PL77760B2 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 30.05.1973 Opis patentowy opublikowano: 28.04.1975 77760 KI.MKP 12q;i8/03 C07c 149/4# I CZYTELNIA Urzedu Patentowego P-lsilij Bzsczypospli-Bj L. . i Twórcywynalazku: Mieczyslaw Makosza, Maria Ludwików Uprawniony z patentu tymczasowego: Politechnika Warszawska, Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania podstawionych nitryli kwasów S-arylotioglikolowych Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania nitryli kwasów S-arylotioglikolowych o ogólnym wzo¬ rze 1, w którym Rx oznacza nizszy rodnik alkilowy nasycony lub nienasycony, rodnik aralkilowy lub rodnik alkilowy podstawiony grupa dwualkiloaminowa, lub estrowa, cyjanowa lub atomem chlorowca, R2 oznacza atom wodoru, nizszy rodnik alkilowy nasycony lub nienasycony lub tez Rx i R2 razem tworza pierscien polimetyleno- wy.Podstawione nitryle o zlozonej budowie lancucha weglowego znajduja zastosowanie jako pólprodukty w syntezie zwiazków biologicznie czynnych.Podstawione nitryle kwasów S-arylotioglikolowych otrzymuje sie znanymi sposobami na drodze kondensa¬ cji arylosulfonianów, cyjanohydryn, aldehydów z arylotiolami w srodowisku zasadowym.Jedakze znane sposoby wiaza sie z koniecznoscia stosowania toksycznych zwiazków, jak arylosulfoniany cyjanohydryn aldehydów.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wytwarzania podstawionych nitryli kwasów S-arylotioglikolo¬ wych, który odznaczalby sie prostota wykonania, latwoscia syntezy substratu oraz stosowaniem tanich i bezpiecznych czynników kondensujacych.Okazalo sie, ze podstawione nitryle kwasów S-arylotioglikolowych mozna latwo otrzymac, jesli na nitryl o wzorze ogólnym 2 dziala sie halogenoalkanami o wzorze RjX lub R2X, w których Rx i R2 maja wyzej podane naczenie, a X oznacza atomy chlorowca, zwlaszcza chloru lub bromu, albo dwuchlorowcoalkanami o wzorze ogólnym X(CH2)nX, w którym X ma wyzej podane znaczenie, a n oznacza liczbe calkowita 1-6.Proces kondensacji w sposobie wedlug wynalazku prowadzi sie w obecnosci stezonego roztworu wodoro¬ tlenku metalu alkalicznego lub wobec zawiesiny tego wodorotlenku w rozpuszczalniku organicznym, w obecnosci czwartorzedowych zwiazków amoniowych jako katalizatorów, w ilosci co najmniej 0,1 mola na 1 mol nitrylu, w temperaturze 0—100°C. Korzystne jest prowadzenie procesu kondensacji w atmosferze gazu obojetnego, np. azotu, co wplywa na zwiekszenie wydajnosci procesu.Przyklad I. Do mieszaniny 15g (0,1 mola) S-fenylotioglikolonitrylu, 20ml 50% wodnego roztworu wodorotlenku sodowego i 0,25 g chlorku trójetylobenzyloamoniowego dodaje sie przy energicznym mieszaniu H»5 g (0,11 mola) bromku etylu. Reakcje prowadzi sie w atmosferze azotu. Temperature reakcji utrzymuje sie2 77 760 30°C. Nastepnie proces prowadzi sie przez dalsze 3 godziny w40°C. W celu usuniecia nieprzereagowanego S-fenylotioglikolonitrylu do mieszaniny reakcyjnej dodaje sie 3 ml aldehydu benzoesowego i