PL7064B1 - Sposób przeróbki jednoczesnie wielu strumieni gazowych o róznej zawartosci S02 i H20 dla wytwarzania kwasu siarkowego, lugów siarczynowych i tym podobnych produktów. - Google Patents

Description

Wykorzystanie gazów, zawiera j acych S02f w celu wytwarzania kwasu siarkowe¬ go, lugów siarczynowych i tym podobnych produktów odbywalo sie dotychczas w ten sposób, ze gaz w jednym strumieniu cia¬ glym lub przerywanym, przeplywa przez urzadzenie, np. w fabryce kwasu siarkowe¬ go lub przez wieze do wyrobu lugów siar¬ czynowych; zasada tego rodzaju pracy jest ujecie powstalych przy odsiarkowa- niu gazów, zawierajacych S021 w postaci jednego strumienia gazu. Prazenie czyli rozklad, zawierajacych siarke materja- lów, odbywa sie w piecach róznej kon¬ strukcji, w których, zaleznie od rodzaju pracy, zawierajacy S02 strumien, gazu przeplywa w jednym lub wielu miejscach; do pierwszych naleza, np. piece, w któ¬ rych piryty prazy sie w postaci rozdrob¬ nionej lub kawalkach, do drugich — urza¬ dzenie do spiekania rud, np. wedlug Dwight-Lloyd'a, wj których, zawierajace siarke rudy zostaja odsiarkowane i w da¬ nym razie jednoczesnie ulegaja aglomera¬ cji. Te urzadzenia, np, wedlug Dwight- Llyod'a umozliwiaja podzial gazów we¬ dlug ich róznego skladu, np. wedlug róz¬ nej zawartosci S02 i H20 tak, ze jest sie w moznosci przy tym sposobie powstaly gaz bogatszy w S02 oddzielic od gazu biedniejszego w S02, a to w celu zuzytko¬ wania gazu bogatszego, gdy gaz biedniej-szy uchodzi w powietrze. Ulatniajacy sie gaz, zawierajacy S02, stanowi strate, a prócz tego powoduje mozliwosc uszkodze¬ nia czesci urzadzenia. W miedzyczasie konstrukcje urzadzen do spiekania rud u- doskonalono, a to w tym celu, aby w po¬ szczególnych miejscach przyrzadu dopro¬ wadzane dla reakcji powietrze zostalo zuzytkowane w odpowiedni sposób, to znaczy zostalo ujete calkowicie lub do¬ prowadzane porcjami, z drugiej zas stro¬ ny tloczenie powietrza lub ssanie, pod dzialaniem których to czynników oddziel¬ ne czesci aparatów pracuja najwlasciwiej, zostaly naj odpowiedniej dobrane; rów¬ niez umozliwionem zostalo, aby powstaly w koncu aparatury gaz biedny w S02 mógl byc ponownió zuzytkowany w przed¬ nich czesciach aparatury. Te ulepszenia u- mozliwiaja wytwarzajacy sie gaz o malej zawartosci S02 jakosciowo i ilosciowo przetwarzac, lecz, w zaleznosci od rodzaju i ilosci przerabianego materjalu, zawsze istnieje róznica pomiedzy jakoscia i iloscia gazu bogatego i biednego, którego jednak oddzielne odprowadzenie jest umozli¬ wione.Niniejszy wynalazek polega na tern, ze gaz bogatszy w S02 zostaje prowadzony normalna droga dla przeróbki przez urza¬ dzenie przetwórcze (np. fabryka kwasu siarkowego lub urzadzenie dla wytwarza¬ nia lugów siarczynowych), gdy natomiast gai biedniej szy wzglednie zawieraj acy wode (wzglednie po absorpcji zapomoca odpowiednich srodków) zostaje fwprowa¬ dzony do obiegu fabrycznego, gdzie roz¬ cienczenie lub wieksza zawartosc wody i tym podobne jest nieszkodliwa lub nawet pozyteczna, np. przy fabrykacji kwasu siarkowego w srodkowej lub tylnej czesci urzadzenia oraz przy fabrykacji lugów siarczynowych po absorbeji S02 zapomo¬ ca