PL80388B1 - Cleaning method and apparatus for electrostatic copying machines[gb1259890a] - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn (Wielka Brytania) Sposób oczyszczania powierzchni plyty kserograficznej i urzadzenie do oczyszczania powierzchni plyty kserograficznej Przedmiotem wynalazku jest sposób oczyszczania powierzchni plyty kserograficznej i urzadzenie do oczyszczania powierzchni plyty kserograficznej.W znanych, automatycznych powielaczach ksero¬ graficznych, plyta kserograficzna ima ksztalt bebna lufo tasmy iporuszajacej sie ze znaczna predkoscia.Szybiki ruch plyty kserograficznej, wymaga uzycia do wywolywania duzych ilosci pigmentu.Rozwiazanie najbardziej zblizone do projektu wy¬ nalazczego, przedstawione w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3,438,706 zawie¬ ra szczotke zamocowana na pasie przesuwajacym sie dokola dwóch walców. Jeden walec dotyka po¬ wierzchni poddawanej procesowi oczyszczania i jest polaczony ze zródlem napiecia elektrycznego w ce¬ lu przyciagania czastek pigmentu z tej powierzch¬ ni do szczotki, drugi walec natomiast jest pola¬ czony ze zródleim napiecia o znaku przeciwnym w celu odpychania "tych czastek od szczotki pod¬ czas jej przesuwu ponad drugim walcem.Po przeniesieniu obrazu pylowego na powierzch¬ ni plyty kserograficznej pozostaja resztki pigmen¬ tu, które usuwane sa zwykle za pomoca urzadzen czyszczacych typu szczotkowego lub zgarniajacego.Dzialanie znanych urzadzen czyszczacych powierzch¬ nie plyty 'kserograficznej nie jest calkowicie zado¬ walajace. Wiekszosc z nich zmniejsza zwykle swa wydajnosc w miare zanieczyszczania pigmentem, co powoduje koniecznosc czestej wymiany tych urza¬ dzen. W rezultacie traci sie cenny czas na przerwy 10 15 20 25 w pracy, podczas których dokonywana jest ta wymiana. Inna niedogodnoscia jest to, ze zamon¬ towane w powielaczach urzadzenia czyszczace wy¬ dalaja stale z ukladu resztki pigmentu i nie umoz¬ liwiaja ich ponownego uzycia w procesie powiela¬ nia zwiekszajac jego koszt, gdyz jest materialem kosztownym.Szczotki obracajace sie zwykle z duza predkos¬ cia, nagrzewaja sie, co powoduje zmiany fizyczne i chemiczne w pigmencie. Dla zebrania usunietych przez szczotki resztek pigmentu, konieczne jest za¬ stosowanie skomplikowanej i halasliwej instalacji wyciagowej i filtrujacej. Ponadto, znaczne ilosci czasteczek pigmentu wyrzucone w £Kwietrze przez szybko obracajace sie szczotki urzadzenia czyszcza¬ cego, wydostaja sie czesto poza obudowe tego urzadzenia, tworzac niepozadany osad na wrazli¬ wych elementach powielacza.Chociaz urzadzenie czyszczace typu zbierakowe- go posiada pewne zalety, trudno jest zestroic je z powierzchnia plyty kserograficznej, a nierówna stycznosc pomiedzy zbierakiem a ta powierzchnia oraz nierówne naprezenie zbieraka na rolce napre¬ zajacej wystepuja nawet w kompleksowo zestro¬ jonych urzadzeniach. Inny problem w urzadzeniach czyszczacych typu zbierakowego stanowi trudnosc utrzymania minimalnego nacisku pomiedzy zbie¬ rakiem a powierzchniami obraz6w, aby zapobiec zniszczeniu tych powierzchni.Celem tego wynalazku jest stworzenie takiego 803883 80388 4 sposobu i urzadzenia do czyszczenia plyt ksero¬ graficznych, które nie maja wymienionych wyzej niedogodnosci i umozliwiaja poprawienie jakosci wykonywanych odbitek przy jednoczesnym zmniej¬ szeniu zuzycia tonera.