PL71396B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL71396B1
PL71396B1 PL1969134363A PL13436369A PL71396B1 PL 71396 B1 PL71396 B1 PL 71396B1 PL 1969134363 A PL1969134363 A PL 1969134363A PL 13436369 A PL13436369 A PL 13436369A PL 71396 B1 PL71396 B1 PL 71396B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sulfur
doped
crystal
junction
type
Prior art date
Application number
PL1969134363A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Bell Telephone Laboratories Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bell Telephone Laboratories Inc filed Critical Bell Telephone Laboratories Inc
Publication of PL71396B1 publication Critical patent/PL71396B1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/26Materials of the light emitting region
    • H01L33/30Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
    • H01L33/305Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table characterised by the doping materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02367Substrates
    • H01L21/0237Materials
    • H01L21/02387Group 13/15 materials
    • H01L21/02392Phosphides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02538Group 13/15 materials
    • H01L21/02543Phosphides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/0257Doping during depositing
    • H01L21/02573Conductivity type
    • H01L21/02579P-type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/049Equivalence and options
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/107Melt
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/119Phosphides of gallium or indium

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest element elektroluminescencyjny zawierajacy krysztal fo¬ sforku galu, posiadajacy w siatce krystalicznej pu¬ lapki azotowe, który posiada strefe o przewodni¬ ctwie typu p i strefe o pi^wodnictwie typu n, tworzace zlacze p—n.Szybki ii rotaszerzajacy sie irozwój wielu dziedzin, które wymagaja optycznych sygnalizacji i wskaz¬ ników, takich jak na przyklad dziedzina maszyn matematycznych,, narzucily potrzebe poszukiwania nowych elementów emitujacych swiatlo, które maja dluga zywotnosc, silne swiecenie, niezawodnosc i prostote. W dodatku jest pozadane, aby te przy¬ rzady pracowaly przy niskich napieciach i ipradach.Ostatnio coraz szersze zastosowanie maja elemen¬ ty 'zlaczowe z tak zwanymi pulapkami izoelektro- nicznymi, które dzialaja jako osrodki radiacyjne, tym samym wytwarzajac luminescencje przy przy¬ lozeniu napiecia wywolujacego przeplyw pradu.Przypuszcza sie, ze dzialanie tych pulapek polega na tym, ze sa one utworzone przez jeden pierwia¬ stek, zastepujacy w siatce krystalicznej drugi pier¬ wiastek z tej samej kolumny ukladu okresowego, chociaz osrodek formowany w ten sposób nie ma ladunku sieci, wywoluje on defekt sieci krystalicz¬ nej, który przyciaga dziury i elektrony. Dziura i e- lektron przyciagane do tego miejsca rekombinuja wytwarzajac promieniowanie. Przykladem materia¬ lu z izoelektrcffiicznymi pulapkami jest fosforek ga¬ lu domieszkowany azotem, w (którym azot izoelek- 10 15 20 25 30 tronicznie wymienia fosfor w siatce krystalicznej, tworzac w ten sposób pulapki* do których sa frirzy- ciagane zarówno dziury jak i elektattiy. Pewne zwiazki, gdy sa domieszkowane odpowiednimi za¬ nieczyszczeniami donozowymi i akceptorowymi, wytwarzaja zielona luminescencje w temperaturze pokojowej przy przylozeniu do zlacza napiecia sta¬ lego o wartosci kilku voitów i charakteryzuja sie dluga zywotnoscia i niezawodnoscia.W diodzie elektroluminescencyjnej ze zlaczem pnn opisywanego typu, calkowity prad zmienia sie