PL75436B2 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL75436B2
PL75436B2 PL15491572A PL15491572A PL75436B2 PL 75436 B2 PL75436 B2 PL 75436B2 PL 15491572 A PL15491572 A PL 15491572A PL 15491572 A PL15491572 A PL 15491572A PL 75436 B2 PL75436 B2 PL 75436B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
mirrors
mirror
central
laser
equal
Prior art date
Application number
PL15491572A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL15491572A priority Critical patent/PL75436B2/pl
Publication of PL75436B2 publication Critical patent/PL75436B2/pl

Links

Landscapes

  • Lenses (AREA)

Description

Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 31.05.1973 Opis patentowy opublikowano: 20O2.1975 75436 KI. 21&53/00 MKP HOls 3/02 Twórcywynalazku: Lech Borowicz, Tadeusz Cesarz Uprawniony z patentu tymczasowego: Wojskowa Akademia Techniczna im, J-aroslawa Dabrowskiego, Warszawa (Polska) Uklad zwierciadlanych obiektywów skupiajacych lub kolimujacych promieniowanie laserowe Przedmiotem wynalazku jest uklad zwierciadla¬ nych obiektów skupiajacych lub kolimujacych pro¬ mieniowanie laserowe.Do skupiania i kolimacji promieniowania lasero¬ wego stosowane sa dotychczas dwa typy ukladów: uklady soczewkowe lub zwierciadlane bez symetrii obrotowej oraz uklady zwierciadlane z symetria obrotowa i centralnym otworem wejsciowym.W przypadku ukladów soczewkowych, soczewki wykonane sa ze szkla kwarcowego, szkla optycz¬ nego lub z krysztalów, które to materialy ograni¬ czaja zakres stosowania tych ukladów do wybra¬ nych typów laserów takich jak na przyklad lase¬ rów na ciele stalym, a ponadto materialy te daja duze straty energetyczne spowodowane odbiciem promieniowania od powierzchni soczewek i absorp¬ cja promieniowania przez soczewki. Soczewki wy¬ konywane z materialów higroskopijnych, takich jak chlorek sodu lub potasu, podlegaja natomiast szyb¬ kiej korozji i dlatego mozna je stosowac jedynie w warunkach laboratoryjnych.Uklady zwierciadlane bez symetrii obrotowej, nie dajace strat energetycznych wystepujacych w ukla¬ dach soczewkowych, maja jednak te wade, ze unie¬ mozliwiaja prawidlowa korekcje aberacji.Najbardziej korzystne ze wzgledów konstrukcyj¬ nych i korekcyjnych sa znane uklady zwierciadla¬ ne z symetria obrotowa i centralnym otworem wejsciowym. Uklady te skladaja sie ze zwierciadla wkleslego o symetrii obrotowej, posiadajacego cen- 10 15 20 25 so tralny otwór wejsciowy oraz z wypuklego zwier¬ ciadla usytuowanego ponizej zwierciadla wkleslego i przeslaniajacego otw^ór wejsciowy.Promienie laserowe padajac, przez otwór wejscio¬ wy zwierciadla wkleslego, na zwierciadlo wypukle odbijaja sie od niego i padaja na zwierciadlo wkle¬ sle, które skupia lub kolimuje promienie w zalez¬ nosci od promieni krzywizny i wzajemnego usy¬ tuowania obu zwierciadel.Uklad ten ma jednak te wade, ze nie moze byc stosowany do ksztaltowania wiazki promieni lase¬ rowych, zwlaszcza z gaussowskim rozkladem nate¬ zenia promieniowania w przekroju poprzecznym z uwagi na to, ze straty promieniowania wynika¬ jace ze zjawiska centralnego przeslaniania spowo¬ dowane odbiciem promieni z powrotem do zródla promieniowania przez otwór centralny wynosza kil¬ kadziesiat procent.Celem wynalazku jest unikniecie powyzszych wad znanego ukladu zwierciadlanego o symetrii obrotowej z centralnym otworem.Istota wynalazku polega na tym, ze uklad zwier¬ ciadlany o symetrii obrotowej z centralnym otwo¬ rem zawiera cztery zwierciadla plaskie, usytuowa¬ ne miedzy zródlem promieniowania laserowego a zwierciadlem o symetrii obrotowej. Dwa srodko¬ we zwierciadla posiadaja ksztalt najkorzystniej graniastoslupów prostych o podstawie równora¬ miennego trójkata prostokatnego i przylegaja do siebie plaszczyznami wyznaczonymi przez przypro- 75 43675 436 3 stokatne podstawy tak, ze wierzcholek kata pro¬ stego zlozonego z nich graniastoslupa lezy na osi symetrii ukladu od strony padania promieni lasero¬ wych. Dwa skrajne zwierciadla usytuowane sa tak, ze plaszczyzna odbijajaca promienie laserowe kaz¬ dego ze zwierciadel jest równolegla do naprzeciw¬ leglej plaszczyzny odbijajacej jednego ze zwiercia¬ del srodkowych.Podstawa graniastoslupa zlozonego z dwóch zwierciadel srodkowych posiada przeciwprostokat- na równa srednicy wiazki promieniowania lasero¬ wego, a odleglosc krawedzi dolnej kazdej z plasz¬ czyzn odbijajacych zwierciadel skrajnych od osi symetrii ukladu równa jest co najmniej promie¬ niowi otworu centralnego, przy czym dlugosc zwierciadel srodkowych i skrajnych równa jest co najmniej srednicy wiazki promieniowania.Dzieki