PL79433B1 - - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn (Wielka Brytania) Srodek do Wywolywania oBrazów kserograficznych i sposób wy¬ wolywania obrazów kserograficznych Przedmiotem wyh&lazku jest srodek dó wywo¬ lywania obrazów kserograficznych oraz sposób wy^ wolywania obrazów kserograficznych.Zarówno srodek jak i sposób wedlug wynalazku dotycza zwlaszcza biegunowego cieklego procesu wywolywania.Znany jest, przykladowo z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 084 043, sro¬ dek do wywolywania obrazów kserograficznych, skladajacy sie z cieklego wywolywacza umieszczo¬ nego na powierzchni elementu doprowadzajacego wywolywacz do zetkniecia materialu wywolywacza z powierzchnia zawierajaca utajony obraz kserogra¬ ficzny za posrednictwem wierzcholkowych punk¬ tów tego elementu. Element ten posiada szereg wzniesionych czesci, które okreslaja powierzchnie posiadajaca zasadniczo regularny wzór, oraz sze¬ reg czesci obnizonych w stosunku do czesci wznie¬ sionych. W czesciach obnizonych umieszcza sie war¬ stwe przewodzacego, cieklego wywolywacza, która utrzymywana jest w polozeniu bezstykowym, wzgledem elektrostatograficznej powierzchni obra¬ zowej. Z chwila gdy wzniesione obszary elementu dawkujacego wywolywacz zetkna sie z elektrosta¬ tyczna powierzchnia, na której umieszczony jest obraz, wywolywacz pelza po bokach wzniesionych czesci i osiada na powierzchniach naladowanych.Znany sposób wywolywania obrazów kserogra¬ ficznych za pomoca cieklego wywolywacza, opisany w w/w amerykanskim opisie patentowym nr* 3 084 043, bedzie zwany dalej w niniejszym opisie* jako „biegunowe ciekle wywolywanie". W odróz* nieniu od konwencjonalnych sposobów wywolywa* ' nia przy pomocy cieczy, w technice biegunowego, cieklego wywolywania uniemozliwiono pelniejsze zetkniecie miedzy ciecza biegunowa i nie przewi¬ dzianymi do wywolywania obszarami, na po¬ wierzchni, na której znajduje sie utajony obraz 10 elektrostatyczny. Ograniczenie styku miedzy cie¬ klym wywolywaczem i obszarami, które nie posia¬ daja obrazów, a znajduja sie na powierzchni prze¬ widzianej do wywolywania jest pozadane, albowiem zapobiega to powstawaniu osadów na tle obrazu. 15 Dalsza cecha charakterystyczna, która odróznia technologie biegunowego, cieklego wywolywania od konwencjonalnych sposobów wywolywania cieklego stanowi fakt, ze faza ciekla wywolywacza biegu¬ nowego bierze aktywny udzial w wywolywaniu po- 20 wierzchni. Przy stosowaniu konwencjonalnych cie¬ klych wywolywaczy, faza ciekla dziala tylko jako nosnik czastek wywolywacza. Wskutek tego, takie niepozadane cechy jak niestabilnosc wywolywacza w czasie skladowania i zmiana koncentracji cza- 25 stek w przebiegu wywolywania, stanowia powazne przeszkody, które nalezy przezwyciezyc przy do¬ skonaleniu konwencjonalnych sposobów cieklego wywolywania. Izolujace ciecze weglowodorowe, uzywane normalnie jako ciecz nosna w konwen- 30 cjonalnych sposobach cieklego wywolywania, sa 70 4333 79433 4 poza tym niekiedy lotne, toksyczne, zapalne lub posiadaja przykra won.Poniewaz ciecz nosna stosowana w konwencjo¬ nalnych sposobach cieklego wywolywania posiada poza tym wlasciwosc „zwilzajacego" styku z wszyst¬ kimi obszarami pbwierzchni, na której znajduje sie obraz (to znaczy obszary obrazu i tla), zuzywa sie znaczne ilosci materialu toksycznego, zapalnego i o przykrej woni, a w koncu material ten ucho¬ dzi do otaczajacej atmosfery. W dodatku, przy sto¬ sowaniu konwencjonalnych metod cieklego wywo¬ lywania, pigment lub inne czastki stale, powoduja czeste zatykanie sie elementu doprowadzajacego wywolywacz co stwarza potrzebe stosowania do¬ datkowych zabiegów dla utrwalania obrazu. Jak¬ kolwiek technika biegunowego wywolywania po¬ siada pewne korzysci w stosunku do konwencjo¬ nalnych sposobów cieklego wywolywania, takich jak wieksza stabilnosc wywolywacza, to nie jest ona calkowicie wolna od cech niepozadanych.Wobec tego, ze element doprowadzajacy biegu¬ nowy ciekly wywolywacz nalezy oczyszczac aby zapobiec przykrywaniu przez ciecz jego szczyto¬ wych punktów, co konieczne jest ze wzgledu na utrzymywanie czystego tla, odstep i nacisk miedzy ostrzem oczyszczajacym i elementem doprowadza¬ jacym wywolywacz staje sie czesto decydujacy, zwlaszcza gdy pozadane jest otrzymywanie odbitek o wysokiej jakosci. Wobec tego, ze element dopro¬ wadzajacy i ostrze oczyszczajace moga podlegac zuzyciu, jest czesto rzecza trudna utrzymac w ma¬ szynach automatycznych wlasciwy odstep w dluz¬ szych okresach czasu. Zbieranie sie kurzu i zary¬ sowania na elemencie doprowadzajacym wywoly¬ wacz oraz zalamania na ostrzu oczyszczajacym, wywoluja dodatkowo tendencje sprzyjajace powsta¬ waniu osadów na koncowej odbitce. Totez, istnieje ciagla potrzeba stworzenia lepszego sposobu wy¬ wolywania utajonych obrazów elektrostatycznych.Celem wynalazku jest opracowanie srodka do wywolywania obrazów kserograficznych, którego element doprowadzajacy material wywolywacza bylby zabezpieczony w swoich szczytowych punk<- tach przed pokrywaniem ich przez ciekly nosnik czastek wywolywacza.Celem wynalazku jest takze opracowanie spo¬ sobu wywolywania obrazów kserogrfaficznych, któ¬ ry umozliwialby stosowanie wywolywacza w stanie stalym oraz stosowanie wywolywaczy o doskonal¬ szych wlosciwosciach fizyko-chemicznych.Cel wynalazku osiagnieto przez to, ze biegunowa warstwa wywolujaca srodka do wywolywania obra¬ zów kserograficznych znajduje sie w stanie sta¬ lym z mozliwoscia przejscia w stan ciekly, a ele¬ menty zapobiegajace stykowi tej warstwy z po¬ wierzchnia wywolywana stanowi odpychajace cza¬ stki dystansowe wywolywacza usytuowane na pod¬ lozu wywolywacza.Cel wynalazku osiagnieto równiez przez to, ze co najmniej czesc równomiernej, normalnie beda¬ cej w stanie stalym warstwy wywolywacza biegu¬ nowego o objetosciowej opornosci wlasciwej mniej¬ szej od 1013 om-cm i lepkosci mniejszej od 104 pauzow, umieszczonej na podlozu podtrzymujacym, przeprowadza sie w stan ciekly, swobodna powierz¬ chnie tak otrzymanej cieklej warstwy wywolywa¬ cza biegunowego umieszcza sie w poblizu powierz¬ chni z naniesionym obrazem, nastepnie umieszcza 5 sie szereg odpychajacych czastek dystansowych w fizycznym styku z ciekla ciecza warstwy wywo¬ lywacza biegunowego. Odpychajace czastki dystan¬ sowe maja taka sama wielkosc, która zapobiega stykowi warstwy wywolywacza biegunowego z po- io wierzchnia z naniesionym obrazem a umozliwia styk tej powierzchni z bocznymi powierzchniami odpychajacych czastek dystansowych.Dzieki temu ciekla warstwa wywolywacza bie¬ gunowego wedruje po bocznych powierzchniach !5 czastek dystansowych w kierunku powierzchni z naniesionym obrazem i osiada na tej powierzchni w konfiguracji obrazu. Nastepnie oddziela sie po¬ wierzchnie z naniesionym obrazem od warstwy pod¬ loza podtrzymujacego. Jakkolwiek sprawa nie jest 20 calkowicie wyjasniona, zaklada sie, ze wywoly¬ wacz, który przeszedl w stan ciekly pelza po bo¬ kach czastek dystansowych i/lub tworzy faldy mie¬ dzy czastkami dystansowymi i zostaje przyciagniety do obszarów naladowanych powierzchni obrazowej, 25 zwilza je w czasie gdy zostaje utrzymywany w po¬ lozeniu bezstykowym w stosunku do obszarów poz¬ bawionych ladunków. Warstwa wywolywacza bie¬ gunowego moze zostac przeprowadzona w stan ciekly przed zetknieciem sie z powierzchnia, na 3* której znajduje sie utajony obraz, lub równoczesnie z zetknieciem, albo tez po zetknieciu z ta po¬ wierzchnia. Warstwa wywolywacza jest korzystnie unoszona na podlozu donorowym, które po prze¬ prowadzeniu wywolywacza zostaje oddzielone od 35 powierzchni obrazowej. Oddzielenie moze byc wy¬ konane przed lub po ponownym zestaleniu mate¬ rialu wywolywacza.Jako czastki dystansowe wedlug niniejszego wy¬ nalazku, mozna stosowac dowolny odpowiedni cza- *° steczkowy material, który w czasie procesu wywo¬ lywania w zasadzie nie ulega zdeformowaniu. Ty¬ powe materialy czastek lub rdzeni czastek, które w czasie procesu wywolywania pozostaja w za¬ sadzie nie zdeformowane, obejmuja substancje or- 45 ganiczne takie jak zywice termoutwardzalne i zy¬ wice termoplastyczne, które topnieja w tempera¬ turach wyzszych niz temperatury przechodzenia wywolywacza w stan ciekly, jak i substancje nie¬ organiczne, jak szklo, piasek, weglan wapnia, stal, 50 miedz i temu podobne.Czastka dystansowa moze posiadac ksztalt ku¬ listy, ziarnisty, szescienny, cylindryczny lub inny odpowiedni oraz powierzchnie o gladkiej lub nie¬ regularnej charakterystyce. Ksztalt kulisty jest 55 uprzywilejowany, albowiem przecietny odstep po¬ miedzy powierzchnia obrazowa i warstwa wywoly¬ wacza mozna przewidziec z wieksza dokladnoscia.Poza tym uzyskuje sie optymalny zarys i jakosc obrazu przy stosowaniu kulistych czastek dystan¬ se sowych, gdyz obszar styku miedzy powierzchnia odbierajaca obraz i czastkami dystansowymi, ma wielkosc minimalna. Czastki dystansowe powinny posiadac przecietna wielkosc srednicy wynoszaca od okolo 2 do 60 mikronów. Nie ma potrzeby uwgle- w dniac w kazdym przypadku maksymalnego wymiaru76433 6 czastki dystansowej przy okreslaniu przecietnej srednicy czastki.Przykladowo