepnie zrywa polyskujaca powloke, pozostawiajac polysku¬ jaca powierzchnie przepuszczajajca pare wodna.

7. Sposób wedljug zastrz. 1 albo 2, albo 6, zna¬ mienny tym, ze stosuje sie irozpuszczalnik, z którego w temperaturze 25°C uzyskuje sie roztwór zawiera¬ jacy 30% wagowych polimeru. .

8. Sposób wedlug zastrz, i albo 2, albo 6, zna¬ mienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie mie¬ szanine zawierajaca 20—50 czesci dwumetylotformaK midu, 55—20 czesci cykloheksanoniU i 15—30 czesci acetonu lulb dwiimetylioforimarnid z dodatkiem do 50% acetonu.

9. Sposób wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalnik zawierajacy rozpusz¬ czony polimer.

10. Sposób wedlug zastrz. 9 znamienny tym, ze sto¬ suje slie rozpuszczalnik zawierajacy rozpuszczony taki sam poliimer z jakiego: wytworzona jest po¬ wierzchniowa warstwa poddawana obróbce. 11. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalnik zawierajacy zdytspergo- w&ny piigment lub barwnik: 12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalnik zawierajacy do 10°/o wa¬ gowych rozpuszczonego polimeru, a ewentualna za¬ wartosc pigmentu lub barwnika* wynosi okolo 0,1^2% wagowych calkowitej kompozycji roz¬ tworu. 13. Sposób wedlug zastrz. 12, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór w rozpuszczalniku, w którym stosunek wagowy zdyspengowanego pfiigmemtu do rozpuszczonego polimeru wynosi 1 :50 do 1 :1. 14. Sposób wedlug zastrz, 1 albo 2, albo 6^ albo 10, albo 11, albo 12, albo 13, znamienny tym, ze na 1 m2 powierzchni materialu stosuje sie co najmniej 10 g rozpuszczaliniika rozpuszczajacego ten material. 15. Sposób wedlug zastrz. 14, znamienny tym, ze na 1 m2 powierzchni stosuje sie 20-^100 g rozpusz¬ czalnika. 16. Sposób wedlug zastrz, 9, albo 10, albo 11, albo 12, albo 13, znamienny tym, ze stosuje sie roz¬ twór zawierajacy rozpuszczony poliimer i/kub pig¬ ment albo barwnik w takim stosunku* alby przyrost masy materialu po potrakto|waniu tym roztworem i wysuszeniu wynosil co najmniej 3 g/m2. 17. Sposób wedlug zastrz. 16, znamienny tym, ze roztwór stosuje sie tak, aby przyrost masy ma¬ terialu wynosil 7:—£3 g/m2* 18. Sposób wedlug zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, ze powierzchniowa warstwe materialu potrak¬ towana rozpuszczalnikiem suszy sie w celu usunie¬ cia rozpuszczalnika iw temperaturze nizszej do 100°C od temperatury topnienia tego materiiialu na¬ klada sie pod (lsnieniem polyskujaca powloke. 35 45 50 S5 60 95mm t-—i 100 Mikronów F/G./. 100 Mikronóu Fig.2. 10 Mikronóu Fig.3 100 mkronou 100 Mikronóu 100 Mikronóu 29 100 riikronÓH Fig.5. 100 MikronÓN Fig.6. 100 Miktonóu FigJO. W mtonóu Fig.

11. II.83 03? W Mikronóu FiG.

12. aa ,39 100 HikronÓH Fig.a PL PL