zastosowaniu dodatkowego zespolu zwier¬ ciadel usytuowanych miedzy zwierciadlem o syme¬ trii obrotowej a zródlem promieniowania laserowe¬ go zostaly wyeliminowane calkowicie straty wyni¬ kajace ze zjawiska centralnego przeslaniania.Uklad wedlug wynalazku zostanie ponizej szcze¬ gólowo objasniony w przykladzie wykonania po¬ kazanym na rysunku, który przedstawia przekrój poprzeczny ukladu do skupiania promieni lasero¬ wych, zawierajacy zwierciadla srodkowe w ksztal¬ cie graniastoslupów o podstawie prostokatnego trój¬ kata równoramiennego i zwierciadla skrajne w ksztalcie plytek plaskorównoleglych.Uklad zwierciadlanych obiektów sklada sie ze znanych: zwierciadla 5 stanowiacego zwierciadlo wklesle o symetrii obrotowej z centralnym otwo¬ rem 7 i wypuklego zwierciadla 6, usytuowanego pod zwierciadlem 5, przeslaniajacego jego otwór cen¬ tralny. Ponadto uklad zawiera cztery zwierciadla 1, 2, 3 i 4 umieszczone miedzy zródlem promie¬ niowania laserowego a zwierciadlem 5. Zwierciadla 3 i 4 stanowia graniastoslupy proste o podstawie równoramiennego trójkata prostokatnego, a zwier¬ ciadla 1 i 2 plytki plaskorównolegle. Zwierciadla srodkowe 3 i 4 przylegaja do siebie plaszczyznami wyznaczonymi przez przyprostokatne podstawy tak, ze kat prosty trójkata stanowiacego podstawe zlo¬ zonego z nich graniastoslupa prostego lezy na osi symetrii ukladu od strony zródla promieni lasero¬ wych, które padaja na plaszczyzny 3a i 4a zwier¬ ciadel 3 i 4. Dlugosc przeciwprostokatnej podstawy graniastoslupa zlozonego ze zwierciadel 3 i 4 rów¬ na jest co najmniej szerokosci wiazki A promie¬ niowania laserowego. Dwa skrajne zwierciadla 1 i 2 usytuowane sa tak, ze ich plaszczyzny odbija¬ jace la i 2a sa równolegle odpowiednio do plasz¬ czyzn 3a i 4a odbijajacych promienie laserowe.Odleglosc plaszczyzn skrajnych zwierciadel 1 i 2 równa jest co najmniej srednicy otworu central- 4 nego 7. Promien krzywizny zwierciadla 6 jest tak dobrany, ze promienie odbite od plaszczyzn la i 2a a nastepnie odbite od powierzchni zwierciadla 6, padaja na zwierciadlo 5 poza otworem central- 5 nym.Wiazka promieni laserowych A pada na plasz¬ czyzny 3a i 4a zwierciadel 3 i 4, które dziela wiaz¬ ke A na dwie równe wiazki A2 i A2.Wiazka Ai odbita od plaszczyzny la zwierciadla 1, a wiazka A2 odbita od plaszczyzny 2a zwier¬ ciadla 2 padaja na powierzchnie odbijajaca zwier¬ ciadla 6. Nastepnie wiazki Ax i A2 odbite od zwier¬ ciadla 6 padaja na zwierciadlo 5. Promien krzy¬ wizny zwierciadla 6 jest tak dobrany do wymiarów zwierciadel 1 i 2 oraz do otworu centralnego zwier¬ ciadla 5, ze wszystkie promienie odbite od zwier¬ ciadla 6 padaja na powierzchnie zwierciadla 5.Promien krzywizny zwierciadla 5 dobrany jest w zaleznosci od zadanego polozenia punktu F skupiajacego promieniowanie laserowe oraz w za¬ leznosci od zadanej korekcji aberacji ukladu.W przypadku gdy uklad sluzy do kolimacji pro¬ mieni laserowych zwierciadla 5 i 6 tworza uklad lunety Galileusza. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Uklad zwierciadlanych obiektów skupiajacych lub kolimujacych promieniowanie laserowe, stano¬ wiacy uklad zwierciadlany o symetrii obrotowej z centralnym otworem, znamienny tym, ze zawie¬ ra cztery zwierciadla plaskie, usytuowane miedzy zródlem promieniowania laserowego a zwierciad¬ lem o symetrii obrotowej, z których dwa srodko¬ we zwierciadla posiadaja ksztalt najkorzystniej graniastoslupów prostych o podstawie równora¬ miennego trójkata prostokatnego i przylegaja do siebie plaszczyznami wyznaczonymi przez przypro¬ stokatne podstawy tak, ze wierzcholek kata proste¬ go zlozonego z nich graniastoslupa lezy na osi sy¬ metrii ukladu od strony padania promieni lase¬ rowych, a dwa skrajne zwierciadla plaskie, o do¬ wolnym ksztalcie, usytuowane sa tak, ze plaszczyz¬ na odbijajaca promienie laserowe kazdego z tych zwierciadel jest równolegla do naprzeciwleglej plaszczyzny odbijajacej zwierciadla srodkowego, przy czym przeciwprostokatna podstawy graniasto¬ slupa zlozonego z dwóch zwierciadel srodkowych jest równa srednicy wiazki promieniowania lase¬ rowego, natomiast odleglosc krawedzi dolnej, kaz¬ dej z plaszczyzn odbijajacych zwierciadel skraj¬ nych, od osi symetrii ukladu równa jest co naj¬ mniej promieniowi otworu centralnego, a dlugosc zwierciadel srodkowych i skrajnych równa jest co najmniej srednicy wiazki promieni laserowych. 15 20 25 30 35 40 45 50KI. 21g,53/00 75 436 MKP HOls 3/02 A 4BZ' PL PL
PL15491572A 1972-04-22 1972-04-22 PL75436B2 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL15491572A PL75436B2 (pl) 1972-04-22 1972-04-22

