PL79257B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL79257B1
PL79257B1 PL12353167A PL12353167A PL79257B1 PL 79257 B1 PL79257 B1 PL 79257B1 PL 12353167 A PL12353167 A PL 12353167A PL 12353167 A PL12353167 A PL 12353167A PL 79257 B1 PL79257 B1 PL 79257B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bath
nickel
concentration
solution
ions
Prior art date
Application number
PL12353167A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Electro Chemical Engineering Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Electro Chemical Engineering Gmbh filed Critical Electro Chemical Engineering Gmbh
Publication of PL79257B1 publication Critical patent/PL79257B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

Sposób bezpradowego wytwarzania powlok niklowych o szczególnie duzej twardosci Przedmiotem wynalazku jest sposób bezprado¬ wego wytwarzania twardych powlok niklowych.Powloki naklada sie na materialy metaliczne i pólmetaliczne, zwlaszcza tytan, stale szlachetne, beryl, magnez i jego stopy, w kapieli stanowiacej roztwór wodny, zawierajacy jony niklu, podfosfo- rawe, jony zwazku kompleksotwórczego oraz jo¬ ny powierzchniowo czynne, który nastawia sie wodorotlenkiem amonowym na okreslona wartosc pH.Znane sposoby bezpradowego wytwarzania po¬ wlok niklowo-fosforowych lub niklowo-borowych oparte sa na tej zasadzie, ze pod wplywem srod¬ ków redukujacych, jak np. podfosforynu sodowe¬ go, wodorku sodowo-bor owego lub innych, jony niklu przylaczone do zwiazku kompleksotwórcze¬ go, osadzaja sie na katalicznie oddzialywujacych powierzchniach z jednoczesnym wydzieleniem skladników srodka redukujacego, jak fosfor lub ibor.Glówne wady tych sposobów polegaja na tym, ze nie wszystkie powszechnie stosowane materia¬ ly, jak w szczególnosci magnez i jego stopy, sta¬ le szlachetne, tytan itd. dawaly sie w ten sposób powlekac. Jesli nawet udawalo sie to w przypad¬ ku któregos z materialów, to przyczepnosc i twar¬ dosc powlok byla w najwyzszym stopniu niewy¬ starczajaca. Ponadto kapiele te nie sa dostatecz¬ nie trwale i przy dodaniu sro"dków regenerujacych rozkladaja sie w temperaturze pracy. Poniewaz 10 15 20 25 30 potrzebne sa duze ilosci przyspieszaczy, stabiliza¬ torów, substancji kompleksotwórczych i innych dodatków, kontrola kapieli i ich techniczne stoso¬ wanie z ciagla regeneracja jest uciazliwe i kosz¬ towne, praktyczne oplacalne zastosowanie w celu uzyskania równomiernych warstw jest dlatego watpliwe. Zaden pojedynczy sposób bez nastepnej obróbki cieplnej nie pozwalal uzyskac twardosci 1000 kg/mm2, oznaczonej metoda mikro wedlug Vickersa.Jedna z powszechnie przyjetych metod obróbki cieplnej w temperaturze 400°C nie nadaje sie do stosowania np. w przypadku glinu i jego stopów, magnezu i jego stopów, cynku i jego stopów, tworzyw sztucznych itd. gdyz materialy te ulega¬ ja w tych warunkach niekorzystnym wplywom lub uszkodzeniom. Nie mozna, np. w przypadku kapieli zawierajacych podfosforyn sodowy, rege¬ nerowac ich bez specjalnych technologicznie klo¬ potliwych zabiegów, jak chlodzenia, nastepujace¬ go po nim uzupelniajacego dozowania skladników w oddzielnych zbiornikach i ponownego podgrze¬ wania do temperatury roboczej.W znanych dotychczas sposobach w przypadku wielu materialów trzeba przeprowadzic podklado¬ we miedziowanie, cynowanie, cynkowanie itd., co naturalnie powoduje technologiczne komplikacje i trudnosci. Otrzymane poniklowane powierzchnie byly przewaznie matowe i wymagaly nastepnego polerowania. Temperatura pracy kapieli musi byc 792573 79257 4 nastawiona stosunkowo wysoko, aby uzyskac po¬ trzebna szybkosc osadzania.Wymienionych wad oraz niedogodnosci nie po¬ siada sposób wedlug wynalazku. Sposób ten po¬ lega na tym, ze stosuje sie kapiel, która obok jo¬ nów niklu, podfosforynu i zwiazku kompleksowo- twórczego zawiera fluorek i/lub inna substancje powierzchniowo-czynna, np. kwas fosforowy i kwas fosforawy i/albo skondensowane kwasy fosforowe, kwas borowy i borany w kombinacji z wodoro¬ tlenkiem amonowym przy wartosci pH powyzej 7, korzystnie 7,5—8,5.Efektem zawartosci amoniaku i podanej war¬ tosci pH w tej kapieli wedlug wynalazku jest