wedlug ffiuntocji exp qV/mKT, gdzie q jest ladun¬ kiem, V jest malpieciem polaryzacji, k jest stala Boltzmana^ T jest temperatura w stopniach Kelvi- ina, a n jest stala, w przyblizemu równa 2. Nato¬ miast emitowane swiatlo zmienia sie wedlug funk¬ cji exp qV/kT.Prad iniekcyjny, który decyduje o ilosci emito¬ wanego swiatla, jest jedynie mala czescia calkowi¬ tego pradu. Oznacza to, ze wiekszosc pradu stanowi strate dla procesu radiacyjnego wskutek (rekombi¬ nacji nieradiacyjnych. Takie nieradiacyjne rekom¬ binacje maja miejsce w osrodkach wygaszania w zlaczu i daja efekt zmniejszania pradu pozostajace¬ go dla procesu rekombinacji radiacyjnej.Stwierdzono, ze wzrost poziomu domieszkowa* nia zanieczyszczenia denarowego, którym moze byc na przyklad tellur lub selen, powoduje szybki spa¬ dek wydajnosci emitowania swiatla. Jest to przy¬ pasywane temu faktowi, ze dodatkowe atomy dono- 71 39671 396 rowe wytwarzaja dodatkowe osrodki wygaszania z szybkoscia wieksza niz szybkosc wzrostu pradu iniekcyjnego. Ponadto stwierdzono, ze uzycie siarki jako zanieczyszczenia donorowego powoduje wy¬ twarzanie osrodków wygaszania,, które jest co naj- 5 mniej o rzad wielkosci mniejsze niz dla telluru czy selenu.Niniejszy wynalazek dostarcza elementu elektro- lumiinesicencyjinego, zawierajacego krysztal fosforku galu, posiadajacy pulapki .azotowe w siatce krysta- 10 licznej, który zawiera strefe o przewodnictwie typu p i strefe o przewodnictwie typu in, które formuja zlacze p-n. W elemencie tym strefa o przewodni¬ ctwie typu n zawiera siarke o koncentracji odpo¬ wiedniej do wytworzenia nadmiaru donorów nad 15 akceptorami w zakresie 5 X 1016 do 2 X 1017 cm.-3.Stwierdzono,, ze gdy poziom domieszkowania siar¬ ki jest taki,, ze róznica w ilosci atomów donora- wych i akceptorowych jest w wyzej wymienionym zakresie, element wedlug wynalazku osiaga wyso- 20 kie wydajnosci.. Chociaz te wydajnosci sa nizsze niz dla porównania w diodach o emisji czerwonej, to czulosc ludzkiego oka na swiatlo zielone jest w przyblizeniu trzydziestokrotnie wieksza niz czulosc na czerwien,, zatem jaskrawosc zielonej diody jest porównywalna,, a przy niskich poziomach siarki na¬ wet wieksza niz jaskrawosc diod czerwonych.W przykladzie wykonania niniejszego 'wynalazku diody zlaczowe z GaP sa wykonywane sposobem, przy którym epitaksjalne narastanie warstwy do- 30 mieszkowanego azotem i domieszkowanego cynkiem fosforku galu nastepuje na domieszkowanym siar¬ ka zarodku z fosforku galu. Utrzymywany jest ni¬ ski poziom siarki, w zakresie wymienionym powy¬ zej. Przy przylozeniu odpowiedniej polaryzacji,, to 35 jest napiecia 2V,, dioda emituje zielone swiatlo z obszaru n z wydajnoscia przynajmniej, o rzad wiel¬ kosci wyzsza niz podobne diody wykorzystujace ja¬ ko domieszke tellur lub selen. Diody wykonane w ten sposób wykazuja wzrost wydajnosci ze wzro- 40 stem pradu bez nasycenia az ido wartosci pradu 00 najmniej 1 A.Wynalazek jest przykladowo objasniony na, ry¬ sunku,, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie element wedlug wynalazku, a fig. 2 przedstawia 45 wylkres, obrazujacy zmiany wydajnosci w funkcji zmian poziomu domieszkowania.Na fig.. 1 przedstawiono element elektrolumine¬ scencyjny ze zlaczem p-n„ który w temperaturze pokojowej emituje swiatlo w zielonym zakresie wi- ^ dma„ na przyklad w pasmie o szerokosci okolo 300 ,A° polozonym wokól dlugosci fali 5650 A°.Element 11 posiada krysztal 12 z fosforku galu domieszkowanego siarka, w celu wytworzenia w krysztale przewodnictwa typu n. Warstwa 13 o prze- 55 wodnictwie typu p z domieszkowanego azotem, do¬ mieszkowanego cynkiem