mozna zwykle nie zwracac uwagi na dlugosc wlóknistych czastek dystansowych. Je¬ zeli jednak wlókniste czastki dystansowe obejmuja proste krótkie cylindry, których dlugosc zbliza sie do srednicy wlókna, byloby rzecza wlasciwa, przy ustalaniu przecietnej srednicy odstepu, uwzgledniac dlugosc cylindra z uwagi na mozliwosc ustawienia sie niektórych czastek dystansowych osia skiero¬ wana raczej prostopadle niz równolegle do po¬ wierzchni materialu donorowego podloza. Totez kryterium dla ustalenia czy wymiary czastki dy¬ stansowej winny byc wlaczone do obliczania wiel¬ kosci odstepu, stanowi to czy wymiar ten wplynie bezposrednio na wielkosc odstepu. Wymiar czastki dystansowej, który bezposrednio wplywa na wiel¬ kosc odstepu, bedzie dalej w niniejszym opisie okreslany jako „srednica dystansowa". Optymalna wielkosc srednicy dystansowej wynosi od okolo 6 do 20 mikronów, co zostalo ustalone droga minima¬ lizacji gestosci na powierzchni tla i maksymali¬ zacji gestosci obrazu.Jakkolwiek czastka dystansowa moze posiadac gladka lub nieregularna powierzchnie zewnetrzna, powinna jej powierzchnia zewnetrzna odpychac lub nie powinna wykazywac przyczepnosci w stosunku do wywolywaczy biegunowych wedlug niniejszego wynalazku. Powierzchnia czastki dystansowej jest dostatecznie odpychajaca wzgledem wywolywacza, gdy zastosowany biegunowy wywolywacz po sto¬ pieniu wykazuje tendencje tworzenia raczej ,kulek" lub „paciorków" niz powloki na powierzchni utwo¬ rzonej z materialu czastek dystansowych. Opty¬ malne wyniki uzyskuje sie wówczas, gdy ciekly wywolywacz ma tendencje tworzenia „kulek" na powierzchni utworzonej z materialu czastek dy¬ stansowych w podobny sposób, jak tworza sie kulki rteci na plaskiej powierzchni. Typowe materialy czastkowe, które wykazuja tendencje odpychania cieczy biegunowych obejmuja antracen, naftalen, proszek miedza, proszek stearynianu cynku, woski takie jak wosk Karnauba, woski mikrokrystaliczne i weglowodorowe, zywice hydrofobowe takie jak teflon, polietylen, polipropylen, zywice krzemowe takie jak General Electric SE82 i proszki polisty¬ renowe, oraz materialy dwufazowe, jak proszek dwutlenku tytanu, nasycony woskiem krzemowym, kulki szklane powleczone polimerami weglowodo¬ rów fluoropochodnych, czastki powleczone solami kwasów tluszczowych stalych metali, takimi jak weglan wapnia powleczony stearynianem cynku, oraz mieszaniny tych materialów. Uprzywilejowana grupa materialów sklada sie z pigmentu hydrofi- lowego, który zostal w zasadzie calkowicie powle¬ czony wstepnie zorientowana warstwa czynnika do preparowania powierzchni, takiego jak na przyklad liniowy zwiazek, który posiada jeden koniec odpy¬ chajacy wywolywacz i jeden koniec hydrofilowy.Typowe przyklady takich zwiazków obejmuja kwasy tluszczowe o budowie lancuchowej, ich sole metali na przyklad stearyniany, sole aminowe lan¬ cuchowych kwasów tluszczowych, lancuchowe alko* hole alifatyczne i lancuchowe amidy kwasów tlusz¬ czowych. Typowe hydrofilowe pigmenty, które mozna powlekac takimi zwiazkami obejmuja krede, dwutlenek tytanu, tlenek cynku, sproszkowane szklo, chrom, aluminium, ftalocyJanine miedzi, skro¬ bie, wegiel i ich mieszaniny. Czastki zlozone, które 5 posiadaja analogiczne wlasciwosci mozna w pew¬ nych wypadkach tworzyc, przez oddzialywanie na reagujacy powierzchniowo pigment, odpowiednim czynnikiem pokrywajacym powierzchnie.Typowe przyklady obejmuja krzemionke preparo- io wana estrami lub pochodnymi chlorosilanu, .proszek weglowy poddany reakcji z kalafonia i temu po¬ dobne. Stwierdzono, ze substancje zlozone z pig¬ mentów i takich czynników dla obróbki powierz¬ chni, posiadaja w wybitnym stopniu wlasciwosc 15 zewnetrznego odpychania wywolywaczy bieguno¬ wych. Przypuszcza sie, ze blonki powierzchniowe sa w sposób uprzywilejowany ustawione wzgledem siebie stronami hydrofilowymi, które sasiaduja z powierzchnia ich rozdzialu z blonka pigmentu, 20 ustawiajac sie w ten sposób wzgledem wywolywa¬ cza strona jednolicie odpychajaca wywolywacz.Sprawia to, ze tego rodzaju czastki sa szczególnie przydatne dla zastosowania przewidzianego w ni¬ niejszym wynalazku* W wypadkach gdy czastki dy- 25 stansowe posiadaja rdzen pokryty powloka z sub-* stancji odpychajacych tusz, mozna powloke nakla¬ dac na rdzenie przy pomocy dowolnej odpowiedniej technologii.Typowe procesy powlekania obejmuja zanurzania, 30 spryskiwanie, naparowywanie, szczotkowanie i po¬ dobne. Wobec tego, ze powierzchnia obszaru zaj¬ mowanego przez konce wlóknistych czastek dystan* sowych, jak wlókno szklane, stanowi zwykle mala czesc calkowitej powierzchni czastek, mozna po- 35 wlekac dlugie wlókna substancja Odpychajaca tusz* przed ich rozdrobnieniem, na krótkie czastki dy¬ stansujace.Czastki dystansowe powinny byc korzystnie prze¬ zroczyste lub posiadac zabarwienie odpowiadajace 40 barwie powierzchni arkusza, na którym wykonana bedzie ostatecznie odbitka. Jednak dla uzyskania specjalnych efektów, czastki dystansowe moga za¬ wierac czastki, które posiadaja jedna lub wiecej barw, kontrastujacych z barwa powierzchni pod- 45 loza ostatecznej odbitki.Dla wytworzenia wywolywacza wedlug niniej¬ szego wynalazku mozna stosowac dowolny biegu¬ nowy material, dajacy sie przeprowadzic w stan cie¬ kly który w stanie cieklym jest przewodzacy.Wywó- 50 lywacze biegunowe wedlug niniejszego wynalazku róznia sie tym od latwo topliwych elektroforetycz- nych wywolywaczy tym, ze wywolywacze biegu*- nowe reaguja na pola elektrostatyczne jako homo¬ geniczna jednosc, bez wyrazniejszego oddzielania 55 któregokolwiek z ich skladników. Biegunowy wy¬ wolywacz powinien byc w stanie stopionym lub rozpuszczonym, dostatecznie przewodzacy, aby spo¬ wodowac zalamanie sie wewnatrz wywolywacza linii pola elektrycznego, oo Zadawalajace wyniki uzyskuje sie przy stoso¬ waniu wywolywaczy posiadajacych objetosciowa przewodnosc wlasciwa mniejsza niz okolo 1013 om-cm, Wywolywacz przeprowadzony w stan cie¬ kly, który posiada opór wlasciwy mniejszy niz «5 okolo 1010 om-cm, jest uprzywilejowany z uwagi79433 ha mozliwosc uzyskania optymalnej predkosci i ja¬ kosci obrazu, zwlaszcza gdy uzywane sa podloza nie przewodzace elektrycznosci. Termoplastyczna warstwa wywolujaca powinna stac sie ciekla w za¬ kresie temperatur powyzej okolo 48°C do okolo temperatury zweglania papieru. Material wywoly¬ wacza, który topi sie w temperaturze ponizej okolo 48°G, wykazuje tendencje wzmacniania sklejania sie arkuszy doprowadzajacych, podczas ich sklado¬ wania.Zastosowanie przy pakowaniu nieprzyczepnej przekladki lub powleczenie tylnej strony arkusza sprawia, ze wywolywacz posiadajacy nizsza tem¬ perature topnienia, moze byc równiez uzywany.Temperature przy której osiagniety zostaje stan ciekly nalezy utrzymywac ponizej temperatury roz¬ kladu podloza doprowadzajacego i powierzchni przewodzacej fotoelektrycznosc. Dla uzyskania op¬ tymalnej wydajnosci, predkosci i prostoty maszyny nalezy uznac za najkorzystniejszy zakres tempe¬ ratur cieczy w granicach miedzy okolo 57°C do okolo X55°C.Optymalne wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu wywolywaczy, zawierajacych biegunowe, termopla¬ styczne polimerowe i niepolimerowe substancje kry¬ staliczne. Substancje te topia sie szybko i odzna¬ czaja sie waskim zakresem temperatur, przy któ¬ rych przechodza w stan ciekly* Totez wywolywacze krystaliczne sa szczególnie pozadane dla maszyn szybkobieznych, dla których wymagane sa substan¬ cje wywolywaczy, których wlasnosci przechodzenia w stan ciekly leza w waskich granicach tolerancji i dadza sie. dokladnie przewidziec.Wobec tego, ze miedzy czasem wywolywania i lepkoscia wywolywacza istnieje zwiazek liniowy, uzyskuje sie wieksze predkosci wywolywania przy stosowaniu wywolywaczy, które posiadaja mniejsza lepkosc po doprowadzeniu w stan ciekly. Zada¬ walajaca szybkosc wywolywania, wynoszaca okolo 3 sekundy, uzyskuje sie przy stosowaniu wywoly¬ wacza, który posiada lepkosc wynoszaca okolo 10* puazów. Optymalne szybkosci wywolywania uzy¬ skuje sie, stosujac biegunowe wywolywacze dopro¬ wadzone do stanu cieklego, które posiadaja lep¬ kosc wynoszaca mniej niz okolo' 10* pauzów, przy temperaturze okolo 57°C do okolo 100°C.Typowe materialy termoplastyczne, które posia¬ daja opór wlasciwy mniejszy niz okolo 1013 om-cm w stanie cieklym, obejmuja glikole polietylenu, al¬ kohol cetylowy, alkohol stearylowy, kwas steary¬ nowy, kwas palmitynowy lub materialy termopla¬ styczne, które sa równiez zwykle izolatorami, lecz staja sie dostatecznie przewodzace pod wplywem takich zwiazków addycyjnych, jak barwniki jono¬ we, czwartorzedowe sole amonowe, organiczne i nie¬ organiczne substancje pochlaniajace wilgoc, pig¬ menty pólprzewodzace lub inne dobrze znane prze¬ wodzace zwiazki addycyjne. Dodanie biegunowych rozpuszczalników wywola taki sam skutek jaki uzy¬ skuje sie przy omawianym nizej zmiekczeniu para.Jezeli jest to pozadane, mozna doprowadzic do zmiekczenia wywolywacza raczej przy pomocy roz¬ puszczalnika wywolywacza lub mieszanki rozpusz¬ czalników, niz przy pomocy ciepla. Wybór okreslo¬ nego rozpuszczalnika zalezy od specyfiki uzytego materialu wywolywacza oraz od koncowego oporu wlasciwego, doprowadzonej do stanu cieklego mie¬ szaniny materialów rozpuszczalnika i wywolywacza.Nalezy zwrócic uwage na wybór takiego rozpusz- • czalnika, który stworzy z doprowadzonym do stanu cieklego wywolywaczem mieszanine, która bedzie posiadala opór wlasciwy mniejszy niz okolo 1013 om-cm. Dla szybkiego wywolywania korzystniejsze sa stosunkowo lotne rozpuszczalniki dla ulatwie- !0 nia szybkiego usuniecia rozpuszczalnika po wywo¬ laniu z koncowych obrazów z wywolywacza. Jezeli wywolany obraz ma byc przeniesiony na absorbu¬ jacy arkusz odbierajacy, mozna stosowac rozpusz-* czalnik nie ulatniajacy sie. Typowe kombinacje u substancji wywolywacza i rozpuszczalnika obej¬ muja: glikol polietylenu i wode: glikol polipropy¬ lenu i alkohol metylowy; stearynian n^butylowy i alkohol; amid olejowy i gliceryne; amidek ole¬ jowy i glikol etylenu; glikol polietylenu i alkohol 20 izopropylowy.Do materialu wywolywacza biegunowego mozna dodawac rózne srodki dodatkowe, dla uzyskania zmiany barwy, charakterystyki topnienia, charakte¬ rystyki zwilzania i innych wlasnosci wywolywacza. 