jednak duza twardosc powloki i odpornosc na scieranie, jak tez przy odpowiednim ruchu niklo¬ wanych przedmiotów otrzymana bez dalszej ob¬ róbki lustrzana powierzchnia. Dzieki duzej zawar¬ tosci fluorku uzyskuje sie znakomita przyczep¬ nosc do wszystkich metali, pólmetali i stopów.Przez kombinacje wymienionych substancji, to znaczy fluorku, amoniaku, fosforanów, mozliwe jest, aby stezenie podfosforynu wynosilo 10—150 g/l, bez obawy o spowodowanie rozkladu kapieli.Wskutek duzej zawartosci podfosforynu sodowego osiaga sie wieksza szybkosc osadzania w nizszych temperaturach.Dzieki niezwykle, duzej trwalosci kapieli mozli¬ we jest jej szybkie regenerowanie przez bezpo¬ srednie dodawanie roztworów regenerujacych do wanien galwanizerskich w temperaturze pracy, przez co oszczedza sie bardzo wiele nakladów apa¬ raturowych i kosztów.Nastepnie przy uzyciu np. znanych dotychczas kapieli opartych na podfosforynie sodowym i wo¬ dorku sodowoborowym, uzyskuje sie przecietne twardosci powlok okolo 500 kg/mm2 oznaczone metoda mikro wedlug Vickersa, podczas gdy spo¬ sobem wedlug wynalazku przy wiekszej ekono- micznosci i prostszym wykonawstwie bez dalszej obróbki cieplnej osiaga sie twardosci 950—IiOBiO kg/mm2 oznaczone metoda mikro wedlug Vicker- sa i odpornosc na scieranie równa odpornosci powlok z chromu twardego.Dzieki wynalazkowi zastosowano sposób, w któ¬ rym kapiel zawiera mozliwie malo jonów innych niz potrzebne do reakcji, przez co kapiel jest szczególnie pewna w eksploatacji, daje sie latwo regenerowac i zapewnia juz w temperaturze po¬ wyzej 40°C dostatecznie duza szybkosc osadzania, co stanowi szczególnie wazna zalete przy powle¬ kaniu tworzyw sztucznych majacych zdolnosc przewodnictwa. Nastepnie zyskuje sie przy tym zalete duzej trwalosci kapieli, tak ze przy poda¬ nej ilosci srodków redukujacych mozna pracowac w kazdej temperaturze bez potrzeby stosowania przy tym specjalnych stabilizatorów. Szybkosci osadzania przekraczaja w wyzszych temperaturach osiagane zwykle wartosci. Tak np. w temperaturze 95°C wydziela sie 50 miliwali na godzine. Szcze¬ gólnie zaskakujace jest jednak to, ze przez zasto¬ sowanie sposobu wedlug wynalazku uzyskuje sie takie twardosci i odpornosci na scieranie wytwo¬ rzonych powlok, jakie dotychczas nie byly osiagalne zadnym ze sposobów z zastosowaniem galwanicznej czy bezpradowej kapieli niklowej.W sposobie wedlug wynalazku mozna zastoso¬ wac równiez inne substancje wykazujace zdolnosc adsorpcji powierzchniowej, np. bromki, jodki lub tym podobne, moga tez byc obecne i inne srodki redukujace o potencjale redukcyjno-oksydacyj- nym w odniesieniu do kazdorazowego stezenia srodka redukujacego, rzedu 3,1—0,2V, w polacze¬ niu z wymienionymi skladnikami kapieli bez wy¬ stapienia objawów jej rozkladu.Ze wzgledu na dzialanie skladników kapieli temperatura robocza w sposobie wedlug wynalaz¬ ku moze sie miescic w granicach od temperatury pokojowej do temperatury wrzenia, korzystnie utrzymuje sie ja w granicach 60—90°C. Nawet przy wymienionych jako korzystne niskich tempe¬ raturach mozna juz osiagac, jak stwierdzono nie¬ spodziewanie, dostatecznie duze szybkosci osadza¬ nia rzedu 20 miliwali na godzine.Stwierdzono, ze sposobem wedlug wynalazku mozna niklowac bez trudnosci metale i pólprze¬ wodniki, które dotychczas mozna bylo niklowac bezpradowo tylko po klopotliwych zabiegach wstepnych, np. po pomiedziowaniu, lub które w ogóle nie dawaly sie platerowac, np. magnez i je¬ go stopy, stale szlachetne, tytan, krzem i jego sto¬ py. Metale te sposobem wedlug wynalazku moz¬ na równiez niklowac bezposrednio, np. zelazo i miedz.Podczas redukcji dwuwartosciowych jonów ni¬ klu przez jon podfosforynowy ulega on automa¬ tycznie utlenieniu na jon fosforynowy. Z biegiem czasu roztwór elektrolitu ulega wzbogaceniu w ta substancje az do granicy jej rozpuszczalnosci. Sko¬ ro tylko zostanie ona przekroczona i zacznie sie wytracac fosforyn, na powierzchniach niklowa¬ nych poczynaja powstawac chropowatosci.W celu unikniecia tego niepozadanego zjawiska dodaje sie w niektórych sposobach substancje kompleksotwórcza, która utrzymuje w roztworze jony fosforynowe do wyzszej