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu oczyszczania powierzchni plyty kserograficznej oraz urzadzenia do oczyszczania powierzchni plyty kse¬ rograficznej, który to sposób i urzadzenie umozli¬ wialyby odzyskanie zgarnianych czastek substancji tonujacej i ponowne zastosowanie ich w procesie pobielania.Cel wynalazku osiagnieto w sposobie przez to, ze czastki pigmentu przyciaga sie od zespolu scie¬ rajacego do walca umieszczonego na drodze poru¬ szania sie zespolu scierajacego poprzez polaczenie tego walca z drugim zródlem napiecia i przyloze¬ nie do niego potencjalu o takim samym znaku jaki posiada potencjal zespolu scierajacego z pierwszym zródlem napiecia, a czastki pigmentu przywieraja¬ ce elektrostatycznie do powierzchni walca usuwa sie do pojemnika za pomoca elementu usytuowa¬ nego na drodze obrotu walca, przy czym odzyska¬ ne czastki pigmentu stosuje sie ponownie w pro¬ cesie powielania.Natomiast w urzadzeniu cel wynalazku osiagnieto przez 'to, ze na drodze zespolu scierajacego usy- tuowiany jest walec, który polaczony jest z dru¬ gim zródlem napiecia nadajacym mu potencjal o tym samym znaku jaki posiada potencjal ze¬ spolu scierajacego i wystarczajaco duzy dla przy¬ ciagania czastek pigmentu z zespolu scierajacego i osadzania ich na walcu, a na drodze obrotu wal¬ ca usytuowany jest element zgarniajacy czastki pigmentu z powierzchni walca do odbiornika pig¬ mentu w celu ich ponownego zastosowania.Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przy¬ kladach wykonania na rysunku,, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie urzadzenie do czyszcze¬ nia powierzchni plyty, kserograficznej, w którym element scierajacy utworzony jest z magnetycznych kulek, fig. 2 — inny przyklad urzadzenia do czysz¬ czenia, w widoku aiksonometrycznym, fig. 3 — urza¬ dzenie w widoku z boku, fig. 4 — urzadzenie w widoku z boku, ale widziane z przeciwnej stro¬ ny na fig. 3, fig. 5 — urzadzenie w przekroju po¬ przecznym pokazujacym dalsze szczególy, a fig. 6 inna postac urzadzenia z fig. 2.Na fig. 1 jest przedstawione urzadzenie czyszcza¬ ce 10 do scierania resztek obrazu utworzonego przez czasteczki pigmentu 11 na powierzchni 12 ksero¬ graficznj plyty 13. Plylta kserograficzna 13 sklada sie z fotoprzewodzacej warstwy na odpowiednim podlozu, a obraz utajony jest zapisany i wywolany na plycie kserograficznej 13 za pomoca srodków znanych w technice. Do wytwarzania obrazu pozy¬ tywnego stosowany jest pigment naladowany ujem¬ nie, a do reprodukcji z negatywu na pozytyw, sto¬ sowany jest pigment naladowany dodatnio.Urzadzenie czyszczace 10, ma magnetyczny ze¬ spól scierajacy 20 skladajacy sie z cylindra 22, w którym umieszczony jes!t jeden lub wiecej sta¬ lych magnesów sztabkowych 24. Cylinder 22 jest wykonany z niemagnetycznego materialu i jest osa¬ dzony obrotowo na wale 26, napedzanym w kie¬ runku oznaczonym strzalka z predkoscia dwa do czterech razy wiejksza od predkosci bebna. Cylin¬ der 22 jest wykonany na przyklad ze szkla lub z niemagnetycznego metalu jak mosiadz, aluminium 5 lub miedz i ich stopy.Na walcowej powierzchni cylindra 22 umiesz¬ czony jest magnetyczny material czyszczacy 28, skladajacy sie z kulek magnetycznych, które sa powleczone lub niepowlecizone, co dalej bedzie do- io kladniej wyjasnione. Wskazane jest, aby zostaly wytworzone wyladowania wstegowe od zewnetrz¬ nej powierzchni cylindra 22 zgodnie z liniami sil pola magnesów 24. Kulki magnetyczne sa wykona¬ ne z materialu magnetycznego, zwlaszcza z ma- 15 terialu o bardzo malym magnetyzmie szczatkowym, lub z materialu magnetycznie trwalego.Typowymi materialami sa sproszkowane zelazo, jak zelazo rafinowane lub zelazo karboksylowe, stal, nikiel, stopy zelaza magnetycznego takie jak 20 stopy zelazo-niklowe, stopy zelazo-niklowo^kobal- towe oraz tlenki magnetyczne jak tlenek zelaza, hematyt (Fe^C^), magnetyt (Fe3C4) i ferryty mag¬ netyczne. Pozadane jest aby czasteczki magnetycz¬ ne posiadaly wymiary powyzej 0,25 mim, korzystnie 25 od 1,27 mm do 0,42 mm, gdyz pozwala to na wy¬ dajne czyszczenie. Czasteczki te sa podawane z tacy 32.Aby umozliwic przejecie resztek obrazu przez magnetyczny material czyszczacy, do cylindra 30 22, podlaczone jest zródlo 30 napiecia stalego. Zród¬ lo 'to powinno miec napiecie od 200 V do okolo 1000 V i biegunowosc przeciwna do czasteczek pig¬ mentu, na przyklad gdy pigment jest naladowany ujemnie, zródlo powinno byc przylaczone do cylin- 35 dna 22 biegunem dodatnim. Pozadane jest, aby cy¬ linder ten posiadal