29 Jako srodek barwiacy mozna stosowac dowolny, odpowiedni barwnik lub pigment. Srodek barwiacy moze wystepowac w wywolywaczu przeprowadzo¬ nym w stan ciekly jako skladnik rozpuszczony lub jako czastki w zawiesinie lub czastki rozproszone. 30 Wobec tego ze wywolywacz biegunowy wedruje jako hemogeniczna calosc to na dzialanie wywo¬ lywacza w zasadzie nie wplywa obecnosc lub brak czastek barwiacych. Potencjal elektrokinetyczny pigmentu znajdujacego sie w zawiesinie lub roz- 3* proszonego, jezeli pigmenty sa stosowane, wplywa nieznacznie na dzialanie wywolywacza bieguno¬ wego, albowiem czastki pigmentu unoszone sa ra¬ czej wraz z medium cieklego wywolywacza, gdy przemieszcza sie ono pod wplywem pola zewnetrz- *o nego, niz mialoby nastepowac selektywne wycia¬ ganie tych czastek przez pole elektryczne z me¬ dium cieklego wywolywacza. Oznacza to bardziej konkretnie, ze potencjal elektrokinetyczny jakich¬ kolwiek czastek pigmentu, które znajduja sie 45 w wywolywaczu biegunowym, nie wplywa na me¬ chanizm wywolywania albowiem wywolywacz pirce- prowadzony w stan ciekly jest dostatecznie przewo¬ dzacy, aby spowodowac zalamanie linii pola elek¬ trycznego wewnatrz wywolywacza i aby zapobiec '50 oddzialywaniu pola na czastki pigmentu.Jezeli stosuje sie dla wywolywacza biegunowego raczej izolujace niz przewodzace podloze z prze¬ wodzacymi czastkami pigmentu, wystapi raczej elektroforetyczne wywolywanie z selektywna we- 55 drówka czastek, niz wywolywanie biegunowe w cza¬ sie którego wywolywacz przemieszcza sie jako he¬ mogeniczna calosc. Jakkolwiek wystepowanie pig¬ mentowych srodków barwiacych jest nieistotne dla mechanizmu wywolywania maja one pierwszen- eo stwo przed barwnikowymi srodkami barwiacymi gdyz osadzone obrazy z wywolywacza sa bardziej trwale i mniej narazone na plowienie, niz obrazy z osadów, zawierajacych barwniki.W odróznieniu od konwencjonalnych sposobów 05 wywolywania przy pomocy cieczy, unika sie przylam 10 uzyciu rozszerzajacego sie stalego wywolywacza wedlug niniejszego wynalazku, zjawisk zbierania sie materialu pigmentu na powierzchniach urza¬ dzenia podajacego oraz nastepujacego po tym ewen¬ tualnego zatykania sie urzadzenia.Typowe srodki barwiace zawieraja barwniki azowe, takie jak: Czerwien Kongo, Chryzsamina, Benzopurpuryna 4B, Benzoazuryna, Kongo Korynt, Zólcien Brylantowa, Fiolet dwuaminowy, Czern do dwuazowania BH, Irlandzka Czern Bezposrednia EW, barwniki akrydynowe takie jak Zólcien akry- dynowa i Reonina AL; barwniki chinolinowe takie jak Zólcien ekstra jasna GGL; barwniki azynowe, takie jak Safranina T; barwniki trójarylometano- we, takie jak para-Posanilina i Zielen Malachi¬ towa; barwniki ksantenowe, takie jak Hodamina B; barwniki siarkowe, takie jak Granat siarkowy oraz pigmenty takie jak Blekit Hydronowy R, Blekit ultramarynowy, proszek aluminiowy, sadza, siar¬ czek kadmu, tlenek zelaza i temu podobne. Srodek barwiacy moze byc wedlug zyczenia materialem, który moze zamienic sie na material kolorowy w czasie wywolywania lub po wywolywaniu, wsku¬ tek reakcji z innym skladnikiem, przez wystawie¬ nie na dzialanie swiatla, przez utlenienie, przez ogrzewanie lub przy pomocy innej odpowiedniej techniki.Aby zmienic temperature topnienia wywolywa¬ cza mozna dodawac substancje, majace nizsza lub wyzsza temperature topnienia. Przykladowo mozna dodawac p-dwubromobenzen do polimetakrylanu metylowo-polistyrenowego, zawierajacego przewo¬ dzacy srodek addacyjny, w celu obnizenia tempe¬ ratury topnienia. Tempo przechodzenia wywoly¬ wacza w stan ciekly moze byc przyspieszone lub opóznione przez laczenie srodka addycyjnego o wyzszej lub nizszej temperaturze topnienia z wy¬ wolywaczem stosujac dowolny odpowiedni sposób, jak zestawianie mieszanki, tworzenie emulsji lub powlekanie. Uprzywilejowany uklad obejmuje war¬ stwe stalego rozpuszczalnika o niskiej temperatu¬ rze topnienia wsunieta miedzy warstwe podloza doprowadzajacego i warstwe wywolywacza. Arkusz doprowadzajacy moze na przyklad obejmowac pod¬ loze papierowe powleczone jako pierwsza warstwe ortotoiuidyna acetylu i jako druga warstwe poli¬ metakrylanem metylu, zawierajacym przewodzacy srodek addycyjny.Po doprowadzeniu ciepla do struktury warstwo¬ wej, zwlaszcza od strony niepowleczonej topnieje szybko staly rozpuszczalnik o niskiej temperaturze topnienia i rozpuszcza warstwe wywolywacza przy temperaturze nizszej, niz normalna temperatura topnienia warstwy samego wywolywacza. Stale krystaliczne rozpuszczalniki sa korzystniejsze, gdyz topnieja w scisle okreslonym momencie i szybko, co umozliwia prowadzenie dokladnej kontroli pro¬ cesu wywolywania. Typowe stale krystaliczne roz¬ puszczalniki obejmuja p-dwubromobenzen, ortoto- luidyne acetylenu, n-amidek octanu fenylu i beta naftol. Substancje obnizajace napiecie powierz¬ chniowe wywolywacza, mozna równiez dodawac do warstwy wywolywacza. Modyfikator napiecia po¬ wierzchniowego mozna dodawac w dowolny odpo¬ wiedni sposób, taki jak techniki opisane powyzej w odniesieniu do innych srodków addycyjnych wy¬ wolywacza.Zmniejszenie napiecia powierzchniowego warstwy wywolywacza doprowadzonej do stanu cieklego 5 jest pozadane, albowiem mozna osiagnac wieksze predkosci wywolywania, przy zmniejszonych po¬ tencjalach obrazów elektrostatycznych. Srodki do¬ datkowe dla obnizenia napiecia powierzchniowego cieczy sa dobrze znane. Typowe substancje bbni- 10 zajace napiecie powierzchniowe obejmuja monola- urynian glicerynowy, siarczan, sole trójetyloami- nowe kwasów tluszczowych, bursztynian oktylu sodu i ich mieszaniny.Warstwa donorowego podloza podtrzymujacego 15 moze zawierac dowolny odpowiedni material lub odpowiednie materialy, wystarczajace dla podtrzy¬ mania warstwy wywolywacza. Podloze donorowe moze byc przewodzace lub izolujace. Powierzchnia podloza donorowego, która styka sie z wywolywa- 20 czem lub warstwa stalego rozpuszczalnika, zostaje wybrana najkorzystniej sposród materialów, które sa zwilzane przez wywolywacz lpb substancje roz¬ puszczalnika stalego wywolywacza. Powierzchnia podloza donorowego, która nadaje sie do zwilzania 35 wspomaga powstawanie, podczas produkcji arkuszy doprowadzajacych, jednolitej warstwy wywolywa¬ cza.Dajaca sie zwilzac powierzchnia podloza, donoro¬ wego zapobiega równiez tworzeniu sie przez do- 30 prowadzqna do stanu cieklego warstwe wywoly¬ wacza niepozadanych kulek, paciorków lub krope¬ lek, które swymi wymiarami przekraczalyby ma¬ ksymalna tolerancje odstepu, który zostal ustalony przez czastki dystansowe, co powodowaloby styka- 35 nie sie wywolywacza z obszarami tla powierzchni obrazowej. Kulki lub paciorki tworzace sie na "po¬ wierzchniach nosnych podloza, które odpycha wy¬ wolywacz, maja ponadto tendencje do splywatóa, szczególnie na powierzchniach, które nie sa dosko- *o nale poziome.Powierzchnie materialów, które nie ulegaja zwilzeniu przez warstwe wywolywacza moga byc preparowane dowolna substancja wspierajaca zwil¬ zanie. Do typowych materialów, które dobrze przyj- 45 muJa wywolywacz, naleza gladzony papier, drobno¬ ziarniste folie aluminiowe, Mylar, nietkane gladzone materialy z jedwabiu, zywice poliolefinowe i po¬ liestrowe, odlewane podloza filmu, takie jak ace- tat celulozy i podobne. Uprzywilejowane sa arkusze 50 podloza doprowadzajacego, które posiadaja gladkie powierzchnie. Jednakze powierzchnie porowate moga byc przydatne jezeli ilosc lub rozmiar por, nie wplywaja w sposób ujemny na pozadana od¬ leglosc odstepu pomiedzy zewnetrzna powierzchnia 55 warstwy wywolywacza i powierzchnia, na której znajduje sie utajony obraz.Wobec tego, ze grubosc warstwy wywolawcza wy¬ kazuje tendencje do zmieniania sie, gdy jest on umieszczony na podlozach, które posiadaja nierów¬ no ne powierzchnie, to wywolywacz zmienia sie rów¬ niez w poszczególnych miejscach na powierzchni arkusza doprowadzajacego. Stosunkowo elastyczne podloze pozadane jest wówczas, gdy arkusze do¬ prowadzajace dostarczane sa w postaci zwoju, lub 65 