granicy stezenia. In¬ ne sposoby zalecaja dodawanie tych jonów w od¬ dzielnym zbiorniku.W przeciwienstwie tego , okazalo sie szczegól¬ nie ekonmiczne i proste filtrowanie roztworu elek¬ trolitu w obiegu zamknietym przez wodorotlenek zelazowy, albo przez mase Luxa. Usuwa sie w ten sposób fosforyn z kapieli bez potrzeby dodawania substancji pomocniczych i instalowania oddziel¬ nych urzadzen do wytracania.Dla zapewnienia calkowicie ciaglej pracy kapie¬ li celowe jest utrzymywanie na biezaco stezenia glównych skladników na stalym poziomie. Zuboze¬ nie w srodki redukujace i nikiel prowadzilyby do zmniejszenia szybkosci osadzania sie. Dlatego wszystkie skladniki kapieli, które ulegaja stalemu zuzyciu i tym samym zostaja z niej usuniete, po¬ winny byc uzupelniane w sposób ciagly. Tworza¬ ce sie przy tym szkodliwe produkty rozkladu na¬ lezy równiez usuwac.Próby zastosowania odpowiedniego roztworu re¬ generujacego ujawnily nastepujace trudnosci: Po pierwsze z roztworem regenerujacym nie powin¬ ny dostawac sie do kapieli mozliwie zadne obce jony, gdyz w przeciwnym razie jej trwalosc ule- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60$ 79267 8 ga silnemu zmniejszeniu i wystepuja reakcje uboczne. Po drugie objetosc roztworu regeneruja¬ cego musi byc mozliwie niewielka, aby nie na¬ stapilo zwiekszenie objetosci kapieli, to znaczy ze objetosc cieczy uzupelniajacej musi byc taka sama lub mniejsza, niz niewielka objetosc cieczy stra¬ conej przez odparowanie z powierzchni kapieli.Zwiazki niklu, które moga spelnic pierwsze z wymienionych wymagan, sa w wodzie iw roz¬ tworze elektrolitu tak malo rozpuszczalne, ze nie¬ mozliwe jest spelnienie drugiego wymagania. Aby nie wprowadzac obcych jonów do roztworu elek¬ trolitu przeprowadzono próby rozpuszczania z mo¬ gacymi miec zastosowanie solami niklu w wod¬ nych roztworach amoniaku. Nieoczekiwanie okaza¬ lo sie, ze takie zwiazki trudno rozpuszczalne W wodzie jak wodorotlenek niklu, tlenek niklu, fluo¬ rek niklu itd. w wodnych roztworach amoniaku o stezeniu powyzej 2Q°/o staja sie latwo rozpusz¬ czalne i moga byc przy tym pobrane duze ilosci soli niklu. Okazalo sie przy tym, ze przy rozpusz¬ czaniu, np. fluorku niklu, w 25°/o roztworze wo¬ dorotlenku amonowego ustala sie ' równowaga dy¬ namiczna miedzy rozpuszczalnikiem i rozpuszczona sola, takze przy dodawaniu tego roztworu do cal¬ kowicie zaladowanego niklowanymi przedmiotami roztworu elektrolitu zuzywajacy sie amoniak zo¬ staje uzupelniony ponownie przez roztwór rege¬ nerujacy w takim samym stosunku jak zuzyty ni¬ kiel. Objetosc roztworu regenerujacego byla taka mala, ze wynosila mniej niz objetosc cieczy odpa¬ rowanej i w ten sposób stawiane wymagania zo¬ staly idealnie spelnione.Stwierdzono równiez nieoczekiwanie, ze w\prze¬ ciwienstwie do znanych sposobów roztwór rege~ nerujacy soli niklu moze byc bez szkody doda¬ wany razem z rozpuszczonym w nim podfosfory- nem sodu i wprowadzany za pomoca jednego tyl¬ ko urzadzenia dozujacego.Wystepujace w kapielach do bezpradowego ni¬ klowania, z natury jako zanieczyszczenia w ilo¬ sciach sladowych, sole metali ciezkich, olowiu, chromu, arsenu, antymonu, cyny, miedzi, cynku i innych, maja rózny wplyw na proces niklowa¬ nia. Dzialaja onel jako trucizny katalizatorów i wplywaja przez to na szybkosc osadzania, przesz¬ kadzaja w tworzeniu sie zarodków i w ten spo¬ sób oddzialuja na trwalosc kapieli i gladkosc ni¬ klowanej .powierzchni. Poniewaz sole te, tak samo jak nikiel, osadzaja sie jednak na przedmiotach poddaw&nych obróbce, w kapielach eksploatowa¬ nych w sposób ciagly wystepuja ustawicznie zmienne i nie dajace sie kontrolowac warunki.Z uwagi na to, ze te sole metali ciezkich obecne sa przede wszystkim w soli niklu, w zaleznosci od czystosci produktu wyjsciowego i ilosci dodawa¬ nego roztworu regenerujacego, przechodza do roz¬ tworu rózne ilosci tych substancji. W celu utrzy¬ mania trwale jednakowych wlasciwosci kapieli nalezy jednak utrzymywac w niej staly poziom tych substancji sladowych.Okazalo sie, ze przy dodaniu np. jonów Pbop w ilosci 1—30 ppm, w szczególnosci okolo 15 ppm, istnieja warunki optymalne dla uzyskania