miesza w ciagu 1 godziny. Nastepnie mieszanine reakcyjna rozciencza sie woda, warstwe organiczna oddziela sie, a warstwe wodna ekstrahuje dwukrotnie 50 ml benzenu. Polaczone ekstrakty przemywa sie woda, suszy i po odpedzeniu rozpuszczalnika destyluje pod zmniejszonym cisnieniem. Otrzymuje sie 14,1 g 2-tiofenylobutyronitrylu o temperaturze wrzenia 135°C przy 10 mm Hg, co stanowi 82% wydajnosci teoretycznej.Przyklad II. Do mieszaniny 7,5 g (0,05 mola) S-fenylotioglikolonitrylu, 10 ml roztworu 50% wodoro¬ tlenku sodowego, 0,2 g chlorku trójetylobenzyloarnoniowego dodaje sie 6,4 g (0,05 mola) chlorku benzylu i miesza calosc w atmosferze azotu wciagu 2 godzin w temperaturze 40°C. Po ochlodzeniu mieszanine rozciencza sie woda, warstwe organiczna oddziela, warstwa wodna ekstrahuje dwukrotnie 20 ml benzenu.Ekstrakty benzenowe przemywa sie woda, suszy i po odparowaniu destyluje pod zmniejszonym cisnieniem.Otrzymuje sie 8,3 g 3-fenylo-2-tiofenylopropionitrylu o temperaturze wrzenia 164—165°C przy 0,3 mmHg, co stanowi 70% wydajnosci teoretycznej.Przyklad III. Do mieszaniny 7,5 g (0,05 mola) nitrylu, 0,2 g chlorku trójetylobenzyloarnoniowego, 15 ml roztworu 50% wodorotlenku sodowego i 20 ml benzenu wkrapla sie 11,5 g (0,05 m) 1,5-dwubromopenta¬ nu w czasie energicznego mieszania wciagu 1 godziny, w temperaturze 60°C. Po ochlodzeniu-mieszanine rozciencza sie woda, warstwe organiczna oddziela, a warstwe wodna ekstrahuje dwukrotnie 20 ml benzenu. Po przemyciu ekstraktów organicznych i wysuszeniu odparowuje sie rozpuszczalnik, a pozostalosc poddaje oczysz¬ czeniu j8-chloropropionianem izopropylu. Po oczyszczeniu otrzymuje sie 8,8 g nitrylu kwasu 1-S-fenylo-l-cyklo- heksylokarboksylowego o temperaturze wrzenia 134°C przy 0,5 mmHg i temperaturze topnienia 34-36°C, co stanowi 55% wydajnosci teoretycznej.Przyklad IV. Do mieszaniny 7,5 g (0,05 m) S-fenylotioglikolonitrylu, 0,2 g chlorku trójetylobenzylo¬ arnoniowego, 20 ml roztworu 50% wodnego wodorotlenku sodu wkrapla sie 13,3g (0,11 m) bromku allilu w temperaturze 40°C. Reakcje prowadzi sie w ciagu 1 godziny w temperaturze 50°C, a nastepnie rozciencza sie woda, oddziela warstwe organiczna, przemywa rozcienczonym kwaseiri solnym i destyluje, otrzymujac 13,6 g 1,1-dwuallilo-l-tiofenyloacetonitrylu o temperaturze wrzenia 111°C przy 0,4 mm Hg. Wydajnosc procesu wynosi 70%.Przyklad V. Zmieszano pod azotem 7,4 g (0,042 m) 1-tiofenylobutyronitrylu, 0,3 g TEBA, 15 ml roztworu wodnego 50% wodorotlenku sodowego iw temperaturze +5°C wkroplono 15 ml 0-chloropropionianu izopropylu. Otrzymany ester izopropylowy kwasu 4-cyjano-4-tiofenylokapronowego poddaje sie bezposrednio hydrolizie* w tym celu calosc ogrzewa sie w ciagu 1 godziny w temperaturze 50°C, rozcienczono woda, warstwe wodna zakwaszono kwasem solnym otrzymujac 10,1 g kwasu 4-cyjano-4-tiofenylokapronowego o temperaturze topnienia 112°C, co stanowi 96% wydajnosci teoretycznej.Przyklad VI. Miesza sie pod azotem 