gdy arkusz doprowadzajacy, przechodzac przez ma-79433 11 12 szyne do kopiowania lub powielania musi wedro¬ wac kreta droga. Sztywnosc i odpornosc na od¬ ksztalcenia podloza doprowadzajacego winna w uprzywilejowanych wyrobach byc dostateczna, aby zapobiegac znacznemu zwisaniu podloza doprowa¬ dzajacego miedzy czastkami dystansowymi i unie¬ mozliwic niepozadane przenikanie w czasie proce¬ su wywolywania czastki dystansowej do arkusza podloza, Typowe materialy wykazujace dostatecz¬ na wytrzymalosc dla podtrzymania warstwy wy¬ wolywacza obejmuja papier, tereftalan polietyleno¬ wy, aluminium, Tedlar, acetat celulozowy, gladzone papiery, folie aluminiowa, tkaniny poliolefinowe i temu podobne.Warstwe wywolywacza mozna nanosic na podlo¬ ze donorowe dowolna metoda, taka jak spryskiwa¬ nie, powlekanie przez odlewanie, powlekanie zanu¬ rzeniowe, powlekanie przez wytlaczanie, powleka¬ nie przez przeciaganie preta, powlekanie kalandro- waniem, powlekanie przez stapianie na goraco,.po¬ wlekanie w roztworze, powlekanie grawiurowe i te- "mu podobne. Zadawalajace wyniki uzyskuje sie gdy warstwa wywolywacza wlacznie z warstwa stalego rozpuszczalnika, jezeli jest taki stosowany, posiada grubosc od okolo 2 do okolo 30 mikronów.Uprzywilejowana jest warstwa lub warstwy o gru¬ bosci 5 do 10 mikronów, albowiem uzyskuje sie przy ich stosowaniu duza gestosc obrazów i szyb¬ kie tempo wywolywania.Srodek do wywolywania wedlug niniejszego wy¬ nalazku mozna stosowac dla wywolywania utajo¬ nych obrazów elektrostatycznych, znajdujacych sie na dowolnej odpowiedniej powierzchni, wlaczajac powierzchnie warstw przewodzacych fotoelektrycz¬ nosc. Warstwy przewodzace fotoelektrycznosc moga obejmowac warstwy hemogeniczne, organiczne lub nieorganiczne przewodniki fotoelektrycznosci, osa¬ dzone w podlozu nieprzewodzacym fotoelektrycz¬ nosc lub temu podobne. Typowe swiatloczule ma¬ terialy obejmuja szklisty selen, szklisty selen w sto¬ pie z arsenem, siarczek kadmu, tlenek cynku, se- lenek sulfonowy kadmu „Watchung Red B", postac alfa wolnej od metali ftalocyJaniny, postac „x" wolnej od metali ftalocyJaniny „Algol G.C." i te¬ mu podobne.Podane wyzej wyszczególnienie materialów orga¬ nicznych i nieorganicznych stanowi ilustracje ty¬ powych materialów i nie powinno byc uwazane za kompletne wyszczególnienie materialów swiatloczu¬ lych. W tych wypadkach, gdy material swiatloczuly jest zmieszany ze srodkiem wiazacym, powinna uzyskana w ten sposób warstwa, nie posiadajaca ladunku, posiadac najkorzystniej wlasciwosci od¬ pychania wywolywacza, w celu uzyskania maksy¬ malnej wyrazistosci obrazu w warunkach, gdy okresy stykania sie warstwy doprowadzajacej z warstwa obrazowa, sa wydluzone.Wedlug podanego wyzej okreslenia, uwaza sie powierzchnie za odpychajaca wywolywacz, jezeli wywolywacz biegunowy przeprowadzany w stan ciekly wykazuje tendencje do tworzenia raczej „kulek", „paciorków,, lub „kropelek" niz blonki lub powloki na powierzchni odpychajacej wywolywacz.Powierzchnie z utajonym obrazem, które nie dzia¬ laja odpychajaco na wywolywacz, moga byc stoso¬ wane gdy optymalny zarys obrazu powstajacego w warunkach przedluzonego stykania sie warstwy donorowej z warstwa obrazowa, posiada znaczenie drugorzedne. Typowe srodki wiazace dla materia- 5 lów przewodzacych fotoelektrycznosc obejmuja po¬ lichlorek winylu, polistyren, polimetakrylan metylu, acetat poliwinylu, zywice krzemowe i temu podob¬ ne. Jak to jest dobrze znane w tej dziedzinie sto¬ suje sie zwykle warstwy przewodzace fotoelektry- io cznosc z podlozem lub warstwa podtrzymujaca, które sa lepszymi przewodnikami niz przewodzaca fotoelektrycznosc warstwa izolujaca. Typowe przy¬ klady elektrostatytycznych powierzchni obrazo¬ wych opisane sa w podanych nizej przykladach. 15 Czastki dystansowe, wedlug niniejszego wyna¬ lazku, usytuowane sa w czasie wywolywania, mie¬ dzy powierzchnia donorowego podloza i powierzch¬ nia obrazowa. Czastki dystansowe moga zostac umieszczone na powierzchni podloza, na powierzch- 20 ni obrazowej lub na obydwóch z nich. Umieszcze¬ nie czastek odbywa sie przed zblizeniem plasz¬ czyzn podloza i obrazowej z zachowaniem pewne¬ go odstepu, do polozenia naprzeciw siebie, przy czym czastki dystansowe znajduja sie miedzy ty- 25 mi plaszczyznami Jezeli jest to pozadane mozna czastki dystansowe wprowadzac miedzy plaszczyzne podloza i plaszczyzne obrazowa wówczas, gdy po¬ wierzchnie te zostaja do siebie zblizone.Najkorzystniej jest gdy czastki dystansowe sa 30 luzno rozrzucone na powierzchni donorowego pod¬ loza lub powierzchni obrazowej. Czastki mozna na¬ nosic przy pomocy dowolnej odpowiedniej techniki, wlacznie z posypywaniem recznym lub przy po- - mocy lejka automatycznego. Równomierne rozmie- 35 szczenie czastek na powierzchni podloza lub obra¬ zowej w postaci warstwy jednoczasteczkowej, wspo¬ magane jest przez zastosowanie wzgledem powierz¬ chni, która ma byc pokryta, dzialania wibracyjne¬ go o wysokiej czestotliwosci. 40 Zamiast ukladania luzno utrzymanych czastek na powierzchni podloza donorowego mozna alternatyw¬ nie przymocowywac fizycznie czasteczki dystanso¬ we do arkusza doprowadzajacego w dowolny od¬ powiedni sposób, taki jak podgrzewanie warstwy 45 wywolywacza w celu umozliwienia, aby czastki dystansowe opadaly do wnetrza warstwy lub w ta¬ ki sposób, jak wciskanie czastek do warstwy za pomoca gladkiego walka. Konkretna przecietna srednica czastki dystansowej, zalezy ogólnie bio- so rac, od grubosci warstwy wywolywacza oraz war¬ stwy stalego rozpuszczalnika, jezeli jest on stoso^ wany. Zadawalajace wyniki uzyskuje sie przy . stosowaniu czastek dystansowych, które maja prze¬ cietnie srednice wieksze od okolo 5 do okolo 50 55 procent od grubosci warstwy wywolywacza i war¬ stwy stalego rozpuszczalnika, jezeli jest on stoso¬ wany.Pierwszenstwo w uzyciu maja jednak czastki dystansowe, których przecietne srednice sa okolo 60; 10 procent do okolo 20 procent wieksze od grubos¬ ci warstw wywolywacza i stalego rozpuszczalnika, albowiem uzyskuje sie przy ich stosowaniu, przy wiekszych predkosciach wywolywania, geste obrazy i minimum osadów na tle. Jezeli czastki dystansowe w zostaly osadzone w sposób przypadkowy na po-u 79433 1* wierzchni doprowadzajacej lub obrazowej, odstep miedzy sasiednimi czastkami powinien byc dosta¬ tecznie maly, aby mozna bylo utrzymac w spo¬ sób odpowiedni pozadana wielkosc odstepu miedzy powierzchnia donorowa i powierzchnia obrazowa i zapobiec niepozadanemu zwisaniu lub ugieciu zarówno powierzchni donorowej jak i przewodnika fotoelektrycznosci.Ugiecie lub zwisanie arkusza donorowego i/lub arkusza obrazowego, miedzy sasiadujacymi czastka¬ mi dystansowymi, winno byc nieznaczne w porów¬ naniu z wymiarami czastek dystansowych. Warstwy donorowego podloza lub warstwy przewodnika fo¬ toelektrycznosci umieszczone na bardzo elastycz¬ nych pdkladkach, wymagaja zwykle istnienia wiek¬ szej ilosci czastek dystansowych w celu zapewnie¬ nia odpowiedniego podparcia, niz sztywne warstwy donorowego podloza lub przewodzace fotoelektrycz- nosc. Stopien podparcia, jaki stwarzaja czastki dystansowe, zmienia sie oczywiscie w zaleznosci od innych czynników, takich jak porowatosc dono¬ rowej warstwy podloza, srednica czastki dystanso¬ wej i grubosc warstwy wywolywacza. Dobre geste obrazy uzyskuje sie przy uzyciu jednoczasteczkowej warstwy czasteczek dystansowych, w której wiek¬ szosc czastek styka sie wzajemnie ze soba. Zada¬ walajace obrazy uzyskuje sie przy srednich odste¬ pach miedzy sasiednimi czasteczkami, dochodza¬ cych do okolo 2000 mikronów.Przy uzyciu przewodzacych fotoelektrycznosc ar¬ kuszy obrazowych z arkuszami podloza i czastka¬ mi dystansowymi wedlug niniejszego wynalazku, mozna arkusze obrazowe przed wywolaniem nala¬ dowac i naswietlic w sposób konwencjonalny. W tych wypadkach, gdy warstwa przewodzaca foto¬ elektrycznosc podparta jest na przewodzacym pod¬ lozu, takim jak plyty folii metalowej lub blony polimerowe, posiadajace przewodzaca powloke, moz¬ na przeprowadzic równomierne naladowanie elek¬ trostatyczne przy pomocy na przyklad wyladowan ulotowych.Na powierzchnie obrazowa samonosnych warstw przewodzacych fotoelektrycznosc, mozna doprowa¬ dzic równomierny ladunek elektrostatyczny do¬ wolnym dobrze znanym sposobem, takim jak tech¬ nika ladowania podwójnymi wyladowaniami uloto- wymi. Przewodzaca fotoelektrycznosc naladowana powierzchnie obrazowa mozna wyladowac w konfi¬ guracji obrazu przez naswietlenie dowolnym kon¬ wencjonalnym urzadzeniem. Jezeli jest to pozadane, mozna na powierzchni obrazowej, wytworzyc uta¬ jony obraz elektrostatyczny przez zastosowanie in¬ nych technik dobrze znanych w tej branzy.Przeprowadzanie w stan ciekly warstw wywoly¬ waczy termoplastycznych, polaczonych z substan¬ cja stalego rozpuszczalnika mozna wykonac stosu¬ jac dowolna odpowiednia technike ogrzewania, wlacznie z przewodzeniem ciepla, promieniowa¬ niem ciepla, promieniowaniem lub kombinacja tych sposobów.Przykladowo mozna, dla przeprowadzenia wy¬ wolywacza w stan ciekly, stosowac ogrzewany wa¬ lek, ogrzewana plyte dociskowa, piec lub lampe podczerwieni. Stosowanie energii cieplnej przez promienie podczerwieni, które dzialaja poprzez przezroczysta powierzchnie obrazowa i/lub prze¬ zroczyste podloze doprowadzajace, powoduje szcze¬ gólnie skuteczne przeprowadzanie w stan ciekly, silnie barwionych warstw wywolywaczy. Jezeli sto- 5 suje sie plynny rozpuszczalnik dla przeprowadze¬ nia warstwy wywolywacza w stan ciekly za pomoca lub bez pomocy energii cieplnej, wówczas rozpusz¬ czalnik zostaje najkorzystniej doprowadzony w po¬ staci mgly lub pary, albowiem uzyskuje sie przez to io lepsza kontrole ostatecznej grubosci warstwy wy¬ wolywacza. Jezeli czastki dystansowe zostaja do¬ prowadzone do powierzchni warstwy wywolywacza przed przeprowadzeniem jest w stan ciekly, zmniej¬ sza sie poza tym prawdopodobienstwo usuniecia 15 czastek, gdy stosowana jest raczej mgla lub para rozpuszczalnika, niz rozpuszczalnik w plynnej masie.Jednakze w wypadku, gdy warstwa rozpuszczalni¬ ka zostala przeprowadzona w stan ciekly po do¬ prowadzeniu czastek dystansowych mozna stosowac 20 rozpuszczalnik w plynnej masie, który mozna do¬ prowadzac przy zastosowaniu dowolnych odpowied¬ nich sposobów, takich jak powlekanie przez pole¬ wanie, powlekanie, przez walkowanie, powlekanie zanurzeniowe i temu podobne. 