wspom¬ nianych wlasciwosci, to jest gladkosci powierzchni i szybkosci osadzania. Ilosc ta mozna utrzymywac w kapieli stale na odpowiednim poziomie przez uzupelniajace dozowanie i kontrole, np. za pomoca spektrofotometru do oznaczania absorpcji atomów lub, co jest o wiele prostsze, przez wykorzysta¬ nie tak zwanego efektu depot, tj. wplywu osadu.Wplyw osadu osiaga sie korzystnie przez dodawa¬ nie lub utrzymywanie w kapieli wiekszej ilosci trudno rozpuszczalnego zwiazku olowiu, którego stopien rozpuszczalnosci w elektrolicie odpowia¬ da dokladnie wyzej podanym ilosciom. W tych granicach miesci sie rozpuszczalnosc •¦ np. PbCr04.W celu sterowania - dodawania roztworu regene¬ racyjnego zaleca sie prowadzic ciagle oznaczanie stezenia zuzywajacych sie skladników. Takie bie¬ zace oznaczanie stezenia za pomoca analizy che¬ micznej jest bardzo klopotliwe i polaczone z du¬ zym opóznieniem w czasie. Przy uzyskaniu wyni¬ ku analizy np. po uplywie okolo 30 minut, dozo¬ wanie uzupelniajace na podstawie tej wartosci jest juz od dawna niemiarodajne, gdyz w tym czasie proces niklowania postepowal dalej.Znaleziono jednakze droge, pozwalajaca na bez¬ posrednie oznaczanie tych stezen, w kapieli.Okazalo sie, ze ciagla regulacja stezenia niklu w kapieli i nastepujacego w stosunku do niego zuzycia podfosforynu sodowego jest mozliwa przy zastosowaniu fotometrycznego kolorymetru (foto¬ metru) przeplywowego. Równiez regulacja warto¬ sci pH jest mozliwa przy uzyciu tego rodzaju przyrzadu, gdyz ze zmiana wartosci pH zmienia sie takze barwa roztworu.Przy calkowicie ciaglym prowadzeniu procesu czesc strumienia roztworu elektrolitu, utrzymywa¬ nego w obiegu za pomoca jednej lub kilku pomp, odgalezia sie i przepuszcza przez kolorymetr rur¬ kowy. Wartosc graniczna stezenia steruje pompa dozujaca, która przy przekroczeniu ponizej tej wartosci dozuje roztwór regenerujacy az do osia¬ gniecia ponownie stezenia granicznego.Niespodziewanie okazalo sie, ze przy zastosowa¬ niu* sposobu wedlug wynalazku fosforyn tworza¬ cy sie z podfosforynu sodowego w czasie przebie¬ gu reakcji, wywiera szczególny wplyw na • twar¬ dosc tworzacej sie warstwy. Mianowicie przy du¬ zej zawartosci jonów fosforynowych W kapieli otrzymuje sie warstwy twardsze niz przy zawar¬ tosci nizszej. Poniewaz duza zawartosc fosforynu objawia sie zmetnieniem roztworu wywolanym przez wytracajacy sie fosforyn niklu, równiez i ta wartosc moze byc oznaczana w sposób ciagly przez pomiar zmetnienia za pomoca kolorymetru dlugorurkowego. Dzieki temu przy osiagnieciu okreslonej, zbyt duzej wartosci zmetnienia moze byc wlaczona pompa, która w celu usuniecia fos¬ forynu przetlacza kapiel przez zloze filtrujace, za¬ wierajace tlenek lub wodorotlenek zelaza lub za¬ miast tego przez wirówke filtrujaca, a po osiag¬ nieciu drugiej wartosci granicznej moze byc po¬ nownie wylaczona. Mozna tez liczbe obrotów wi¬ rówki tak wyregulowac, aby powstalo pole grawi¬ tacyjne w którym oddzielalyby sie tylko czastki o duzym ciezarze wlasciwym, a wiec zanieczysz¬ czenia, podczas gdy niemal koloidalne czastki wy¬ traconego fosforynu pozostawalyby w roztworze. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 00f TttST s Gwarantuje to trwale, optymalne dla zwieksze¬ nia twardosci powlok stezenie tworzacego sie i tak w kapieli fosforynu. Jednoczesnie utrzymuje sie pod kontrola nastepujacy czynnik dzialajacy za- klócajaco w innych sposobach: Wiadomo, ze przy innych sposobach bezprado- wego niklowania jon fosforytowy nagromadza sie do okreslonego stezenia. Poniewaz powyzej tego stezenia dziala on zaklócajaco, odrzuca sie prze¬ waznie cala kapiel. W niektórych przypadkach próbowano jony te usunac na drodze uciazliwego wytracania. Z zastosowania sposobu wedlug wy¬ nalazku wynika oczywista korzysc, gdyz zywot¬ nosc kapieli znacznie sie przedluza, a jednoczesnie stezenie tego skladnika utrzymuje sie na sta¬ lym poziomie.Przy regeneracji kapieli o duzej zywotnosci w sposób ciagly okazalo sie, ze poczatkowo silny polysk utworzonych twardych warstw niklowych zmniejsza sie po dluzszym czasie eksploatacji ka¬ pieli. Próby z róznymi srodkami wyblyszczajacy¬ mi