7,5 g (0,05 m) S-fenylotioglikolonitrylu, 20 ml roztworu 50% wodorotlenku sodowego, 0,2 g chlorku trójetylobenzyloarnoniowego i wkrapla sie 7 g chlorku /}-dwuetyloamino- etylowego. Reakcje prowadzi sie 1 godzine w temperaturze 40°C, a nastepnie po rozcienczeniu ekstrahuje sie benzenem, warstwe benzenowa przemywa sie rozcienczonym kwasem solnym, warstwe wodna alkalizuje i ponownie ekstrahuje benzenem. Po odparowaniu rozpuszczalnika destyluje sie produkt w temperaturze 130°C przy 0,4 mmHg otrzymujac 10,5 g 2-tiofenylo-4-dwuetyloaminobutyronitrylu, co stanowi 65% wydajnosci teoretycznej.Przyklad VII. Miesza sie pod azotem 7,5 g (0,05 m) S-fenylotioglikolonitrylu, 0,2 g chlorku trójetylo¬ benzyloarnoniowego, 20 ml roztworu 50% wodorotlenku sodowego i wkrapla sie 9 g (0,12 m) chloroacetonitrylu.Reakcje prowadzi sie 1 godzine w temperaturze 40°, a nastepnie po rozcienczeniu ekstrahuje sie benzenem i warstwa benzenowa przemywa sie rozcienczonym kwasem solnym. Po odparowaniu rozpuszczalnika otrzymuje sie 7g nitrylu kwasu 2-cyjano-2-tiofenylomalonowego o temperaturze topnienia 136°, co stanowi 61,5% wydajnosci teoretycznej.Przyklad VIII. 15 g (0,1 m) S-fenylotioglikolonitrylu miesza sie pod azotem z 15,8 g (0,1 m) 1-chloro- -3-bromopropanu, 10 g sproszkowanego wodorotlenku potasowego, 40 ml benzenu oraz 0,3 g chlorku trójetylo¬ benzyloarnoniowego. Reakcje prowadzi sie w temperaturze 50° w ciagu 2 godzin, a nastepnie po rozcienczeniu oddziela warstwe organiczna, wodna ekstrahuje benzenem, polaczone ekstrakty benzenowe przemywa sie rozcienczonym kwasem solnym, woda i po odparowaniu rozpuszczalnika destyluje sie produkt w temperaturze 140° przy 0,2 mm Hg, otrzymujac 16 g nitrylu kwasu 2-fenylo-5-chlorowalerianowego co stanowi 71% wydajnos¬ ci teoretycznej.77 760 3 PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patent'o we Sposób wytwarzania podstawionych nitryli kwasów S-arylotioglikolowych o ogólnym wzorze 1, w którym Rj oznacza nizszy rodnik alkiiowy nasycony lub nienasycony, rodnik aralkilowy lub rodnik alkilowy podstawiony grupa dwualkiloaminowa, estrowa, cyjanowa lub atomem chlorowca, R2 oznacza atom wodoru, nizszy rodnik alkilowy nasycony lub nienasycony lub tez Ri i R2 razem tworza pierscien polimetylenowy o 1—6 atomów wegla, znamienny tym, ze na nitryl o wzorze ogólnym 2, dziala sie halogenoalkanami o wzorze R{ X lub R2 X, w których Rx i R2 maja wyzej podane znaczenie, a X oznacza atomy chlorowca, zwlaszcza chloru lub bromu, albo dwuchlorowcoalkanami o wzorze ogólnym X(CH2)nX, w którym X ma wyzej podane znaczenie, a n oznacza liczbe calkowita 1—6, w obecnosci wodnego stezonego roztworu wodorotlenku metalu alkalicznego lub wobec zawiesiny tego wodorotlenku w rozpuszczalniku organicznym, w temperaturze 0— 100°C, w obecnosci czwartorzedowych zwiazków amoniowych w ilosci co najmniej 0,1 mola na 1 mol nitrylu, korzystnie w atmosfe¬ rze gazu obojetnego, np. azotu. m wzór 1 O-i- wzór 2 PL PL