25 Powierzchnie, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, mozna w dowolny odpo¬ wiedni sposób zblizyc do polozenia w zasadzie równoleglego i przylegajacego do warstwy wywo¬ lywacza biegunowego, nie dopuszczajac do ich zet- 30 kniecia. Zabieg wywolywania powierzchni obrazo¬ wej moze byc dokonany przez umieszczenie calej powierzchni, na której znajduje sie utajony obraz w polozeniu przylegajacym do warstwy wywolywa¬ cza, na przyklad tworzac warstwe czastek dystan- 35 sowych miedzy plaskim arkuszem obrazowym i pla¬ ska warstwa wywolawcza, podparta na plaskim ar¬ kuszu donorowego podloza, lub umieszczajac po¬ stepujaco dodatkowe czesci powierzchni obrazo¬ wej w bezposredniej bliskosci do czesci warstwy 40 wywolywacza.W obydwóch wypadkach nalezy stosowac do¬ stateczny nacisk, aby czastki dystansowe mogly w sposób skuteczny utrzymac równolegle wza¬ jemne polozenie powierzchni obrazowej i podloza 45 doprowadzajacego, przy czym wielkosc odstepu winna byc w zasadzie równa przecietnej srednicy dystansowej czastek dystansowych. Nalezy unikac nadmiernego nacisku, albowiem moze wystapic zna¬ czniejsze odksztalcenie czastek dystansowych lub 50 przenikanie czastek dystansowych ponizej po¬ wierzchni obrazowej i/lub powierzchni arkusza do¬ norowego.Uzyskuje sie zadawalajace tworzenie obrazów, gdy róznica potencjalów miedzy obszarem utajone- 55 go obrazu i obszarem tla wynosi okolo 300 V.Zwiekszenie róznicy potencjalów na ogól poprawia gestosc i wyrazistosc obrazu. W celu usprawnienia przebiegu wywolywania pod wplywem elektrosta¬ tycznego przyciagania biegunowego wywolywacza, 60 który znajduje sie na podlozu doprowadzajacym do powierzchni, na której znajduje sie obraz, przy czym przyciaganie odbywa sie wedlug konfiguracji obrazu, mozna przewodzacemu wywolywaczowi lub podlozu doprowadzajacemu, jezeli jest ono przewo- 65 dzace, nadac napiecie poczatkowe odpowiadajace79433 15 16 dowolnemu pozadanemu potencjalowi, wlaczajac potencjal uziemienia, przez polaczenie ze zródlem potencjalu.Przy takim polaczeniu elektrycznym ladunki ob¬ razu, znajdujacego sie na powierzchni obrazowej wzbudzaja, wskutek przewodnosci, przez przewo¬ dzacy wywolywacz i podloze doprowadzajace, jezeli jest ono przewodzace, ladunki, które posiadaja prze¬ cietna biegunowosc niz ladunki znajdujace sie na powierzchni obrazowej. W ten sposób, w wypadku, gdy przewodzacy wywolywacz lub, podloze dopro¬ wadzajace, jezeli jest ono przewodzace, jest uzie¬ miona a obszary na powierzchni obrazowej posia¬ daja ladunki dodatnie, zostaje poprzez podloze do¬ prowadzajace w przewodzacym wywolywaczu wzbudzony odpowiedni ladunek ujemny, na tych obszarach, które sa usytuowane przylegajaco do obszarów posiadajacych ladunki dodatnie.Wskutek tego zostaje utworzone pole pomiedzy wywolywaczem 1 ladunkiem na powierzchni obrazo¬ wej. Na tych obszarach wywolywacza, które odpc+- wiadaja obszarom powierzchni obrazowej, które w zasadzie pozbawione sa ladunków, nie istnieje przyciagajace pole elektryczne, które mogloby spo¬ wodowac wedrówke 'wywolywacza przeprowadzone¬ go *w stan ciekly, do powierzchni obrazowej, na której znajduje sie obraz. Dlatego tez wywolywanie wystepuje tylko na obszarach naladowanych, wów¬ czas -gc^ przewodzacy wywolywacz lub przewo¬ dzace pódteie doprowadzajace jest uziemione lub polaczone z niskim potencjalem, którego poziom odpowiada na. ogól w przyblizeniu poziomowi po¬ tencjalu nienaladowanych lub w zasadzie nienala- dbwanye* obszarów powierzchni obrazowej.Wobec tego, ze mechanizm wywolywania, zgod¬ ny z niniejszym wynalazkiem, nie jest wrazliwy na biegunowosc, bedzie wywolywanie odbywac sie na obszarach naladowanych w sposób wyzej opi¬ sany, bez wzgledu na to czy obszary naladowane wykazywaly beda ujemna czy tez dodatnia biegu- * nowosc. W ten sposób zostaja ladunki dodatnie Wzbudzone w obszarach wywolywacza, które odpo¬ wiadaja obszarom ujemnie naladowanym, znajdu¬ jacym sie na powierzchni obrazowej i powstale W rezultacie pole powoduje, ze wywolywacz we¬ druje po powierzchni obrazowej i osadza sie na niej w konfiguracji obrazu.Mozna wywolywac obszary nie naladowane, do¬ prowadzajac do przewodzacego wywolywacza lub przewodzacego podloza doprowadzajacego, poten¬ cjal o tej samej biegunowosci i posiadajacy w przyblizeniu ten sam poziom, jaki posiadaja ob¬ szary naladowane na powierzchni obrazowej. Przy tym rozwiazaniu bedzie istnialo pole miedzy nie- naladowanymi obszarami na powierzchni obrazowej i miedzy warstwa wywolywacza, nie bedzie nato¬ miast istnialo pole miedzy naladowanymi obsza¬ rami na powierzchni obrazowej i odpowiednimi ob¬ szarami w warstwie wywolywacza.Totez wywolywacz nie bedzie przyciagany do naladowanych obszarów na powierzchni obrazowej.Jednak w obszarach, które w zasadzie nie posia¬ daja ladunków, zostana wzbudzone ladunki w war¬ stwie wywolywacza i przewodzacym podlozu blon- ki utajonego obrazu, w wyniku czego powstaja elektryczne pola sil, które spowoduja osiadanie wywolywacza na nienaladowanych obszarach po¬ wierzchni obrazowej.Przykladowo, mozna doprowadzic potencjal 5 o wielkosci okolo 200 V do przewodzace) warstwy wywolywacza, tam gdzie zachodzi potrzeba wywo¬ lywania obszarów w zasadzie nienaladowanych lub posiadajacych potencjal rzedu 10 V. W praktyce pozadanym jest na ogól nadanie niewielkiego na- 10 piecia w celu przezwyciezenia przylepiania sie ma¬ terialu wywolywacza do elementu donorowego i za¬ pewnienia wysokiej Jakosci osiadania wywolywa¬ cza, bez wystepowania tla. Dlatego tez stosujac potencjal doprowadzany do przewodzacej warstwy 15 wywolywacza lub do przewodzacego donorowego podloza doprowadzajacego, pozadanym jest zastoso¬ wac róznice potencjalów wynoszaca od okolo 30 do okolo 50 V.Dla wywolania na przyklad rozladowanych ob- 30 szarow powierzchni obrazowej, na której znajduja sie obszary naladowane, posiadajace potencjal oko¬ lo 450 V, nadaje sie przewodzacemu wywolaczowi lub przewodzacemu donorowemu podlozu doprowa¬ dzajacemu, potencjal wynoszacy okolo 500 V. 25 Ten dodatkowy potencjal nadany warstwie wy¬ wolywacza lub podlozu doprowadzajacemu, jezeli jest^ono przewodzace, stwarza silniejsze pole, wply¬ wajace na ruchy i osiadanie wywolywacza, prze¬ prowadzonego w stan ciekly. Podobnie jest rzecza 30 pozadana nadac ujemny -potencjal, wynoszacy oko¬ lo 30 do 50 V przewodzacemu wywolywaczowi lub przewodzacemu podlozu doprowadzajacemu, gdy odbywa sie wywolywanie obszarów naladowanych, które posiadaja obszary tla, wykazujace szczatkowe 35 ladunki dodatnie wynoszace przykladowo okolo 5 V.