wykazaly, ze najbardziej odpowiednimi zwiaz¬ kami do wytwarzania stale zwierciadlanych lsnia¬ cych powlok, obojetnie po jak diugiej pracy kapie¬ li, jak kwas mlekowy.Wiadomo, ze w niektórych kapielach do bez- pradowego niklowania przy wartosci pH ponizej 0,0 w celu zwiekszenia szybkosci osadzania stosuje sie kwas mlekowy. W kapieli wedlug wynalazku kwas mlekowy wywieral wprawdzie równiez nie¬ wielki wplyw na szybkosc osadzania, niespodzie¬ wanie jednak dawal szczególnie duzy efekt glad¬ kosci przy wartosciach pH powyzej 6,0 przy czym stezenie kwasu mlekowego wynosilo 5—100 g/l.Jednoczesnie, na skutek dzialania kwasu mleko¬ wego, szczególnie na materialach zelaznych, zaw¬ sze wystepujace i widoczne w utworzonej war¬ stwie w postaci malych kraterów przywieranie pe¬ cherzyków wodoru uleglo silnemu zmniejszeniu, aw polaczeniu z fluorowanym srodkiem zwilza¬ jacym calkowitemu zlikwidowaniu, przy obecnosci jego w roztworze elektrolitu w ilosciach 0,001— Ifi g/l kapieli.Calkowicie ciagla praca chemicznego urzadze¬ nia do niklowania daje sie najlepiej przeprowa¬ dzic wtedy, gdy zostana spelnione okreslone wy¬ magania dotyczace wykonania urzadzenia.Dotychczas nie bylo mozliwe przeprowadzenie procesu bezpradowego niklowania bez ochlodzenia roztworu elektrolitu, jego regeneracji i saczenia w stanie ochlodzonym jak równiez nastepnego ogrzania z powrotem do temperatury reakcji. Po¬ niewaz w przypadku sposobu wedlug wynalazku jest to mozliwe, mozna bylo do tego celu wyna¬ lezc odpowiednie elementy urzadzenia* które by równiez pod wzgledem aparaturowym spelnily powyzsze wymagania.Przy zmniejszaniu sie zawartosci srodka redu¬ kujacego oraz niklu na skutek osadzania sie niklu na pokrywanych przedmiotach wystepuje najcze¬ sciej niepozadana reakcja uboczna przez tworze¬ nie sie drobnokrystalicznych lub pseudokoloidal- nych osadów, które w sposób niepozadany z jed¬ nej strony osadzaja sie na niklowanych przed- •miotach i powoduja dlatego chropowatosc po¬ wierzchni, z drugiej strony jednak same zostaja poniklowane i wskutek swej stosunkowo duzej powierzchni w nadzwyczaj nieekonomiczny, sposób zmniejszaja zawartosc niklu i srodka redukujace¬ go w kapieli. Nie brak bylo prób odsaczenia tych osadów, co samo w sobie daje sie technicznie lat* wo rozwiazac lecz z ekonomicznego punktu widze¬ nia stanowi bardzo klopotliwa droge. SacEenie go¬ racego z koniecznosci roztworu nie jest mozliwe, gdyz placek filtracyjny nadal pozostaje w kon<- takcie z roztworem i dlatego wskutek pokrywania sie powloka niklowa pobiera coraz wiecej sklad¬ ników z roztworu i daje tylko korzysc ze wzgle¬ du na chropowatosc niklowanych przedmiotów.Z uwagi na pewne galaretowate skladniki wy¬ stepujace w roztworze, które przy odsaczaniu ich w ciagu kilku minut zatykaja kazdy filtr, byloby konieczne zastosowanie filtrów ze zlozem przeplu¬ kiwanym zwrotnie, co byloby bardzo nieekono¬ miczne, gdyz wskutek tego przedostawalyby sie do kapieli czastki masy filtracyjnej jako zarodki, oraz bardzo duza powierzchnia pomocniczego srodka filtrujacego stwarzalaby szczególnie duza okazje do osadzania sie niklu. Druga droga, pole¬ gajaca na podwójnym saczeniu na dwóch odreb¬ nych filtrach, jest nadzwyczaj klopotliwa i nie na¬ daje sie do zastosowania w ruchu ciaglym.Zmuszalo to dotychczas do uprzedniego ochla¬ dzania saczonego roztworu, dotad az jego reak¬ tywnosc obnizyla sie do znosnego minimum, na¬ stepnie saczenie, wreszcie do ponownego podgrza¬ nia roztworu.Niespodziewanie stwierdzono, ze trudnosci te nie wystepuja przy oddzielaniu osadu z roztworu za pomoca wirówki, w której gradient ciezkosci wy¬ nosi co najmniej 1000 g.Okazalo sie, ze nie potrzeba do tego celu pom¬ py zwiekszajacej cisnienie, która równiez ulega¬ laby poniklowaniu, gdyz wirówki pracuja bezcis¬ nieniowa; czesci metalowe wirówki, obojetnie z.Ja¬ kiego materialu, przy duzych jej obrotach nawet przy zetknieciu sie z goracym roztworem elektro¬ litu nie ulegaja poniklowaniu, a dziejci temu nie usuwaja z kapieli w sposób niepozadany niklu i srodka redukujacego; ewentualnie osady pow¬ stale podczas pracy kapieli daja sie usunac za po¬ moca rozpuszczalnika, to