PL78986B2 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL78986B2 PL78986B2 PL15989472A PL15989472A PL78986B2 PL 78986 B2 PL78986 B2 PL 78986B2 PL 15989472 A PL15989472 A PL 15989472A PL 15989472 A PL15989472 A PL 15989472A PL 78986 B2 PL78986 B2 PL 78986B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- amount
- bath
- nickel plating
- boric acid
- polishing effect
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 6
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 4
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 3
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 claims description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229930013930 alkaloid Natural products 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Pierwszenstwo: 23.12.1972 (P. 159894) Zgloszenie ogloszono: 30.05.1973 Opis patentowy opublikowano: 14.07.1975 78986 KI. 48af 5/46 MKP C23b5/46 Twórcywynalazku: Maria Swierkowska-Lis, Jerzy Psikus, Zygmunt Kapusta Uprawniony z patentu tymczasowego: Mera-ZAP Zaklady Automatyki Przemyslowej im. Juliana Marchlewskiego, Ostrów Wielkopolski (Polska) Kapiel do niklowania z polyskiem o dzialaniu wyblyszczajacym Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklowania z polyskiem o dzialaniu wyblyszczajacym.Znane kapiele do galwanicznego niklowania z polyskiem o dzialaniu wyblyszczajacym zawieraja wodne roztwory siarczanu niklawego, chlorku niklawego, kwasu borowego oraz jako dodatki blaskotwórcze zwiazki organiczne na przyklad sulfonowane arylo-aldehydy, aldehydy, alkaloidy, tiomocznik i jego pochodne cykliczne oraz jako dodatki wyrównujace pochodne benzenu, naftalenu, sulfonoamidy.Wada tych kapieli jest mala stabilnosc skladu w czasie pracy, slaba zdolnosc wyrównywania podloza i przede wszystkim brak plastycznosci powloki.Celem wynalazku jest usuniecie tych wad i niedogodnosci.Zadanie techniczne prowadzace do osiagniecia tego celu polega na opracowaniu skladu takiej kapieli, która przy wysokim polysku zapewni duza plastycznosc powloki niklowej.Istota wynalazku jest kapiel do niklowania z polyskiem o dzialaniu wyblyszczajacym, która oprócz zna¬ nych skladników jak: siarczan niklawy, kwas borowy, kwas cytrynowy i zwilzacz, zawiera fluorek sodowy w ilosci 2-5 g/l z jednoczesnym dodaniem substancji blaskotwórczych w postaci paratoluenosulfonoamidu w ilosci 0,5-1,5 g/l, kumaryny w ilosci 0,1-0,5 g/l, aldehydu mrówkowego w ilosci 0,5-2 g/l i saharyny w ilosci 0,1-0,5 g/l.Zaleta kapieli wedlug wynalazku jest duza stabilnosc skladu w czasie pracy i wysoka zdolnosc wyrównywania podloza oraz bardzo dobra plastycznosc powloki przy jednoczesnym uzyskaniu blyszczacego pokrycia o gladkosci wyraznie lepszej od gladkosci podloza.Dalsza zaleta kapieli jest pokrywania przedmiotów w granicach gestosci pradu katodowego od 1 do 6 A/dcm2.Przyklad. Kapiel do niklowania z polyskiem sporzadza sie w dowolnej kolejnosci z: siarczanu niklawego w ilosci 300,0 g/l fluorkusodowego 2,0 g/l kwasuborowego 30,0 g/l2 78986 kwasu cytrynowego oraz z dodatków blaskotwórczych paratoluenosulfonoamidu w ilosci kumaryny aldehydu mrówkowego saharyny i jako zwilzacza lanrylosiarczanu sodowego w ilosci Warunki pracy kapieli: pH kapieli Temperatura Gestosc pradu katodowego 0,1 g/l 0,8 g/l 0,3 g/l 1,0 g/l 0,1 g/l 2,0 g/l 4,0 3§6C 6 A/dcm2 Proces niklowania przeprowadza sie przy pomocy ruchomej katody z zachowaniem ciaglej filtracji. PL PL
Claims (2)
1. Zastrzezenie patentowe 1. Kapiel do niklowania z polyskiem o dzialaniu wyblyszczajacym zawierajaca siarczan niklawy, kwas boro¬ wy, kwas cytrynowy i zwilzacz, znamienna tym, ze zawiera fluorek sodowy w ilosci
2. -5 g/l z jednoczesnym dodaniem substancji blaskotwórczych* w postaci paratoluenosulfonoamidu w ilosci 0,5—1,5 g/l, kumaryny w ilosci 0,1-0,5 g/l, aldehydu mrówkowego w ilosci 0,5-2 g/l i saharyny w ilosci 0,1-0,5 g/l. Prac. Poligraf. UP PRL. zam. 2707/75 naklad 120+18 Cena 10 zl PL PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL15989472A PL78986B2 (pl) | 1972-12-23 | 1972-12-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL15989472A PL78986B2 (pl) | 1972-12-23 | 1972-12-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL78986B2 true PL78986B2 (pl) | 1975-06-30 |
Family
ID=19961179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL15989472A PL78986B2 (pl) | 1972-12-23 | 1972-12-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL78986B2 (pl) |
-
1972
- 1972-12-23 PL PL15989472A patent/PL78986B2/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3729393A (en) | Electrodeposition of copper | |
| PL78986B2 (pl) | ||
| CH298147A (fr) | Procédé de galvanostégie en vue d'obtenir des dépôts d'argent brillants. | |
| KR101273973B1 (ko) | 광택향상 효과가 우수한 알루미늄용 화학 연마제 조성물 | |
| US3312604A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3506548A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| ES251551A1 (es) | Un procedimiento de produccion por galvanoplastia de gruesas capas brillantes de platino | |
| PL82483B2 (pl) | ||
| US3649343A (en) | Chloride concentration control in immersion copper coating | |
| US3457147A (en) | Chromium plating bath and process | |
| US2813065A (en) | Heterocyclic nitrogen compound containing antimony plating solutions and process | |
| US3095362A (en) | Zinc plating composition and process | |
| ES393019A1 (es) | Procedimiento para la preparacion de un bano de cinc galva-nico acido. | |
| US2879195A (en) | Flux | |
| US2321182A (en) | Electrodeposition of nickel from an acid bath | |
| GB634394A (en) | Improvements in electrodeposition of nickel from an acid bath | |
| SU88620A1 (ru) | Способ выделки кожи минерально-растительного дублени | |
| US1816152A (en) | Composition for cadmium plating baths | |
| GB906196A (en) | Processes for forming a smooth recording surface on a record medium | |
| US3738922A (en) | Electropolishing bath solution | |
| PL109791B1 (en) | Bath for electrolytically copperizing steel products | |
| SU551415A1 (ru) | Водный электролит блест щего никелировани | |
| PL53154B1 (pl) | ||
| PL68336B1 (pl) | ||
| PL53153B1 (pl) |