-¦ W wypadkach, gdy zamierza sie stosowac silnie przewodzace materialy wywolywacza, przyprowa¬ dzonego w stan ciekly, nie zachodzi potrzeba sto¬ sowania zewnetrznego zródla potencjalu dla na- 40 dania poczatkowego napiecia warstwie wywoly¬ wacza. W ten sposób mozna przewodzaca warstwe wywolywacza uwazac za samonastawcza elektrycz- • nie. Jednak osiadanie wywolywacza na obszarach tla koncowej odbitki i zaleznosc od stosunku ob- 43 szarów naladowanych, które wystepuja w utajo¬ nych obrazach sprawia, ze uzycie warstw wywo¬ lywacza nie wykazujacych napiecia poczatkowego jest mniej pozadane niz rozwiazanie, w którym nadaje sie przewodzacej warstwie wywolywacza 50 lub przewodzacemu podlozu doprowadzajacemu, potencjal o kontrolowanej wielkosci Czasokres potrzebny na wywolanie powierzchni, na której umieszczony jest utajony obraz elektro¬ statyczny, wzrasta na ogól ze zródlem lepkosci 55 i napiecia powierzchniowego wywolywacza prze¬ prowadzonego w stan ciekly. W wypadkach, gdy stosuje sie wywolywacze przeprowadzone w stan ciekly, które wykazuja stosunkowo duze napiecie powierzchniowe i gdy pozadane jest skrócenie cza- 60 su wywolywania mozna uzyskac skrócenie czasu wywolywania przez zmniejszenie przecietnej srednicy czastek dystansowych i/lub przez zmniej¬ szenie lepkosci wywolywacza znajdujacego sie w stanie cieklym i/lub przez zwiekszenie elektrycz- 65 nego napiecia poczatkowego na warstwie wywoly-17 7*439 1« wacza lub przewodzacym podlozu doprowadzaj^- -cym, aby wzmóc przez to wedrówke wywolywacza do plaszczyzny obrazowej.Dopuszczalny jest znaczny zakres wielkosci na¬ piecia powierzchniowego wywolywaczy przeprowa¬ dzonych w stan ciekly. Zadawalajace wyniki uzy¬ skuje sie przy stosowaniu wywolywaczy, które po¬ siadaja napiecie powierzchniowe w zakresie poni¬ zej xkolo 80 dyn/cm.Jak wyzej opisano, wywolywacze sluzace do wy¬ wolywania w stanie cieklym w sposób konwencjo¬ nalny zawieraja czastki znakujace, zawieszone W. izolujacej cieczy nosnej lub izolujacym topli- wym osrodku nosnym. Izolujace podloze potrzebne jest w celu zapobiezenia uszkodzenia utajonego obrazu elektrostatycznego i umozliwienia utrzyma¬ nia trwalosci pola w wywolywaczu dla spowodo¬ wania dzialania sil na czastki znakujace.Wywolywanie obrazu odbywa sie wskutek we¬ drówki zawieszonych czastek znakujacych przez plynny nosnik do utajonego obrazu elektrosta¬ tycznego. Ostateczny wywolany obraz sklada sie glównie z czastek znakujacych, które przewedro¬ waly do utajonego obrazu. W odróznieniu od kon¬ wencjonalnych sposobów wywolywania w stanie cieklym, wywolywacz wedlug niniejszego wyna¬ lazku, bedacy normalnie cialem stalym, po prze¬ prowadzeniu w stan ciekly, jest przewodnikiem elektrycznosci i ostateczny wywolany obraz za¬ wiera czesc substancji przeprowadzonej w stan ciekly, jak i czastki znakujace, jezeli czastki zna¬ kujace sa stosowane.Przy stosowaniu samoutrwalajacego wywolywa¬ cza wedlug niniejszego wynalazku unika sie po¬ nadto koniecznosci stosowania dodatkowego za¬ biegu utrwalania obrazu, który byl wymagany w dawniejszych sposobach pracy. W ten sposób zostaja przy stosowaniu sposobu wywolywania wedlug niniejszego wynalazku wyeliminowane w zasadzie liczne niekorzystne zjawiska, które sa nierozlacznie zwiazane z dawniejszymi sposobami stosowanymi w tej dziedzinie, takie jak rozplywa¬ cie sie wywolywacza, osadzanie sie znajdujacych sie w zawiesinie czastek znakujacych, wyczerpywa¬ nie sie czastek znakujacych, usuwanie izolujacych cieczy nosnych z powierzchni obrazowej i temu po¬ dobne.Dzieki uzyciu czastek dystansowych wedlug ni¬ niejszego wynalazku, staja sie poza tym zbedne skomplikowane, precyzyjne przyrzady nanoszace wywolywacz, które byly potrzebne przy stosowa¬ nych dawniejszych sposobach wywolywania w sta¬ nie cieklym.Nastepujace przyklady okreslaja dodatkowo, opi¬ suja i porównuja przykladowe sposoby przygoto¬ wania skladników dla procesu wywolywania we¬ dlug niniejszego wynalazku i uzyciu ich w proce¬ sie wywolywania. Czesci i procenty podane sa w stosunku wagowym, chyba ze zostalo odmiennie zaznaczone. Podane przyklady, wylaczajac przy¬ klady kontrolne, maja równiez objasniac rózne ko¬ rzystne rozwiazania wedlug niniejszego wynalazku.Procesy podane ponizej w przykladach I—XIII zostaly przeprowadzone z zastosowaniem donoro- l* 15 stwe wywolywacza, dajacego sie przeprowadzic w stan ciekly, która naniesiono przy pomocy preta wykonanego ze splecionych drutów.Elektrofotograficzne plyty okladzinowe, uzyte w przykladach sa albo arkuszami papieru lub tasmami powleczonymi przewodzaca fotoelektrycz- nosc izolujaca warstwa formaldehydu tlenku cynku i melaminy, -lub warstwa tlenku cynku i zywicy krzemowej, lub arkuszami mosiadzu z powloka z selenu bezpostaciowego. Wszystkie wywolywacze biegunowe nadajace sie do przeprowadzenia w stan ciekly, posiadaja lepkosc ponizej okolo 104 pauzów, napiecie powierzchniowe mniejsze niz okolo 80 dyn/jem i przewodnosc wlasciwa mniejsza niz okolo 10" om-cm.'Przyklad I. Arkusz gladzonego podloza do¬ prowadzajacego obejmujacy folie aluminiowa o gru¬ bosci okolo 0,11 mm powleczony jest przewodzaca warstwa wywolywacza o grubosci okolo 8 mikro¬ nów i zawierajaca glikol polietylenowy (3 czesci „Carbowax" 1500 z 6 czesciami „Carbowax" 6000, „Union Carbide Corporation") zabarwiony okolo 0,25 czesciami fioletu krystalicznego, rozcienczonego w 25 czesciach alkoholu metylowego, liczac wago¬ wo w odniesieniu do lacznego ciezaru warstwy wywolywacza. Czastki dystansowe obejmujace we¬ glan wapnia powleczony stearynianem cynku, które posiadaja przecietna srednice dystansowa wyno¬ szaca okolo 10 mikronów, zostaly doprowadzone do powierzchni warstwy wywolywacza, tworzac przecietne odstepy miedzy sasiednimi czastkami dy¬ stansowymi, wynoszace okolo 25 mikronów. Po¬ wierzchnia obrazowa plyty okladzinowej z tlenku cynku, zostaje nastepnie naladowana przy pomocy wyladowan ulotowych do osiagniecia potencjalu ujemnego, wynoszacego okolo 350 do 450 V i na¬ swietlona przez obraz zawierajacy swiatla i cienie, w celu utworzenia utajonego obrazu elektrosta¬ tycznego. Powierzchnia, na której znajduje sie uta¬ jony obraz elektrostatyczny zostaje nastepnie umieszczona w poblizu i równolegle do powleczonej powierzchni donorowego podloza, która jest po¬ kryta czastkami dystansowymi. Uzyskana w ten sposób przekladka warstw zostaje nastepnie umiesz¬ czona pod niewielkim naciskiem miedzy metalo¬ wymi plytami dociskowymi ogrzanymi do tempera¬ tury okolo 66°C. Po uplywie 5 sekund przekladka warstw zostaje usunieta, a podloze doprowadzajace zostaje niezwlocznie oddzielone od powierzchni 50 obrazowej. Po ochlodzeniu otrzymuje sie utrwa¬ lony gesty obraz o wyraznych zarysach, bez sto¬ sowania dodatkowego zabiegu utrwalania.Przyklad II. Wykonuje sie przebieg kontrol¬ ny, stosujac w zasadzie te same materialy i za- 55 biegi, jak w przykladzie I, z ta róznica, ze zo¬ staje pominiete zastosowanie czastek dystansowych.Po oddzieleniu stwierdza sie, ze na powierzchni obrazowej znajduje sie obraz, który mozna roz¬ poznac z trudnoscia, wskutek istnienia na tle obra¬ zu znacznych osadów wywolywacza.Przyklad III. Arkusz donorowego podloza sklada sie z gladzonego papieru o grubosci 0,075 mm powleczonego warstwa przewodzacego wywo¬ lywacza o grubosci okolo 18 mikronów i zawiera 25 30 35 40 45 60 wego podloza doprowadzajacego, unoszacego war- *9 wosk Karnaujja, barwiony przy pomocy 0,35 czesci19 70433 Fioletu Metylu, liczac wagowo w stosunku do lacz¬ nego ciezaru warstwy wywolywacza. Czastki dy¬ stansowe zawierajace proszek krzemowy, które po¬ siadaja przecietna srednice dystansowa wynoszaca okolo 20 mikronów, zostaja naniesione na po¬ wierzchnie warstwy wywolywacza, dla stworzenia przecietnego odstepu dystansowego miedzy sa¬ siednimi czastkami dystansowymi, wynoszacego okolo 35 mikronów.Nastepnie powierzchnia obrazowa, utworzona z plyty okladzinowej z tlenku cynku zostaje nala¬ dowana przy pomocy wyladowan ulotowych do osiagniecia ujemnego potencjalu okolo 400 V i na¬ swietlona przez obraz zawierajacy swiatla i cienie w celu utworzenia utajonego obrazu elektrosta¬ tycznego. Powierzchnia obrazowa, na której znaj¬ duje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona przylegle i równolegle do powierzchni doborowego podloza pokrytej cza¬ stkami dystansowymi. Uzyskana w ten sposób prze¬ kladke warstw umieszcza sie nastepnie z lekkim dociskiem miedzy metalowymi plytami docisko¬ wymi, ogrzanymi do temperatury okolo 88°C. Po uplywie okolo 1 sekundy przekladka zostaje usu¬ nieta, a podloze doprowadzajace zostaje niezwlocz¬ nie oddzielone od powierzchni obrazowej. Po ochlo¬ dzeniu uzyskuje sie utrwalony gesty obraz dobrej jakosci, bez stosowania dodatkowego zabiegu utrwa¬ lania.Przy klad IV. Wykonany zostaje przebieg kon¬ trolny z zastosowaniem zasadniczo tych samych materialów i zabiegów, które podano w przykla¬ dzie III, z ta róznica, ze zostaje pominiete zasto- sowanfe czastek dystansowych. Po oddzieleniu stwierdza sie, ze na powierzchni obrazowej znaj¬ duje sie obraz, który mozna rozpoznac z wielka trudnoscia, ze wzgledu na wystepowanie na po¬ wierzchni tla znacznych osadów wywolywacza.Przyklad V. Arkusz donorowego podloza skladajacy sie z papieru przewodzacego „Riegl" o grubosci okolo 0,076 mm, powleczony jest war¬ stwa przewodzacego wywolywacza o grubosci okolo 15 mikronów, który zawiera wosk parafinowy Su¬ noco 5460 produkcji Sun Oil Company zabarwiony przy pomocy 0,05 czesci ftalocyjaniny, liczac wa¬ gowo w stosunku do lacznego ciezaru warstwy wy¬ wolywacza. Czastki dystansowe obejmujace pro¬ szek krzemowy, które maja przecietna srednice dystansowa wynoszaca okolo 20 mikronów, zostaja naniesione na powierzchnie warstwy wywolywacza, w celu stworzenia przecietnej odleglosci odstepów miedzy sasiednimi czastkami, wynoszacej okolo 50 mikronów. Powierzchnia obrazowa, przewodzacej fotoelektrycznosc plyty okladzinowej, zostaje na¬ stepnie naladowana przy pomocy wyladowan ulo¬ towych, do osiagniecia potencjalu ujemnego wy¬ noszacego okolo 350—400 V i naswietlona przez obraz zawierajacy swiatla i cienie, dla utworzenia utajonego obrazu elektrostatycznego.Powierzchnia obrazowa, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona w sasiedztwie i równolegle do po¬ wierzchni powleczonego arkusza podloza, która pokryta jest czastkami dystansowymi. Uzyskana w ten sposób przekladka warstw, zostaje nastepnie umieszczona z lekkim naciskiem miedzy metalo¬ wymi plytami dociskowymi, ogrzanymi do tempe¬ ratury okolo 76,5°C. Po uplywie okolo 2-ch sekund przekladka zostaje usunieta, a podloze zostaje nie- 5 zwlocznie oddzielone od powierzchni obrazowej.Po ochlodzeniu otrzymuje sie utrwalony,, gesty obraz, który posiada dobry zarys, bez dodatkowego zabiegu utrwalania.Przyklad VI. Proces opisany w przykladzie V io zostaje powtórzony przy zastosowaniu zasadniczo identycznych materialów z ta róznica, ze czastki dystansowe zostaly wglebione przez kalandrowanie do warstwy wywolywacza lecz nie wchodza w ar¬ kusz podloza. Zabieg kalandrowania zostaje zasto- w sowany w celu wyeliminowania wystepowania luz¬ nych czastek w czasie transportu, skladowania i nastepnego uzycia w procesie wywolywania. Ob¬ razy uzyskane przy zastosowaniu opisanej wyzej warstwy doprowadzajacej sa w zasadzie identyczne 20 z obrazami uzyskanymi przy stosowaniu sposobu opisanego w przykladzie V.Przyklad VII. Arkusz donorowego podloza z folii aluminiowej o grubosci okolo 0,1 mm jest powleczony warstwa przewodzacego wywolywacza 25 o grubosci okolo 10 mikronów i zawierajacego gli¬ kol polietylenu Carbowax 1500 produkcji Union Carbide Corporation — zabarwiony przy pomocy okolo 0,02 czesci nigrozyny, liczac wagowo w sto¬ sunku do lacznego ciezaru warstwy wywolywacza. 