znaczy, ze mozna nim oczyscic wirówki.Wiadomo, ze wszystkie tworzywa znajdujace sie w chemicznym roztworze do nMowania w tem¬ peraturze reakcji po krótszym lub dluzszym czasie ulegaja poniklowaniu. Dlatego tez w procesie tym najtrudniejszy zasadniczy problem stanowi dobór odpowiedniego materialu na zbiorniki i czesci urzadzen. Po wypróbowaniu wszystkich bedacych do dyspozycji tworzyw okazalo sie nieoczekiwa¬ nie, ze w roztworze elektrolitu wedlug wynalazku material o skladzie: Cr — 10—a3%, $li: 50—75°/t, Mo: 10—18°/o, Fe — reszta, wykazuje pontencjal pasywacji, który nawet pod dzialaniem katodo¬ wych pradów aktywujacych rzedu 10-2 A/cm3 nie ulega trwalemu aktywowaniu i samorzutnie przechodzi ponownie w stan pasywnosci. Dzieki temu wszystkie czesci urzadzenia mozna wykonac z tworzywa metalicznego, uzyskujac znaczne ko¬ la 209 79257 10 rzysci. Korzysci te stanowi bardzo latwe oczysz¬ czanie czesci urzadzenia w kwasie azotowym, pod¬ czas gdy np. tworzywa sztuczne ulegaja przezen trwalemu zaatakowaniu i bardzo korzystny wspól¬ czynnik przewodzenia ciepla, który ulatwia prze¬ noszenie ciepla w tym procesie przy podgrzewa¬ niu.Znaleziono równiez dalsza mozliwosc stosowania metalowych czesci urzadzenia. Poniewaz takze sta¬ le szlachetne o róznym skladzie w sposobie we¬ dlug wynalazku ulegaja aktywacji i poniklowa- niu, jednakze sa znacznie tansze niz material wy¬ zej wymieniony, nalezy w przypadku ich stosowa¬ nia, w celu unikniecia poniklowania, zapobiec ich aktywowaniu sie.Wiadomo, ze mozna to osiagnac przez obciaze¬ nie pradem anodowym o natezeniu od 2*10-4 A/ /cm2. Nieznany, lecz o wiele prostszy i bardziej ekonomiczny sposób polega na tym, ze potencjal za pomoca krótkotrwalego, sterowanego ukladem tyrystorowym pradu impulsowego o duzym na¬ tezeniu odtwarza sie stale w momencie, gdy na skutek procesu aktywacji po dluzszym czasie za¬ czyna on zanikac. Potrzebne do tego naklady sa bardzo niewielkie.Ponizsze przyklady objasniaja siposób wedlug wynalazku.Przyklad I: W kapieli zawierajacej: 15 g/l NiC03, 20 ml/1 40% HF, 25 g/1 NaH2P02-H20, 15 g/l cytrynianu trójsodowego i 40 ml/l 25°/o NH4OH niklowano przy pH 8,5 i w temperaturze 80°C próbki stopu magnezu. Szybkosc osadzania wyno¬ sila 30 mikronów na godzine, twardosc wytworzo¬ nych warstw 990 kg/mm2 oznaczana metoda mi¬ kro wedlug Vickersa.Przyklad II: W kapieli zawierajacej 10 g/l NiC03, 20 ml/1 40% HF, 20 g/l NaH2P02-H20, 30 g/l NaHzPO^-HjjO, 40 g/l kwasu mlekowego i 30 ml/l 25°/o NH4OH niklowano przy pH 7,5 i w tem¬ peraturze 90PC próbki stali chromowo-niklowej 18/8. Szybkosc osadzania wynosila 35 mikronów na godzine, twardosc wytworzonych warstw 1050 tog/mm2 oznaczona metoda mikro wedlug Vickersa.Przyklad III. W kapieli zawierajacej 20 g/l NiF2-4H20, 40 g/l krystalicznego boraksu, 20 g/l NaHjjPOa-HzO i NH4OH do pH 8,0 niklowano w temperaturze 30PC próbke tworzywa Delrin, któ¬ rej nadano wlasciwosci przewodzace za pomoca PdCl2. Szybkosc osadzania wynosila 10 mikronów na godzine, twardosc warstwy 980 kg/mm2 ozna¬ czona metoda mikro wedlug Vickersa, przy dobrej przyczepnosci warstwy.Przyklad IV. W kapieli zawierajacej: 20 g/l Ni8 NaH2P04-H20 i NH3 do pH 9 niklowano w tem¬ peraturze okolo 70°C próbki stopu Al Zn Mg.Szybkosc osadzania wynosila 20 mikronów na go¬ dzine, twardosc wytworzonych warstw 900 kg/mm2 oznaczana metoda mikro wedlug Vickersa przy obciazeniu 50 g. PL PL

Claims (21)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób bezpradowego wytwarzania powlok niklowych na materialach metalicznych i pólme- talicznych, zwlaszcza z tytanu, stali szlachetnej oraz magnezu i jego stopów, w kapieli skladajacej sie z roztworu wodnego, zawierajacego jony niklu, podfosforynowe, oraz jony zwiazku komplekso- twórczego, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel, która oprócz anionów powierzchniowo czynnych zawiera wodorotlenek amonowy w takim steze¬ niu, aby wartosc pH roztworu wynosila powyzej 7, korzystnie 7—8,5.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel, która jako aniony powierzch¬ niowo czynne zawiera jodki, bromki, borany, fos¬ forany i/lub polifosforany, korzystnie fluorki.