warstwe izolacji elektrycznej, wykonanej z odpowiedniego pólprzewodnika.Materialem izolujacym elektrycznie, moga byc powleczone kulki magnetyczne. Typowe materialy 40 stosowane do takich powlok, opisane sa w paten¬ tach USA Nr Nr 2 618 551 i 2 874 063. Materialy ujawnione w tych patentach oraz wiele materia¬ lów, o których wspomniano powyzej, posiadaja takze wlasciwosci tryboelektrycznego przyciagania 45 czasteczek pigmentu co sprzyja dalszemu ulatwie¬ niu przemieszczania tych czasteczek na kulki.W celu dalszego zwiekszenia przyciagania elek¬ trostatycznego czasteczek pigmentu przez kulki, na drodze plyty kserograficznej 13 tuz przed zespo- 50 lem 20 umieszczony jest generator koronowy 35 nadajacy plycie kserograficznej ladunek o takiej samej biegunowosci jak biegunowosc czasteczek.Powoduje to pozadane zmniejszenie przyciagania pomiedzy czasteczkami pigmentu a plyta kserogra- 55 ficzna i zapewniajac odpowiednie naladowanie tych czasteczek, umozliwia ich przyciaganie przez do¬ datni potencjal dostarczony przez zródlo 30. Spraw¬ dzono, ze generator koronowy powinien do tego celu wytwarzac prad w granicach od okolo 2 do 60 lo uA. Generator koronowy 35 zasilany jest przez zródlo napiecia stalego 37.Podczas obrotów cylindra 22, wstazki lub preci¬ ki magnetycznego materialu czyszczacego utworzo¬ ne dzieki ukierunkowaniu pola magnesów 24, ocie- 65 raja sie o powierzchnie 12 usuwajac w .sposób za-8 80388 S równo mechaniczny i elektrostatyczny jak i try- boelektryczny czasteczki pigmentu i przejmujac je na cylinder 22.W celu uzyskania dobrego dzialania scierajacego, preciki materialu czyszczacego sa najbardziej na¬ prezone na styku z powierzchnia 12.Podczas gdy resztki obrazu usuwane sa z po¬ wierzchni 12 i sa przejmowane przez magnetycz¬ ny material czyszczacy, walzne jest zeby te prze¬ jete czastki pigmentu zostaly nastejpnie usuniete z cylindra 22, aby zapobiec ponownemu ich na¬ niesieniu na powierzchnie 12. W tym celu na wal¬ ku 42 umieszczony jest pomocniczy walec 40, któ¬ rego powierzchnia dotyka materialu czyszczacego i obraca sie z podobna predkoscia lecz w przeciw¬ nym kierunku, co powoduje stale usuwanie pig¬ mentu z cylindra 22 i przenoszenie go na walec 40.Pomocniczy walec 40 wykonany jest z materialu przewodzacego i jest polaczony, ze zródlem napie¬ cia stalego 44, dostatecznie wysokiego do elektro¬ statycznego usuniecia pigmentu z cylindra 22 i osa¬ dzenia go na walcu 40. W tym celu nalezy sto¬ sowac napiecie od okolo 1000 V do okolo 2000 V o takiej samej biegunowosci j'ak biegunowosc zród¬ la 30. Element zgarniajacy 50, ustawiony w stycz¬ nosci z wlacem 40 zgarnia stale z niego material pigmentu, gromadzac go w zbiorczym korytku 52, w celu jego dalszego uzycia w procesie wywoly¬ wania.Podczas dzialania, na magnetycznym zespole przenoszacym tworza sie z kulek magnetycznych preciki wyprezone w strone powierzchni plyty kse¬ rograficznej. Preciki te rozluzniaja mechanicznie pigment, który jest nastepnie odciagany od po¬ wierzchni 12 przez potencjal o przeciwnej biegu¬ nowosci i bardzo wysokiej wartosci, (przylozony do cylindra 22.Wstepne naladowanie pigmentu i tryboelektrycz- ne wlasnosci czyszczacych kulek magnetycznych, zwiekszaja usuwanie pigmentu. Podczas ciaglych obrotów cylindra 22, kulki magnetyczne ukladaja sie zgodnie z liniami sil pola magnetycznego mag¬ nesów 24 i przyjmuja ksztalt naprezonych preci¬ ków stykajajcych sie z pomocniczym walcem 40 lub przyjmujac pozycje zgieta gdy pigment jest juz osadzony na walcu 40, co umozliwia dalsze wykorzystanie oczyszczonych kulek. Pigment prze¬ chwycony ifrrzez pomocniczy walec 40, gromadzony jest w zbiorczym korytku 52 skad podawany jest do ponownego uzycia.Inna postac urzadzenia wedlug wynalazku po¬ siada obudowe 103 przymocowana do ramy urza¬ dzenia; obudowa ta miesci w sobie zespól czysz¬ czacy 107. Zespól czyszczacy 107 sklada sie z prze¬ wodzacego cylindra 111 umieszczonego na izolacyj¬ nym elemencie 113, który z kolei osadzony jest na obrotowym walku 117. Do „cylindra 111 bezposred¬ nio przylega spód warstwy 118, stanowiacy podlo¬ ze nieprzewodzacych wlókien czyszczacych 119, przy czym warstwa 118 moze byc wykonana zarówno z materialów przewodzacych jak i nieprzewodza¬ cych, z powodów które zostana -dpisane.Walek 117 jest osadzony obrotowo w obudowie 103 i jest napedzany w kierunku oznaczonym strzalka przez umieszczone na jednym jego kon¬ cu kolo pasowe }21t które z kolei napedzane jest za pomoca pasa 123 otaczajacego bolo pasowe 121 i kolo naipedowe 124, osadzone obrotowo na silni¬ ku napedowym 125. W iten sposób zespól czyszcza¬ cy 107 zapewnia dobre scieranie powierzchni bebna wlóknami czyszczacymi 110.Dla uzyskania bardzo wydajnego dzialania scie¬ rajacego, pozadane jest aby zespól czyszczacy 107 obracal sie tuz przy bebnie, w kierunku przeciw¬ nym do jego ruchu, z predkoscia rzedu od okolo 1/2 do okolo 3-krotnej predkosci obrotów bebna, korzystnie z predkoscia od 1 do 1,5 prejdkos- ci bebna. Zespól czyszczacy moze obracac sie rów¬ niez w tym samym kierunku co beben, nalezy jed¬ nak pamietac, ze zespól czyszczacy musi byc wte¬ dy obracany szybciej, tak aby istnial dostateczny ruch wzgledny umozliwiajacy dzialanie scierajace czyszczacych wlókien.Podczas poruszania sie wlókien czyszczacych pox powierzchni bebna, do przewodzacego cylindra 111 przylozony jest zewnetrzny potencjal o znaku prze¬ ciwnym niz znak ladunku czasteczek pigmentu, po¬ wodujac ze linie sil pola elektrycznego sa skie¬ rowane promieniowo od warstwy podloza jpod wlók¬ nami czyszczacymi, przyciagajac do nich czasteczki pigmentu z powierzchni bebna. Podczas obrotów zespolu czyszczacego na walku 117, do przewodza¬ cego cylindra 111 podlaczone jest zródlo stalego na¬ piecia 133 za pomoca jednej lub wiecej szczotek 131.Napiecie zródla 133 ma wartosc rzedu kilku ty¬ siecy woltów, co umozliwia przyciaganie elefetro- skopowych czasteczek pigmentu przez _ wlókna czyszczace 119. Ustalono, ze do tego celu najodpo¬ wiedniejsze jest napiecie rzedu od okolo 500V do okolo 2000 V. Napiecie zródla 133 jest regulowane w celu stworzenia optymalnych warunków pracy.Pozadane jest, aby wlókna czyszczace 119 byly . wykonane z nieprzewodzacego materialu. Zapobiega to spadikoWi napiecia ze zródla 133 oraz wplywom zmian wilgotnosci. Typowymi rodzajami materialu stosowanego na wlókna sa welwet akrylowy, orlon, tkanina polypropylenowa, nylon, rayon, octany, mo- hair, arnel, szklo, dynel, dacron, bawelna oraz inne sztuczne wlókna lub materialy wlókniste i ich po¬ laczenia. Dodatkowo, w celu zwiekszenia przyciaga¬ nia czasteczek pigmentu przez wlókna czyszczace 119, wlókna te moga byc wykonane z materialu posiadajacego tryboelektryczna wlasciwosc przycia¬ gania czasteczek pigmentu, ewentualnie moga byc powleczone takim materialem. Posiadanie przez wlókna czyszczace wlasciwosci przyciagania trybo- elektrycznego, umozliwia zmniejszenie przylozone¬ go napiecia.Wlókna czyszczace 119 powinny dobrze scierac mechanicznie powierzchnie bebna, aby rozluznic czasteczki pigmentu, które nastepnie zostaja przy¬ ciagniete do tych wlókien dzieki przyciagajacej sile pochodzacej od przylozonego potencjalu ele¬ ktrycznego. Wlókna czyszczace posiadaja odpowie¬ dnia dlugosc, która waha sie od okolo 1,6 mm do okolo 8 mim, korzystnie od okolo 3,2 mm do oko¬ lo 4,8 mm, przy zageszczeniu wlókien w grani- cach od okolo 1550 do okolo 11(7 000 wlókien na centymetr kwadratowy. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607 " 80388 8 " Przy dlugosci wlókna czyszczacego, okolo 4,8 mim, mozna uzyskac bardzo dobre wyniki przy napie¬ ciu zródla 133 1500 V. Pozadane jest afby wielkosc zachodzenia wlókien czyszczacych na powierzchnie bebna wynosila od okolo 1/4 do 1/2 dlugosci wló¬ kien. Aby umozliwic regulacje wielkosci zachodze¬ nia wlókien czyszczacych na powierzchnie bebna, walek 117 jest przesuwny wzgledem ramy maszy¬ ny a z nim powierzchnia walca, dzieki poruszeniu plytek podtrzymujacych 137 i 138 obudowy 103, które sa przesuwne wzdluz elementów nastawczych 141 i 142 przez obrót tych elementów, co powoduje zblizanie lub oddalanie walka 177 od powierzchni bebna. Dokrecanie srub 143 znajdujacych sie w obudowie 103 zapewnia ustalenie plytek podtrzy¬ mujacych 137 i 138, a przez to walka 117 w cza¬ sie dzialania urzadzenia.W celu dalszego wzmozenia przyciagania elektro¬ statycznego czasteczek pigmentu przez wlókna czy¬ szczace 119, na drodze bebna, tuz przed zespolem czyszczacym umieszczony jest generator koronowy 145 nadajacy powierzchni bebna ladunek o takim samyfm znaku jak czasteczki pigmentu. Ladunek ten znacznie zmniejsza przyczepnosc czasteczek pi¬ gmentu do powierzchni bebna i zapewnia odpo¬ wiednie naladowanie tych czasteczek tak, ze beda one przyciagane do wlókien 119.Ustalono, ze w tym celu prad generatora koro¬ nowego powinien wynosic od okolo 2 do okolo 10 ^A. Generator koronowy 145 zasilany jest od¬ powiednio przez regulowane zródlo napiecia sta¬ lego 146.Po przemieszczeniu czasteczek pigmentu z po¬ wierzchni bebna na wlókna czyszczace 119, cza¬ steczki te sa usuwane z wlókien tak, aby nie zo¬ staly ponownie przeniesione na powierzchnie be¬ bna. W tym celu na drodze wlókien czyszczacych 119 umieszczony jest walec 150 majacy potencjal o znaku przeciwnym do znaku ladunku czastecz¬ ki pigmentu. Walec 150 osadzony jest obrotowo na wailku 152 i porusza sie w kierunku przeciwnym niz zespól scierajacy z predkoscia pozwalajaca na uzyskanie odpowiedniego wzglednego ruchu pomie¬ dzy walcami. Oczywiscie mozna odwrócic kieru¬ nek obrotów walca po dokonaniu odpowiednich zmian w predkosci i w zespolonych elementach czyszczacych.Walec 150 wykonany jest z .przewodzacego ma¬ terialu. Walec ten otrzymuje napiecie elektryczne ze szczotki 153, przylaczonej do zródla 154 o takiej samej biegunowosci jak zródlo 133 lecz o wiek¬ szej wydajnosci, aby powierzchnia walca przycia¬ gala osadzone na wlóknach 119 czasteczki pigmen¬ tu. Zródlo 154 ma napiecie od okolo 1000 V do oko¬ lo 3000 V. Wielkosc zachodzenia wlókien czyszcza- ' cych 119 na powierzchnie walca 150 wynoszace od okolo 1/4 do okolo 1/2 dlugosci wlókien dobrze spelnia swoje zadanie przy zastosowaniu zródla 133 o napieciu okolo 1(500 V przy dlugosci wlókien czyszczacych okolo 4,8 imm.Do zmiany wielkosci zachodzenia pomiedzy wlók¬ nami czyszczacymi 119 a powierzchnia walca 150 sluza elementy nastawcze 160 i 161 umieszczone w obudowie 103, obrócenie których powoduje ruch plytek podtrzymujacych 137 i 138 a przez to ruch walka 117 zblizajacy go lub oddalajacy od powierz¬ chni walca. Dokrecenie sruto 165 umieszczonych w plytkach podtrzymujacych 167 i 168 Obudowy 103, powoduje ustalenie polozenia wallka 117 pod- 5 czas pracy urzadzenia.Naladowany walec 150 obraca sie z predkoscia w granicach od predkosci zespolu czyszczacego do predkosci dwukrotnie wiekszej niz posiada zespól czyszczacy. Ustalono, ze gdy naladowany walec obraca sie w kierunku przeciwnym do kierunku obrotów zespolu czyszczacego, uzyskuje sie bardzo dobre rezultaty, gdy jednak obydwa te elementy obracaja sie w jednakowym kierunku, predkosc obrotów naladowanego walca powinna byc przy¬ najmniej dwukrotnie wieksza od predkosci zespo¬ lu czyszczacego. Naped jest przekazywany na przy¬ klad przez nastawny pas 170 owiniety wokól kola pasowego 171 polaczonego z jednym koncem wal¬ ka 152 oraz wokól kola pasowego 173 osadzonego obrotowo na silniku napedowym 174.W celu utrzymania powierzchni czyszczonej w stanie czynnym oraz w celu odzyskania czaste¬ czek pigmentu w celu ich ponownego uzycia, na drodze walca 150 umieszczony jest zespól zgar¬ niajacy 177. Zespól zgarniajacy 177 posiada ostrze 179, którego polozenie ustalone jest przez utrzy¬ mujace elementy 181, 182 za pomoca odpowiednich elementów ustalajacych jak na przyklad sruby.Elementy 181, 182 