30 Czastki dystansowe obejmujace kulki polietylenu posiadajace przecietna srednice dystansowa wyno¬ szaca okolo 18 mikronów, zostaja naniesione na powierzchnie warstwy wywolywacza w celu stwo¬ rzenia przecietnej odleglosci dystansowej miedzy 35 sasiednimi czastkami, wynoszacej okolo 30 mi¬ kronów.Dzialajaca odpychajaco na wywolywacz po¬ wierzchnia obrazowa, wykonana z przewodzacej fotoelektrycznosc plyty okladzinowej z tlenku 40 cynku, w której okladke stanowi zywica siliko¬ nowa, zostaje nastepnie przy pomocy wyladowan ulotowych naladowana do osiagniecia ujemnego okolo 400 V i naswietlona przez obraz posiadajacy swiatla i cienie, w celu utworzenia utajonego obra- 45 zu elektrostatycznego. Powierzchnia obrazowa, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona w poblizu i równo¬ legle do powierzchni powleczonego arkusza dono¬ rowego podloza, pokrytego czastkami dystanso- 50 wymi. Uzyskana w ten sposób przekladka warstw zostaje nastepnie umieszczona miedzy ogrzanymi do temperatury okolo 71°C metalowymi plytami dociskowymi, przy czym warstwie wywolywacza nadaje sie napiecie poczatkowe wynoszace okolo 55 40 V. Po uplywie okolo 2-ch sekund zostaje prze¬ kladka usunieta, a podloze doprowadzajace zostaje niezwlocznie oddzielone od arkusza obrazowego. Po ochlodzeniu otrzymuje sie utrwalony obraz, bez stosowania dodatkowego zabiegu utrwalania. 60 Przyklad VIII. Arkusz podloza donorowego, obejmujacy folie aluminiowa o grubosci 0,127 mm powleczony jest warstwa przewodzacego wywoly¬ wacza, majaca grubosc okolo 10 mikronów i zawie¬ rajaca glikol polietylenowy, barwiony przy pomocy 05 0,25 czesci Fioletu Metylowego, liczac wagowo I21 79433 it w stosunku do lacznego ciezaru warstwy wywo¬ lywacza. Czastki dystansowe, obejmujace czastki piasku powleczone olejem dwumetylo-polisiloksa- nowym, które posiadaja po zabiegu powlekania przecietna srednice dystansowa, wynoszaca 12 mi- '• kronów, zostaja naniesione na powierzchnie war¬ stwy wywolywacza w celu utworzenia przecietnego odstepu dystansowego miedzy sasiednimi czastkami dystansowymi, wynoszacego okolo 40 mikronów.Odpychajaca wywolywacz powierzchnia przewo- 10 dzacej fotoelektrycznosc plyty okladzinowej z tlen¬ ku cynku, w której okladzine stanowi zywica si¬ likonowa, zostaje nastepnie naladowana przy po¬ mocy wyladowan ulotowych, do osiagniecia poten¬ cjalu ujemnego okolo 450 V i naswietlona przdz 15 obraz zawierajacy swiatla i cienie dla utworzenia utajonego obrazu elektrostatycznego.Powierzchnia obrazowa, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie M umieszczona w poblizu i równolegle do powierzchni podloza donorowego, która jest pokryta czastkami dystansowymi. Uzyskana w ten sposób przekladka warstw zostaje nastepnie umieszczona miedzy meta¬ lowymi plytami dociskowymi, ogrzanymi do tern- ^ peratury okolo 76,5°C. Po uplywie okolo 1 sekundy zostaje przekladka usunieta dla umozliwienia osty¬ gniecia. Podloze doprowadzajace zostaje nastepnie oddzielone od arkusza obrazowego w celu dostar¬ czenia utrwalonego, gestego obrazu, bez dodatko- . wego zabiegu utrwalania.Przyklad IX. Arkusz donorowego podloza z folii aluminiowej o grubosci 0,127 mm, powle¬ czony jest pierwsza warstwa o grubosci okolo 3 mikrony i zawierajaca n-eikozan oraz barwiona 35 druga warstwe o grubosci okolo 15 mikronów i za¬ wierajaca wosk parafinowy, która zostala zabar¬ wiona przy pomocy okolo 0,05 czesci ftalocyja- ninyT liczac wagowo w stosunku do lacznego cie¬ zaru warstwy stalego rozpuszczalnika i barwionej 40 drugiej warstwy przewodzacej. Czastki dystansowe zawierajace proszek krzemowy o przecietnej sred¬ nicy dystansowej okolo 20 mikronów, zostaja na¬ niesione na powierzchnie obrazowa, która dziala odpychajaco na wywolywacz, na której znajduje 45 sie utajony obraz elektrostatyczny w celu utworze¬ nia przecietnej odleglosci odstepów miedzy sa¬ siednimi czastkami, wynoszacej okolo 50 mikronów.Powierzchnia warstwy wywolywacza zostaje na¬ stepnie umieszczona miedzy metalowymi plytami M dociskowymi. Metalowa plyta dociskowa przyle¬ gajaca do podloza donorowego jest podgrzana do temperatury okolo 65°C. Po uplywie okolo 5 se¬ kund przekladka zostaje usunieta i podloze dono- rpwe zostaje niezwlocznie oddzielone od powierz- 55 chni obrazowej. Po ochlodzeniu uzyskuje sie utrwa¬ lony obraz, stosunkowo wolny od osadów na tle, bez stosowania dodatkowego zabiegu utrwalania.Przyklad X. Przeprowadzony zostaje przebieg kontrolny z zastosowaniem w zasadzie tych samych materialów i zabiegów, które stosowano w przy¬ kladzie IX z wyjatkiem tego, ze zaniechano uzycia czastek dystansowych. Po oddzieleniu stwierdza sie, ze na powierzchni obrazowej znajduje sie obraz, który mozna rctepoznac z duza trudnoscia, ze wzgle¬ du na wystepowanie znacznych osadów wywoly¬ wacza na tle obrazu.Przyklad XI. Elektrycznie przewodzaca tasma podloza doprowadzajacego, obejmujaca folie alumi¬ niowa o grubosci okolo 8 mikronów, zawierajaca glikol polietylenowy barwiony fioletem krystalicz¬ nym w ilosci 0,25 czesci wagowo, liczne w sto¬ sunku do lacznego ciezaru warstwy wywolywacza.Czastki dystansowe, zawierajace weglan wapnia powleczony stearynianem cynku, które posiadaja przecietna srednice dystansowa o wielkosci okolo 10 mikronów, zostaja naniesione na powierzchnie wywolywacza, dla utworzenia przecietnego odstepu dystansowego miedzy sasiednimi czastkami dystan¬ sowymi o wielkosci okolo 25 mikronów. Powierz¬ chnia obrazowa warstwy okladzinowej z tlenku cynku, która obejmuje okladke z zywicy formal¬ dehydowej i podtrzymywana jest na przewodzacej tasmie za pomoca wyladowan ulotowych zostaje naladowana do osiagniecia ujemnego potencjalu o wielkosci okolo 400 V i naswietlona przez obraz, zawierajacy swiatla i cienie, w celu utworzenia utajonego obrazu elektrostatycznego.Powierzchnia obrazowa, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona w sposób przylegajacy i równolegle do powierzchni powleczonego podloza donorowego, która pokryta jest czastkami dystansowymi. Uzy¬ skana przekladka warstw zostaje nastepnie wpro¬ wadzona miedzy dwa walki sciskajace, ogrzane do temperatury okolo 65°C.Walki sciskajace wywieraja na przekladke do¬ stateczny nacisk, w celu doprowadzenia powierz¬ chni wewnetrznych zarówno podloza donorowego jak i przewodzacej tasmy, w zasadzie do polozenia równoleglego i przylegajacego do siebie, przy czym powierzchnie te polozone sa wzgledem siebie w pewnym odstepie, który jest w przyblizeniu równy przecietnej srednicy czastek dystansowych.Do walków sciskajacych doprowadzone zostaje wstepne napiecie ujemne, wynoszace okolo 500 V, przy czym walki te stykaja sie z tasma podloza donorowego w czasie przejscia przekladki miedzy walkami. Po wywolaniu podloze donorowe zostaje sciagniete w przekladki warstw. Po ochlodzeniu do temperatury pokojowej uzyskuje sie utrwalony, gesty odwrócony obraz dobrej jakosci.Przyklad XII. Izolujaca tasma podloza do¬ prowadzajacego zawierajaca papier gladzony, jest powleczona warstwa przewodzacego wywolywacza o grubosci okolo 18 mikronów, która zawiera wosk Karnauba barwiony przy pomocy okolo 0,35 czesci Fioletu Metylowego, liczonych wagowo w stosunku do lacznego ciezaru warstwy wywolywacza.Czastki dystansowe, skladajace sie z czastek pro¬ szku krzemowego o przecietnej srednicy dystanso¬ wej, wynoszacej okolo 20 mikronów sa naniesione na powierzchnie warstwy wywolywacza w celu utworzenia przecietnej odleglosci odstepu pomie¬ dzy sasiednimi czastkami, wynoszacej okolo 35 mi¬ kronów. Powierzchnia obrazowa, odpychajaca wy¬ wolywacz, która tworzy tasma okladzinowa z tlen¬ ku cynku, przewodzaca fotoelektrycznosc, a w któ¬ rej materialem okladki jest zywica silikonowa i tasma podtrzymujaca papier przewodzacy, zo-< 10 15 to 25 30 35 40 45 50 55 60 /79433 23 staja nastepnie naladowane ladunkami ulotowymi, do osiagniecia potencjalu ujemnego, wynoszacego okolo 400 V i naswietlone przez obraz zawierajacy swiatla i cienie dla utworzenia utajonego obrazu elektrostatycznego. i5 Powierzchnia obrazowa, na której znajduje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona przylegle i równolegle do powierzchni powleczonego podloza donorowego, która jest po¬ kryta czastkami dystansowymi. Uzyskana w ten JO sposób przekladka zostaje nastepnie wprowadzona miedzy dwa walki sciskajace, podgrzane do tem¬ peratury okolo 88°C. Wobec tego, ze w konkretnej partii uzytych czastek dystansowych, wystepuje pewna niejednorodnosc wymiarów czastek, zostaje is zastosowany dostateczny nacisk walków na prze¬ kladke warstw, który powoduje wcisniecie wiek¬ szych czastek dystansowych ponizej powierzchni wewnetrznych zarówno podloza donorowego jak i przewodzacejtasmy. 