GaP jest osadzana na krysztale 12, najlepiej na 'drodze epitaksjalnego wzrostu, tworzac zlacze p-n.Elektryczne kontakty 16 i 17 odpowiednio do eo warstw lub stref typu p i n moga byc wykonane z jialkiegos odpowiedniego materialu, takiego jak na przyklad stop zloto cynk lub cyna. Pomiedzy kon¬ taktami 16 i 17 jest wlaczone w kierunku przewo¬ dzenia zródlo 18 napiecia, pokazane schematycznie 65 jako bateria, a w celu kontrolowania wartosci na¬ piecia polaryzujacego przykladanego do elementu 11, szeregowo z tym zródlem wlaczony jest zmien¬ ny opornik 19.Podczas pracy, gdy odpowiednie napiecie, na przyklad 2 lub 3 V, jest przylozone ido elementu 11, emituje on zielone swiatlo. Zgodnie z aktualna teo¬ ria, elektrony z obszaru 12 typu n sa przesuwane poprzez zlacze 14 do domieszkowanego azotem ob¬ szaru typu p, gdzie sa one wychwytywane w miej¬ scach izoeHektronicznych pulapek, wraz z dziurami istniejacymii w obszarze typu p. W ten isposób wy¬ chwytywane 'dziury i elektrony rekombinuja wy¬ twarzajac zielone swiatlo. Jedynie mala czesc cal¬ kowitego pradu wytwarzanego przez przylozenie napiecia jest zuzywana w procesie rekombinacji radiacyjnej, reszta jest wytracana na nieradiacyjina rekombinacje elektronów i dziur w „osrodkach .wy¬ gaszania" w obszarze zlacza. Stwierdzono, ze próba zwiekszenia pradu iniekcyjinego poprzez zwiekszone domieszkowanie donorowo zwieksza „osrodki wy¬ gaszania" w wiekszym nawet stopniu, tym samym zmniejszajac wydajnosc, zamiast zakladanego pier¬ wotnie wzrostu wydajnosci.Na fig. i2 przedstawiono wykres elektrolumines- icencyjnej wydajinosci w funkcji róznicy koncen¬ tracji idonorów ND i akceptorów NA. Mozna zauwa¬ zyc, ze domieszkowanie sianka wedlug ikrzywej na fig. 2 daje pozadane, wyzsze wydajnosci dla dowol¬ nej koncentracji donorowej ND niz w przypadku telluru, co przedstawia krzywa na fig, 2 i ze wy¬ dajnosc obniza sie ze wzrostem koncentracji dono¬ rów z o wiele mniejsza szybkoscia niz dla domiesz¬ ki teliurowej. Chociaz tego nie pokazano, selen za¬ chowuje sie zupelnie podobnie ido telluru. Maksy¬ malna wydajnosc dla diomieisizki siarkowej na wy¬ kresie z fig. 2 wystepuje dla nadmiaru donorowej koncentracji siarki okolo 5 X1016 -do 2 X1017 na centymetr siescienny. Przy obecnej technice jest niezmiernie trudno uzyskiwac koncentracje siarki nizsze niz 5 X 1016 na om3, aczkolwiek nalezy zau¬ wazyc, ze nawet wyzsze wydajnosci moglyby byc uzyskiwane przy jeszcze nizszej koncentracji siar¬ ki. Pomiary do wykresu z fig. 2 byly wykonywane przy calkowitym pradzie o wartosci 5 imA. W ten sposób na fig. 2 rzedna przedstawia prad, a odcie¬ ta przedstawia przewage domieszki donorowej mad akceptorowa. Zwiekszenie pradu nie zmienia ksztaltu krzywych, ilecz jedynie przesuwa je w gó¬ re, dajac zwiekszona wydajnosc calkowita.Tak wiec zostala wynaleziona technika wytwa¬ rzania diod typu pokazanego na fig. 1 o optymal¬ nych koncentracjach siarki, w celu luzyskania mak¬ symalnej wydajnosci pokazanej na fig. 2.Element 11 jest wykonywany przez narastanie domieszkowanego siarka krysztalu GaP w sposób nastepujacy. Okolo 50 gramów galu wklada sie do chemicznie czystego i odgazowanego naczynia kwarcowego, które jest nastepnie oprózniane do cisnienia lO-6 mm Hg podczas ogrzewania do tem¬ peratury il000°C w ciagu jednej godziny. Nastepnie do naczynia wklada sie 5 igramów GaP i 100 mi- krogramów Ga^ i naczynie to jest ponownie oprózniane ido cisnienia 10-6 mm Hg i uszczelniane.Po uszczelnieniu naczynie jest wstawiane do pieca i podgrzewane do temperatury 1200°C na okres szesciu godzin, lub do czasu osiagniecia stanu rów-71396 6 nowagi. Potem jest ono chlodzone z szyibkoscia 30°C na 'gadzine do temperatury pokojowej, po czym jest ono otwierane a narosle (krysztaly GaP, do¬ mieszkowane siarka ido koncentracji 1017 cm-8 sa oddzielane od galu ipirzez wytrawianie w H1NO3.Koncentracja siarki moze byc zmieniana w wyzej wsporniniainych granicach przez zmiane ilosci GaaSg, dodawianej ido naczynia. Tak wytworzony krysztal o przewodnictwie typu n zawiera równiez szczatko¬ wa idomieszke azotu, a wlasciwolsci moga ibyc po¬ lepszone przez dodanie kontrolowanych ilosci azotu.