3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel, która zawiera równiez in¬ ne srodki redukujace o potencjale redukcyjno- ^oksydacyjnym, w odniesieniu do kazdorazowego stezenia jednego lub wiecej srodków redukuja¬ cych, wynoszacym 3,1—0,200 V", sprzezone z wy¬ mienionymi skladnikami bez wywolania rozkladu kapieli.
4. Sposób wedlug zastrz. 1—3, znamienny tym, ze przeprowadzi sie go w temperaturze od tem¬ peratury pokojowej do temperatury wrzenia.
5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze stosuje sie temperature 70—85°C.
6. Sposób wedlug zastrz. 4 i 5, znamienny tym, ze roztwór regenerujacy dodaje sie bezposrednia do wanny galwanizerskiej.
7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze roztwór regenerujacy dodaje sie do wanny gal¬ wanizerskiej w temperaturze pracy kapieli.
8. Sposób wedlug zastrz. 4—7, znamienny tym, ze niklowane przedmioty utrzymuje sie w ruchu wobec kapieli niklujacej.
9. Sposób wedlug zastrz. 4—8, znamienny tym, ze stezenie podfosforynu sodowego utrzymuje sie w granicach 10—150 g/l.
10. Sposób wedlug zastrz. 4—9, znamienny tym, ze w celu usuniecia produktów rozkladu podfos- forynów, to znaczy jonów fosforynowych, stosu¬ je sie tlenek lub wodorotlenek zelaza lub tym po¬ dobne zwiazki.
11. Sposób wedlug zastrz. 4—10, znamienny tym, ze do regeneracji kapieli stosuje sie sól niklu nie- zawierajaca zadnych anionów obcych w stosunku do roztworu i rozpuszcza sie ja w stezonych, wod¬ nych roztworach wodorotlenku amonowego o ste¬ zeniu powyzej 20%.
12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze przeprowadza sie w dalszym ciagu na nowo roz¬ ruch kapieli do bezpradowego wytwarzania po¬ wlok niklowych.
13. Sposób wedlug zastrz. 11—12, znamienny tym, ze roztwór soli niklu dozuje sie w celu re¬ generacji kapieli razem z rozpuszczonymi W nim srodkami redukujacymi.
14. Sposób wedlug zastrz. 1—13, znamienny tym, ze sól metalu ciezkiego w szczególnosci sól olo¬ wiu, dodawana w celu stabilizacji kapieli i za¬ pobiezenia tworzeniu sie w niej zarodków utrzy¬ muje sie w sposób ciagly w stalym stezeniu w granicach 1—30 ppm za pomoca analitycznego urzadzenia sterujacego lub przez utrzymywanie w kapieli osadu trudnorozpuszczalnego zwiazku tych jonów metalu ciezkiego, których stopien rozpusz- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6011 79257 12 czalnosci w roztworze elektrolitu miesci sie w tych granicach.
15. Sposób wedlug zastrz. 1—14, znamienny tym, ze automatyczny nadzór i sterowanie stezenia elektrolitu oraz dodawanie roztworu regeneruja¬ cego przeprowadza sie za pomoca wbudowanych w obieg kapieli urzadzen analizujacych, które ste¬ ruja urzadzeniami regulujacymi, np. za pomoca kolorymetru przeplywowego lub spektrofotometru do oznaczania absorpcji atomowej.
16. Sposób wedlug zastrz. 1—15, znamienny tym, ze stezenie fosforynu utrzymuje sie na stalym po¬ ziomie przez ciagly fotometryczny pomiar zmet¬ nienia za pomoca nefelometru przeplywowego, który steruje pompa przetlaczajaca kapiel przez mase filtrujaca, zawierajaca tlenek lub wodoro¬ tlenek zelaza, lub wirówke.
17. Sposób wedlug zastrz. 1—16, znamienny tym, ze stosuje sie kapiel, która przy wartosci pH w granicach 6,0—12,0 jako srodek wyblyszczajacy zawiera kwas mlekowy w stezeniu 5—100 g/l.