20 Celem tego jest utworzenie odstepu miedzy wewnetrznymi powierzchniami zarówno podloza donorowego jak i przewodzacej tasmy o wielkosci równej w przyblizeniu pozadanej wielkosci odstepu, wynoszacej okolo 20 mikronów. 25 Przewodzaca tasma podtrzymujaca okladziny przewodzace fotoelektrycznosc oraz przewodzacy wywolywacz sa uziemione w czasie przejscia prze¬ kladki miedzy walkami. Po wywolaniu przekladka zostaje szybko ochlodzona wskutek stykania sie 30 z walkiem, który chlodzony jest od wewnatrz zimna woda. Podloze donorowe zostaje nastepnie sciagniete z przekladki warstw. Otrzymuje sie utrwalony obraz dobrej jakosci.Przyklad XIII. Przewodzaca tasma podloza: 35 donorowego skladajaca sie z folii aluminiowej o grubosci 0,1 mm powleczona jest warstwa prze¬ wodzacego wywolywacza o grubosci okolo 8 mi¬ kronów, która zawiera glikol polietylenowy, bar¬ wiony przy pomocy 0,25 czesci fioletu krystalicz- 40 nego, liczac wagowo w stosunku do lacznego cie¬ zaru warstwy wywolywacza.Czastki dystansowe, skladajace sie czastek we¬ glanu wapnia, powleczonych stearynianem cynku, które posiadaja przecietna srednice dystansowa, 45 wynoszaca okolo 10 mikronów, sa naniesione na powierzchnie warstwy wywolywacza, w celu utwo¬ rzenia przecietnej odleglosci odstepu miedzy sa¬ siednimi czastkami dystansowymi, wynoszacej okolo 25 mikronów. Warstwa wywolawcza, zostaje na- r-50 stepnie przeprowadzona w stan ciekly przez zet¬ kniecie niepowleczonej strony podloza donorowego z ogrzana plyta dociskowa, w celu umozliwienia, aby czastki dystansowe wniknely do warstwy wy¬ wolywacza, przeprowadzonego w stan ciekly. 55 Po wniknieciu czastek do warstwy wywolywacza, umozliwia sie ochlodzenie i zestalenie warstwy wywolywacza. Zabieg podgrzewania wykonuje sie celem zapobiezenia stratom luznych czastek dystan¬ sowych w czasie transportu, skladowania i pózniej- - 60 szego manipulowania skladnikiem do wywolywania w czasie procesu wywolywania. Warstwa obrazowa, odpychajaca wywolywacz zawierajaca bezposta¬ ciowy selen, podtrzymywana na arkuszu brazu, zostaje nastepnie naladowana za pomoca ladun- w ków ulotowych, do osiagniecia potencjalu dodat¬ niego, wynoszacego okolo 700 V.Naladowana powierzchnia obrazowa, zostaje na¬ stepnie umieszczona w poblizu elektrycznej lampy promieniowej i zostaje naswietlona przez obraz zlozony ze swiatel i cieni, elektronowa lampe pro¬ mieniowa dla utworzenia utajonego obrazu elektro¬ statycznego. Powierzchnia obrazowa, na której znaj¬ duje sie utajony obraz elektrostatyczny, zostaje nastepnie umieszczona równolegle w poblizu war¬ stwy wywolywacza. Uzyskana w ten sposób prze¬ kladka warstw, zostaje wprowadzona miedzy dwa walki sciskajace, podgrzane do okolo 65°C. Walki wywieraja dostateczny nacisk na przekladke warstw, aby doprowadzic wewnetrzne powierzchnie zarówno podloza jak i tasmy okladzinowej w polozenie za¬ sadniczo równolegle i przylegle, lecz umieszczajace je w pewnym od siebie odstepie,, równym w przy¬ blizeniu przecietnej srednicy dystansowej.Walek sciskajacy który styka sie z przewodza¬ cym podlozem doprowadzajacym, polaczony jest za posrednictwem potencjalu poprzez baterie z prze¬ wodzaca tesma, która podtrzymuje warstwe obra¬ zowa, w celu utworzenia wstepnego napiecia do¬ datniego, wynoszacego okolo 700 V. To napiecie elektryczne zostaje utrzymane w czasie przejscia przekladki miedzy walkami. Po wywolaniu podloze doprowadzajace zostaje sciagniete z przekladki. Po ochlodzeniu do temperatury pokojowej, otrzymuje sie obraz dobrej jakosci na pozbawionych ladunku obszarach odbiornika fotografii. PL PL PL PL PL

Claims (14)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Srodek do wywolywania obrazów kserogra¬ ficznych zawierajacy biegunowa warstwe wywolu¬ jaca naniesiona na podlozu podtrzymujacym^ po¬ siadajacym elementy utrzymujace biegunowa war¬ stwe wywolywacza w polozeniu bezstykowym z po¬ wierzchnia, która ma byc wywolywana, znamienny tym, ze sklada sie z biegunowej warstwy wywolu¬ jacej o opornosci wlasciwej mniejszej od 1018 om-cm i lepkosci mniejszej od 104 pauzów i dy¬ stansowych czastek usytuowanych na podlozu pod¬ trzymujacym.

2. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze ma jednolita 'warstwe stalego rozpuszczalnika, umieszczona miedzy podlozem podtrzymujacym i warstwa biegunowego wywolywacza, przy czym staly rozpuszczalnik posiada nizsza temperature topnienia niz wywolywacz biegunowy.

3. Srodek wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze staly rozpuszczalnik jest materialem krystalicznym.

4. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze czastki dystansowe sa luzno rozdzielone na wolnej powierzchni warstwy wywolywacza.

5. Srodek wedlug zastrz. 1 albo 4, znamienny tym, ze czastki dystansowe powleczone sa powloka odpychajaca wywolywacz,

6. Srodek wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze czastki dystansowe sa czesciowo osadzone w war¬ stwie wywolywacza.

7. Srodek wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze czastki dystansowe posiadaja przecietne srednice& mu u dystansowe a wymiarze 5 do 50 procent wiekszym od grubosci warstwy wywolywacza.

8. Srodek wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze czastki dystansowe skladaja sie z czastek kuli¬ stych.

9. Sposób wywolywania obrazów kserograficz¬ nych znamienny tym, ze co najmniej czesc równo¬ miernej, normalnie bedacej w stanie stalym, war¬ stwy wywolywacza umieszczonej na podlozu pod¬ trzymujacym przeprowadza sie w stan ciekly, swo¬ bodna powierzchnie tak otrzymanej cieklej czesci warstwy wywolywacza umieszcza sie w poblizu powierzchni zawierajacej obraz, nastepnie umiesz¬ cza sie szereg dystansowych czastek odpychajacych w fizycznym styku z ciekla czescia warstwy wy¬ wolywacza, przy czym stosuje sie odpychajace czastki dystansowe o wielkosci zapobiegajacej sty¬ kowi warstwy wywolywacza biegunowego z po¬ wierzchnia niosaca utajony obraz a zapewniajacej styk warstwy wywolywacza biegunowego z bocz¬ nymi powierzchniami czastek dystansowych umoz¬ liwiajac tym samym migracje cieklej warstwy wy¬ wolywacza po bocznych powierzchniach czastek dystansowych do powierzchni z naniesionym obra- 10 15 20 niosaca obraz od warstwy podloza podtrzymuja¬ cego.

10. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze warstwe biegunowego wywolywacza, po przeprowa¬ dzeniu w stan ciekly, ponownie doprowadza sie do stanu stalego przed oddzieleniem warstwy pod¬ loza od wywolywanej powierzchni obrazu.

11. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze 'Warstwe wywolywacza biegunowego przeprowadza sie w stan ciekly przez wystawienie jej na dzia¬ lanie energii cieplnej.

12. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze warstwe wywolywacza biegunowego przeprowadza sie w stan ciekly, przez zetkniecie sie z rozpusz¬ czalnikiem.

13. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze do warstwy wywolywacza biegunowego przyklada sie potencjal elektryczny dla wzmocnienia wnika¬ nia co najmniej czesci warstwy wywolywacza do wywolywanej powierzchni z obrazem.

14. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze warstwe podloza zwilza sie warstwa wywolywacza w stanie cieklym, a obszar tla na powierzchni obrazowej, zachowuje sie odpychajaco wzgledem zem utajonym, i na koniec odlacza sie powierzchnie 25 wywolywacza bedacego w stanie cieklym. Errata Lam 3, wiersz 51 jest: wlosciwosciach fizyko-chemicznych powinno byc: wlasciwosciach fizyko-chemicznych wiersz 65 jest: pauzów, powinno byc: puazów, Lam 7, wiersz 45 jest: okolo 102 pauzów, powinno byc: okolo 102 puazów, Lam 21, wiersz 49—50 Dwa pierwsze wiersze akapitu powinny brzmiec: Powierzchnia warstwy wywolywacza zostaje nastepnie umieszczona w poblizu powierzchni obrazowej i równolegle do niej, pokrytej czast¬ kami dystansowymi. Uzyskana w ten sposób przekladka warstw zostaje nastepnie umieszczona miedzy metalowymi plytami dociskowymi. Lam 23, wiersz 50 jest: Warstwa wywolawcza, powinno byc: Warstwa wywolywacza, Lam 24, wiersz 44 jest: 104 pauzów powinno byc: 104 puazów Lam 26 W zastrzezeniach patentowych 10—14 jest: Sposób wedlug zastrz. 10 powinno byc: Sposób wedlug zastrz. 9 PL PL PL PL PL