utrzymujace sruby polaczone sa z obudowa 103 za pomoca jednej lub kilku srub 183, z których kazda przechodzi przez izola¬ cyjny klocek 185 przytwierdzony do obudowy na przyklad srubami.Nakretka 186 dociska utrzymujace ostrze elemen¬ ty 181, 182 do sprezyny 189 dzialajacej odpiera¬ jace od izolacyjnego klocka 185. Nacisk na styku ostrza 179 z walcem 150 regulowany jest obra¬ caniem nakretki 191 na srubie 183.Po usunieciu przez ostrze czasteczek pigmentu z powierzchni walca 150 sa one zbierane do ko¬ rytka 193, skad sa usuwane podajnikiem slimako¬ wym 195, osadzonym Obrotowo na waflku 196, na¬ pedzanym przez walek 152 przekladnie zebata 197 i 198, wspólpracujaca z walkiem 152 i z wailkiem 196. Podajnik slimakowy 195 obracajac sie w ze¬ branym w korytku pigmencie w kierunku oznaczo¬ nym strzalka, przesuwa go do jednego lub wiecej przewodów 200, z których czasteczki pigmentu usuwane sa na przyklad sila grawitacji, do po¬ nownego zastosowania na stanowisku wywolywa¬ nia.Na fig. 6 pokazana jest inna postac urzadzenia wynalazku, w której walec zespolu czyszczacego zlozony jest z segmentów. Elementy takie same jak w poprzednich rozwiazaniach, oznaczone sa tymi samymi numerami. Segmentowy walec umo¬ zliwia przylozenie róznych potencjalów w celu uzyskania wiekszej selektywnosci usuwania czaste¬ czek pigmentu z powierzchni bebna. W tej posta¬ ci zespól czyszczacy 207 zawiera pewna ilosc prze¬ wodzacych segmentów 211 osadzonych na odpowie¬ dnim elemencie izolacyjnym 213, który z kolei osadzony jest na obrotowym walku 217.Segmenty 211 maja bezposredni kontakt ze spo¬ dem warstwy 218, stanowiacej podloze nieprze- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 609 80388 10 wodzacych wlókien czyszczacych 219. Warstwa 218 jest ciagla lufo zlozona z wielu oddzielnych kawal¬ ków odpowiadajacych kazdemu z przewodzacych segmentów 211. Tak samo jak w urzadzeniach fig. .2—6 dlo segmentów 211 przylozony jest zewnetrzny potencjal o znaku przeciwnym niz znak ladunku czasteczki pigmentu.Jedna lub wiecej szczotek 131 przylaczonych do zródla napiecia stalego 133 styka sie podczas obro¬ tów walka z poszczególnymi segmentami 211, umo¬ zliwiajac przyciagniecie czasteczek pigmentu z po¬ wierzchni bebna na wlókna czyszczace. Tak jak w innych, opisanych uprzednio postaciach wyna¬ lazku, wlókna czyszczace 219 ocieraja sie o nala¬ dowany walec 150 polaczony ze zródlem pradu sta¬ lego 154. Tuz przed zetknieciem sie czyszczacych wlókien 219 z powierzchnia walca 150, segmenty 211 stykaja sie z jedna lub wiecej szczotek 269 przylaczonych do zródla 275, podajacego taki sam potencjal jaki maja czastki pigmentu, co powoduje odpychanie tych czasteczek w naladowanym wal¬ cu 150.Zródlo 275 posiada napiecie w granicach od ze¬ ra do okolo 2000 V w zaleznosci od napiecia na¬ danego przez zródlo 154, od wysokosci wlókien czyszczacych i od wielkosci zachodzenia tych wló¬ kien na powierzchnie naladowanego walca 150. Im wyzsze jest napiecie na powierzchni naladowanego walca — tym nizsze jest nalpiecie zródla 275 i od¬ wrotnie. Ustalono, ze najlepsze dzialanie uzyskuje sie gdy róznica potencjalów pomiedzy ipotencjalem powierzchni naladowanego walca a potencjalem ze zródla 275 na segmentach komutatora jest rzedu od okolo 800 do okolo 2700 woltów.Przy zastosowaniu urzadzenia wedlug wynalaz¬ ku, czasteczki pigmentu usuwane sa z plyty ksero¬ graficznej w taki sposób, ze nie •nastepuje zanie¬ czyszczenie pigmentu i moze on byc ponownie wie¬ lokrotnie uzywany. Przy czyszczeniu nie zachodzi takze zjawisko rozpylania i osiadania pigmentu na czesciach powielacza, co mogloby utrudnic jego prawidlowe dzialanie. Ponadto urzadzenie nie wy¬ maga takich klopotliwych napraw i regulacji jak urzadzenia czyszczace stosowane dotychczas. Urza¬ dzenie wedlug wynalazku zapewnia nie tylko sku¬ teczne i bardzo wydajne oczyszczenie, lecz jest takze malo kosztowne i umozliwia ponowne stoso¬ wanie zebranego pigmentu. PL PL