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL15491572A PL75436B2 (pl) 1972-04-22 1972-04-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL75436B2 true PL75436B2 (pl) 1974-12-31

Family

ID=19958302

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL15491572A PL75436B2 (pl) 1972-04-22 1972-04-22

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL75436B2 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2703948T3 (es) Procedimiento y disposición para formar una estructuración en superficies de componentes con un rayo láser
ES2904663T3 (es) Disposición óptica para la estructuración directa por interferencia láser
US4203652A (en) Beam shaping optical system
RU2686384C2 (ru) Устройство для формирования лазерного излучения
ES2629987T3 (es) Dispositivo de láser de gas
KR20190034589A (ko) 레이저 라인 조명
JP5392982B2 (ja) ビーム調整システム
DE69024954D1 (de) Strahlungsenergievorrichtung ohne optische abbildung
US4915489A (en) Prism with internal reflector
EP0649042B1 (en) Optical beam expander
US3724924A (en) Multiple focusing device
ES2913129T3 (es) Dispositivo de conformación de los rayos luminosos de un haz láser
JPS61254915A (ja) 光束径調整用の光学系
EP2476017B1 (en) Meso-optic device
PL75436B2 (pl)
JP5054691B2 (ja) 多重反射光学システム
CN109725431B (zh) 一种紧凑型大口径光栅压缩器及其光栅平行度调节方法
JP2915519B2 (ja) レーザ光の照射装置
JPS6217721A (ja) 投光装置
ES2887824T3 (es) Telescopio que comprende un espejo secundario montado sobre palas ¿de araña? con un dispositivo anti-luz parásita
JP2022516756A (ja) 特徴を有する導光板を備える装置および光を方向付けるために導光板を使用する方法
US4513434A (en) X-Ray reflective optical elements
RU1817171C (ru) Лазер
RU2022434C1 (ru) Угловой селектор
US20260011985A1 (en) Laser system for generating segmented line beam