[Krysztal GaP jesit polerowany w plaszczyznie 111, trawiony, oczyszczany i umieszczany we wzdluznie przechylnej lódce, tak ze fosforowa po¬ wierzchnia iczolowa jest napromieniona. W dlrugim koncu lódki umieszcza sie (2 gramy Ga i 0,2 grama GaP a lódka jest umieszczona w piecu z gradien¬ tem temperatuirowym w jego miejscu o tempera¬ turze pokojowej. Przez piec kierowany jest prze¬ plyw pary, zawierajacej mieszanine H2 i gazu NHS, a w punkcie pieca .posiadaj acyim temperature 600°C jest umieszczana lódka zawierajaca icynk. Przechyl¬ na lódka jest nastepnie przesuwana w piecu do obszaru o (temperaturze 900^, gdzie w tej prze¬ chylnej lódce cynk reaguje z galem. Przechylna lódka jest potem podnoszona do obszaru o tempe¬ raturze okolo 1040°C, a Ga, GaP, cynik i NH3 osia¬ gaja warunek równowagi tworzac domieszkowany azotem, domieszkowany cynkiem GaP rozpuszczo¬ ny w roztworze galu. Domieszkowanie cynkiem jest takie, ze powoduje koncentracje akceptorów okolo 5X1017 cm-8. Lódka jest nastepnie przechy¬ lana tak, ze roztwór galu przeplywa nad domiesz¬ kowanym siarka krysztalem GaP. Na tym etapie temperatura jest nieco podwyzszona, to jest o 1° lub 2°C, w celu zwiOzenia powierzchni krysztalu.Piec jest nastepnie chlodzony do temperatury 900°C w ciagu 15 do 30 minut, po czym lódka jest prze¬ suwana do zimnego konca pieca. Lódka jest potem wyciagana z pieca i domieszkowany siarka krysztal fosforku galu typu m, posiadajacy narosnieta epi- 5 taksjalnie warstwe typu p, tworzaca zlacze, jest wyjmowany. Krysztal jest nastepnie obrabiany cieplnie w powietrzu o teirnperaturze 625°C w ciagu póltorej godziny w celu poprawienia wydajnosci.Uformowana w ten sposób dioda jest z kolei ob- 10 cinana,, polerowana oraz zostaja do niej dolaczone kontakty.Opisany sposób jest niezawodna droga wytwa¬ rzania jednolicie domieszkowanych diod z GaP.Zwazywszy, ze zasady niniejszego wynalazku moga 15 byc stosowane do innych materialów, Iwortzacych inne typy diod elektroluminesciencyjnych, niektóre z powyzszych etapów moga byc zmieniane w zalez¬ nosci od specyfiki materialów. Sposób zapewnia wy¬ soki stopien kontroli nad domieszkowaniem siarki 20 w celu uzyskania optymalnej wydajnosci, bez wzgledu na typy wchodzacych w gre materialów. iDla specjalistów bedzie oczywiste,, ze wzrost do- mieszkowaneji siarka warstwy na zarodku domiesz¬ kowanym cynkiem da takie same wyniki, jakie zo- 25 staly tutaj opisane. PL

Claims (5)

  1. Zastrzezenie patentowe 1. Element elektroluminescencyjny, zawierajacy 30 krysztal [fosforku galu, z pulapkami azotowymi w siatce krystalicznej, który posiada strefe o prze- wodniiictwie typu p i strefe o przewodnictwie typu n, tworzace zlacze p-n, znamienny tym, ze strefa (12) o przewodnictwie typu n zawiera siarke o koneen- 35 tracji odpowiedniej, do wytworzenia nadmiaru do¬ norów (ND) nad akceptorami (NA) w zakresie 5 x 1016 do 2 x 1017 cm3.KI. 21f,89/03 71396 MKP H05b 33/16
  2. 2. FIG I li 17 10"
  3. 3. FIG. 2 i i io-*i-
  4. 4. O
  5. 5. *»-1- dem»tjik6van°ie $*»crk« dorwUiikoWome fcJ/urfcm 10 ¦ 10' 10' /V/-Afc (CM~$) RSW Zakl. Graf. W-wa, ul. Srebrna 16, z. 350-74/O — 120 + 20 egz. Cena 10 zl PL