Claims (18)

1. Zastrzezenia patentowe 11 Sposób oczyszczania powierzchni plyty kse¬ rograficznej w ukladzie elektrostatycznego powie¬ lania, obejmujacy etapy doprowadzania zespolu scierajacego do .powierzchni rejestratora, na której znajduje sie scierany pigment obrazowy oraz do¬ prowadzania potencjalu elektrycznego do zespolu scierajacego w momencie, gdy ten znajduje sie na¬ przeciw pigmentu obrazowego w celu mechanicz¬ nego i elektrostatycznego usuwania tego pigmen¬ tu z powierzchni rejestratora na element sciera¬ jacy, znamienny tym, ze czastki pigmentu przy¬ ciaga sie od zespolu" scierajacego do walca umie¬ szczonego na drodze przesuwu tego zespolu przez polaczenie teigo walca z drugim zródlem napiecia i przylozenie do niego potencjalu o takim samym znaku, jaki posiada potencjal zespolu scierajacego polaczonego z pierwszym zródlem napiecia, a cza¬ stki pigmentu przywierajace elektrostatycznie do powierzchnii walca usuwa sie do odibiornika za po- 5 moca elementu zgarniajacego umieszczonego na drodze obrotu walca, przy czym zyskane czastki pigmentu stosuje sie ponownie.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze kulki magnetyczne na ruchomym przenosniku ma¬ gnetycznym ustawia siie pod wplywem pola mag¬ netycznego w sztywne preciki, a podczas styfcania sie ich z materialem obrazu przyklada sie do nich potencjal elektryczny.