wody.Tak, np. uchodzace z przyrzadu do spiekania strumienie gazów, czy to sa dwa lub wiecej strumieni wedlug niniejszego wynalazku nie lacza sie razem, lecz od¬ dzielnie zostaja zuzytkowane do wyrobu kwasu siarkowego lub lugów siarczyno¬ wych.Przy procesie wytwarzania kwasu siar¬ kowego zmienia sie procentowosc uzytych azotków wraz ze zmniejszeniem zawarto¬ sci S02 w gazie i z tego wzgledu mozna gaz z wysoka zawartoscia S02 wprowa¬ dzic do przedniej czesci urzadzenia, a gaz z mala zawartoscia S02 — do srodkowej i tylnej czesci urzadzenia, podczas gdy przy przeróbce jednego tylko strumienia gazu bywa jednoczesnie przerabiany gaz z mala zawartoscia S02.Z drugiej strony jest mozliwe w urza¬ dzeniu do wyrobu lugów siarczynowych gaz bogaty w S02 wprowadzic wprost do przeznaczonych do tego celu wiez lub ka¬ dzi, a gaz biedny w S02 wprowadzic np. do równolegle pracujacego urzadzenia ab- sorbcyjnego, w którem znajduje sie wapno i woda, lub nawet tylko woda w celu jak najobfitszego pochloniecia S02, aby na¬ stepnie wode, zawierajaca S02, zuzytko¬ wac w urzadzeniu wiezowem dla wyrobu lugów siarczynowych.W ten sposób jest mozliwe miarkowac wedlug potrzeby sklad lugów. Poniewaz odsiarkowanie przy jednoczesnej aglome¬ racji odbywa sie przy dodaniu wody, wiec czesc gazu biedniejszego w S02 zawiera pewien nadmiar wody. Ta ilosc wody, któ¬ ra np. przy fabrykacji kwasu siarkowego moze dzialac szkodliwie, gdyz utrudnia a nawet uniemozliwia wytwarzanie kwasu siarkowego o mocy 66°Be w przedniej cze¬ sci urzadzenia, przechodzi do srodkowej lub tylnej czesci urzadzenia, w którem by¬ wa przerabiany gaz biedniejszy w S02 i który i tak zuzytkowuje wode do reakcji.Przy urzadzeniach do wyrobu lugów siar¬ czynowych dodawanie wody nie odgrywa roli, nie jest ona tu szkodliwa.Równiez przy innych urzadzeniach — 2 —prazalnych jest mozliwe otrzymywanie i oddzielne zuzytkowanie gazów o róznym skladzie. Gdy, np. prazalnia sklada sie z kilku czesci, moze byc korzystne prazenie w jednej czesci biedniejszych w siarke pi¬ rytów lub rud, w innem zas — bogatszych pirytów lub rud i oddzielne traktowanie otrzymywanych przytem bogatszych i biedniejszych gazów wedlug powyzej opi¬ sanego sposobu. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe. Sposób przerobu dwóch lub kilku stru¬ mieni gazowych o róznej zawartosci S02 i H20 lub obydwóch czynników, znamien¬ ny tern, ze gaz bogatszy w S02 normalnie bywa wprowadzony do urzadzenia wy¬ twórczego (np. fabryka kwasu siarkowego lub urzadzenie do wytwarzania lugów siar¬ czynowych) w celu dalszego przerobu, podczas gdy biedniejszy gaz, wzglednie zawierajacy wode (wzglednie po absorb- cji zapomoca odpowiedniego srodka) bywa wprowadzany w takiem miejscu do obiegu fabrycznego, gdzie rozcienczenie lub wiek¬ sza zawartosc wody lub temu podobnego skladnika jest nieszkodliwa, wzglednie nawet pozyteczna, np. przy fabrykacji kwasu siarkowego w srodkowej lub tylnej czesci urzadzenia, a przy fabrykacji lu¬ gów siarczynowych — po absorbcji S02 zapomoca wody. Meta 11 bank und Metallurgische Ges e llschaf t Aktiengesel 1 schaf t. Zastepca: M. Brokman, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego. Warszaw- PL PL