PL1969134363A 1968-06-28 1969-06-24 PL71396B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US74090368A 1968-06-28 1968-06-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL71396B1 true PL71396B1 (pl) 1974-06-29

Family

ID=24978545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1969134363A PL71396B1 (pl) 1968-06-28 1969-06-24

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3592704A (pl)
JP (1) JPS4814508B1 (pl)
BE (1) BE734071A (pl)
CH (1) CH494518A (pl)
CS (1) CS162686B2 (pl)
DE (1) DE1932130B2 (pl)
FR (1) FR2011768A1 (pl)
GB (1) GB1279674A (pl)
NL (1) NL149642B (pl)
PL (1) PL71396B1 (pl)
SE (1) SE342965B (pl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3689330A (en) * 1969-04-18 1972-09-05 Sony Corp Method of making a luminescent diode
BE754437A (fr) * 1969-08-08 1971-01-18 Western Electric Co Dispositif electroluminescent ameliore
BE789732A (fr) * 1971-10-08 1973-02-01 Western Electric Co Laser a cristal de semi-conducteur ayant un intervalle indirectentre bandes d'energie
US3870575A (en) * 1972-03-21 1975-03-11 Sony Corp Fabricating a gallium phosphide device
US3865655A (en) * 1973-09-24 1975-02-11 Rca Corp Method for diffusing impurities into nitride semiconductor crystals
JPS5596629A (en) * 1979-01-17 1980-07-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of epitaxially growing in liquid phase

Also Published As

Publication number Publication date
US3592704A (en) 1971-07-13
JPS4814508B1 (pl) 1973-05-08
NL149642B (nl) 1976-05-17
SE342965B (pl) 1972-02-21
NL6909924A (pl) 1969-12-30
GB1279674A (en) 1972-06-28
CS162686B2 (pl) 1975-07-15
FR2011768A1 (pl) 1970-03-06
DE1932130A1 (de) 1970-01-02
CH494518A (de) 1970-07-31
BE734071A (pl) 1969-11-17
DE1932130B2 (de) 1971-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Logan et al. Efficient green electroluminescent junctions in GaP
JP3078611B2 (ja) Iib−via族半導体層を含む発光半導体デバイス
RU2127478C1 (ru) Сине-зеленый лазерный диод
Yoneda et al. Growth of undoped, high purity, high resistivity ZnSe layers by molecular beam epitaxy
Döhler et al. In situ grown‐in selective contacts to n‐i‐p‐i doping superlattice crystals using molecular beam epitaxial growth through a shadow mask
US3603833A (en) Electroluminescent junction semiconductor with controllable combination colors
Logan et al. P‐N junctions in GaP with external electroluminescence efficiency∼ 2% AT 25 C
Fabre et al. Thermally stimulated current measurements and their correlation with efficiency and degradation in GAP LED'S
PL71396B1 (pl)
US3496429A (en) Solid state light sources
Bergh Bulk degradation of GaP red LEDs
US3390311A (en) Seleno-telluride p-nu junction device utilizing deep trapping states
US3366819A (en) Light emitting semiconductor device
US4813049A (en) Semimagnetic semiconductor laser
US3868281A (en) Luminescent device and method therefor
US3806774A (en) Bistable light emitting devices
Kukimoto et al. Blue emission from forward-biased ZnS diodes
US3934260A (en) Red light-emitting gallium phosphide device
US5032539A (en) Method of manufacturing green light emitting diode
Wagner Chalcopyrites
Gunshor et al. Blue lasers on the horizon
US3265990A (en) Stimulated emission of radiation in semiconductor devices
RU2151457C1 (ru) Способ изготовления омического контактного слоя и полупроводниковое устройство ii-vi групп
Wu et al. Temperature dependence of the photoluminescence of Zn‐doped In0. 32Ga0. 68P grown on GaAs0. 61P0. 39 substrates
Kressel et al. A Review of Gradual Degradation Phenomena in Electroluminescent Diodes