3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze do powierzchnii plyty kserograficznej przybliza sie zespól scierajacy, zawierajacy niejprzewodzace wló¬ kna, przy czym elektryczny potencjal wytwarza po¬ le elektryczne skierowane promieniowo wzdluz tych wlókien podczas ich styku z materialem obrazu.

4. Sposób Wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze stosuje sie wlókna wykonane z materialu posia¬ dajacego wlasciwosc tryboelekttirycznego przyciaga¬ nia materialu obrazu.

5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze stosuje sie kulki czyszczace zawierajace skladnik magnetyczny pokryty materialem izolujacym ele-. ktrycznie.

6. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze powierzchnia przenosnika pokryta jest materialem izolujacym elektrycznie.

7. Sposób wedlug zastrz. 2 lub 5 lub 6, znamien¬ ny tym, ze stosuje sie kulki zawderajace material posiadajacy wlasciwosc trylboelektrycznegó przycia¬ gania materialu obrazu.

8. €. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze do plyty kserograficznej przyklada sie ladunek o takim samym znaku jak znak ladunku materialu obrazu przed zeitknieaiem sie* obrazu z zespolem scierajacym.

9. Urzadzenie do oczyszczania powierzchni ply¬ ty kserograficznej, zawierajace zespól scierajacy dostosowany do przesuwu wzdluz powierzchni ele¬ ktrostatycznego rejestratora z przywierajacymi do niej czastkami pigmentu oraz obwody elektryczne polaczone z zespolem scierajacym posiadajacym po¬ tencjal elektryczny o znaku przeciwnym do poten¬ cjalu czastek pigmentu i o wielkosci wystarcza¬ jacej do przyciagania tych czastek do zespolu scie¬ rajacego podczas przesuwu tego elementu wzdluz powierzchni plyty kserograficznej, znamienne tym, ze na drodze zespolu scierajacego (20) jest usytu¬ owany walec (40), który jest polaczony z drugim zródlem napiecia (44) nadajacym mu potencjal o takim samym znaku, jaka posiada potencjal zespo¬ lu scierajacego (20) i wystarczajaco duzy dla przy¬ ciagania czastek pigmentu (11) z zespolu sciera¬ jacego (20) i osadzania ich na walcu (40), a na drodze obrotu walca (40) jest usytuowany element (50) zgarniajacy czastki pigmentu (11) z powierz* chni walca (40) do odbiornika (52).

10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze zespól scierajacy (20) ma warstwe podloza, z którego wystaija wlókna nieprzewbdzace elektrycz¬ nosci. lii. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6080388

11. Ze zespól scierajacy (20) posiada zespól przeno¬ szacy kulki czyszczace w poblizu powierzchni (12) plyty kserograficznej (13).

12. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, znamienne tym, ze kuliki czyszczace wykonane sa z materialu mag¬ netycznego, a zespól przenoszacy zawiera cylinder (22) obracajacy sie w polu przynajmniej jednego magnesu trwalego (24), ukierunkowanym promie¬ niowo w poblizu .powierzchni kserograficznej i cy¬ lindra (22).

13. 18. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze posiada srodki (35) nadajace plycie kserogra¬ ficznej (13) ladunek o takim samym znaku jaki posiada ladunek czasteczki pigmentu przed zetknie¬ ciem sie tych czasteczek z zespolem czyszczacym (20).

14. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze obwód elektryczny zawiera szereg równomiernie rozmieszczonych segmentów przewodzacych (211) polaczonych z zespolem scierajacym (207) oraz trze¬ cie (275) zródlo napiecia o biegunowosci przeciw¬ nej niz biegunowosc pierwszego (133) zródla na- 12 piecia i o wartosci napiecia nizszej niz wartosc pierwszego (133) napiecia, oraz elementy roz¬ dzielajace (131, 269) sluzace do podania pierwszego (133) napiecia na przewodzacy segment zespolu scierajacego (20) naprzeciw plyty kserograficznej i do podania trzeciego (275) napiecia na przewodza¬ cy segment zespolu (20) naprzeciw walca (150).

15. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze napiecie pierwszego (133) zródla ma wartosc 500—2000 V a drugiego (154) zródla w granicach od 1000 do 3000 V.

16. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze napiecie pierwszego (133) zródla jest od 200 do H000 V a drugiego (154) zródla jest od 1000 do 2000 V.

17. Urzadzenie wedlug zastrz. 1,4, znamienne tym, ze róznica potencjalów pomiedzy drugim (154) a trzecim (275) napieciem wynosi od 800 do 2700 V.

18. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze ma elementy nastawcze (141, 142, 160, 161) re¬ gulujace odleglosc zespolu scierajacego (20) (107) od plyty kserograficznej (13) i od walca (150) Fig. 180388 FIG. 280388 103 FIG 4 ^ 189 l9 FIG 580388 ,0 III B^hr FIG. 6 • PL PL