18. Sposób wedlug zastrz. 1—17, znamienny tym, 10 15 20 ze stosuje sie kapiel zawierajaca dodatkowo fluo¬ rowany srodek zwilzajacy w stezeniu 0,001—1,0 g/l w celu usuniecia pecherzyków wodoru i zapo¬ biezenia powodowaniu przez nie tworzenia sie por w warstwie niklu.
19. Sposób wedlug zastrz. 1—18, znamienny tym, ze usuwanie substancji stalych z kapieli przepro¬ wadza sie przez odwirowanie za pomoca jednej lub kilku wirówek o polu ciezkosci powyzej 100 g.
20. Sposób wedlug zastrz. 1—19, znamienny tym, ze przeprowadza sie go w urzadzeniu, w którym wszystkie stykajace sie z roztworem elektrolitu czesci wykonane sa z materialu o skladzie: 10— 33% Cr, 50—75% Ni, 10—18% Mo, reszta Fe.
21. Sposób wedlug zastrz. 1—19, znamienny tym, ze inne metaliczne tworzywa chroni sie przed poniklowaniem przez obciazenie ich sterowanym tyrystorowe pradem impulsownym od 2-10-4 A/ /cm2, który wlacza sie tylko w przypadku akty¬ wacji, wskutek czego doprowadza sie je z powro¬ tem do potencjalu pasywacji. Krak. Zaklady Graficzne Nr 6, zam. 455/75 Cena 10 zl PL PL
PL12353167A 1966-11-14 1967-11-11 PL79257B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1631666A CH486566A (de) 1966-11-14 1966-11-14 Bad zum stromlosen Vernickeln von metallischen und halbmetallischen Werkstoffen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL79257B1 true PL79257B1 (pl) 1975-06-30

Family

ID=4416253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL12353167A PL79257B1 (pl) 1966-11-14 1967-11-11

Country Status (4)

Country Link
CH (1) CH486566A (pl)
FR (1) FR1552071A (pl)
GB (1) GB1209936A (pl)
PL (1) PL79257B1 (pl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL159222A0 (en) * 2001-06-28 2004-06-01 Algat Sherutey Gimur Teufati Method of anodizing of magnesium and magnesium alloys and producing conductive layers on an anodized surface
NZ544373A (en) * 2005-12-20 2008-05-30 Auckland Uniservices Ltd Micro-arc plasma assisted electroless nickel plating methods
CN120099510B (zh) * 2025-05-12 2025-07-22 深圳金湖电镀有限公司 可减少镀液结晶的连续高磷化学镀镍方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR1552071A (pl) 1969-01-03
DE1621241B2 (de) 1976-03-25
GB1209936A (en) 1970-10-21
CH486566A (de) 1970-02-28
DE1621241A1 (de) 1971-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Balaraju et al. Structure and phase transformation behavior of electroless Ni–P alloys containing tin and tungsten
Balaraju et al. Phase transformation behavior of nanocrystalline Ni–W–P alloys containing various W and P contents
Shu et al. Parameter optimization for electroless Ni–W–P coating
Szczygieł et al. Surface morphology and structure of Ni–P, Ni–P–ZrO2, Ni–W–P, Ni–W–P–ZrO2 coatings deposited by electroless method
Li et al. Studies of the porosity in electroless nickel deposits on magnesium alloy
US4152164A (en) Electroless nickel plating
JPH04276081A (ja) 無電解錫、鉛又はそれらの合金めっき方法
Bonin et al. Inorganic salts stabilizers effect in electroless nickel-boron plating: stabilization mechanism and microstructure modification
CN107245742B (zh) 一种铝合金用无氰沉锌剂及铝合金沉锌方法
US4983428A (en) Ethylenethiourea wear resistant electroless nickel-boron coating compositions
WO2012048412A1 (en) Process for electroless deposition of metals using highly alkaline plating bath
Marshakov Corrosion resistance and dezincing of brasses
PL79257B1 (pl)
US2976180A (en) Method of silver plating by chemical reduction
US5578187A (en) Plating process for electroless nickel on zinc die castings
Paunovic Electrochemical aspects of electroless nickel deposition
Sukackienė et al. Electroless deposition of nickel boron coatings using morpholine borane as a reducing agent
Warwick et al. The autocatalytic deposition of tin
US3698939A (en) Method and composition of platinum plating
CN101798694A (zh) 铝硅合金镀前处理双配位剂酸性浸锌溶液及配制方法
KR101365661B1 (ko) 무전해 니켈-인 도금액 및 이를 이용한 도금방법
CA1134727A (en) Non-chromate conversion coatings
Selvam Electroless silver deposition on ABS plastic using Co (II) as reducing agent
JP2000234200A (ja) 電解リン酸塩化成処理方法及び鉄鋼表面に形成される複合皮膜
BR9907916B1 (pt) processo de tratamento quÍmico por fosfato eletrolÍtico para formar uma pelÍcula, e, pelÍcula composta sobre uma superfÍcie de aÇo.