PL65904B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 02.VIII.1968 (P 128 480) 30.IX.1972 65904 KI. 57b, 11/16 MKP G03c 11/16 Twórca wynalazku: Krzysztof Czarnomski Wlasciciel patentu: Warszawskie Zaklady Fotochemiczne, Warszawa (Polska) Sposób suszenia emulsji fotograficznej Przedmiotem wynalazku jest sposób suszenia emulsji fotograficznej.W procesie wytwarzania materialów fotograficz¬ nych, jedna ze skladowych operacji tego procesu jest nanoszenie cieklej emulsji fotograficznej lub nieswiatloczulej warstwy pomocniczej (przeciwod¬ blaskowej, ochronnej, izolacyjnej), równomierna warstwa na poruszajace sie podloze. Bezposrednio po naniesieniu, warstwa emulsji, lub komplet kil¬ ku naniesionych równoczesnie warstw, sa podda¬ wane suszeniu, przeprowadzanemu w takich wa¬ runkach, by zostal zachowany warunek równo¬ miernosci warstwy na calej powierzchni. Ciekla emulsja lub roztwór warstwy pomocniczej, zawie¬ rajace kilkuprocentowy roztwór wodny zelatyny, sa nakladane warstwami o grubosci nie przekra¬ czajacej 0,2 mm. iZnane sa dwa sposoby suszenia warstw emulsji fotograficznej i pomocniczej, zapewniajace wysu¬ szenie ich z zachowaniem równomiernosci na ca¬ lej powierzchni. Pierwszy z nich polega na po¬ czatkowym suszeniu cieklej warstwy w bardzo la¬ godnych warunkach i przy utrzymywaniu jej w polozeniu poziomym. Po odparowaniu w ten spo¬ sób czesci wody, w stopniu zapewniajacym uzy¬ skanie odpowiednio duzej wytrzymalosci mecha¬ nicznej warstwy, dosusza sie ja w znanych su¬ szarniach typu festonowego, tunelowego lub spi¬ ralnego. Sposób ten jest malo rozpowszechniony.Drugi sposób, nzacznie bardziej rozpowszechniony, polega na wstepnym przeprowadzeniu cieklej war¬ stwy w stan zelu, przez co uzyskuje sie wytrzy¬ malosc mechaniczna odpowiednia dla nastepnego wysuszenia jej w suszarniach jak w pierwszym 5 sposobie. Przeprowadzenie cieklej warstwy w zel osiaga sie poprzez ochlodzenie jej wraz z podlo¬ zem do temperatury nizszej od temperatury zelo¬ wania emulsji lub roztworu warstwy pomocniczej.Znane metody ochladzania cieklej warstwy emul- 10 sji, lub warstwy pomocniczej, polegaja na przepro¬ wadzaniu podloza z warstwa przez kanaly, w któ¬ rych przeciwpradowo w stosunku do kierunku ru¬ chu podloza nawiewane jest powietrze o tempe¬ raturze 0°—4°C. Powietrze to jest zazwyczaj utrzy- 15 mywane w obiegu zamknietym: po wyjsciu z ka¬ nalów kieruje sie je do urzadzenia chlodzacego, a nastepnie, po przefiltrowamiu, ponownie do ka¬ nalów.Po chlodzenia powietrza stosowane sa dwa typy 20 urzadzen. Naleza do nich wymienniki bezprzepo- nowe w postaci komór natryskowych, w których powietrze przeplywa we wspól- lub przeciwpradzie do rozpylanej cieczy chlodzacej oraz wymienniki przeponowe, w których czynnik chlodzacy nie ma 25 bezposredniego kontaktu z powietrzem. Przy sto¬ sowaniu wymienników bezprzeponowych i cieczy chlodzacych absorbujacych wilgoc z powietrza, jak np. glikolu dwuetylenowego, wilgotnosc wzgledna powietrza opuszczajacego wymiennik jest zawarta 30 w granicach 35%—65°/o wilgotnosci wzglednej — 6590465904 4 zaleznie od stopnia rozcienczenia woda cieczy chlo¬ dzacej. W przypadku chlodzenia przeponowego zimne powietrze opuszczajace chlodnice ma wil¬ gotnosc bliska 100% wilgotnosci wzglednej.Przy chlodzeniu cieklej warstwy emulsji foto¬ graficznej, lub warstwy pomocniczej, powietrzem ochlodzonym wedlug jednego z opisanych sposo¬ bów, obnizenie temperatury warstwy i podloza uzy¬ skuje sie w wyniku konwekcji ciepla. Czas po¬ trzebny na ochlodzenie w ten sposób warstwy emulsji, lub pomocniczej, do temperatury nizszej od jej temperatury zelowania wynosi 1 minute dla wiekszosci emulsji i stad wynika obowiazujaca do¬ tychczas zasada konstrukcji kanalów chlodniczych, gloszaca, ze dlugosc kanalu wyrazona w metrach, powinna byc liczbowo równa predkosci przesuwu podloza przez kanal, wyrazonej w ¦m/min.Sposób wedlug wynalazku zapewnia osiagniecie zzelowania warstwy emulsji, lub warstwy pomocni7 czej, w znacznie krótszym czasie, przyczym w trakcie procesu zelowania zostaje odprowadzona z warstwy czesc zawartej w niej wody.Zasada procesu wedlug wynalazku jest ochlo¬ dzenie emulsji i podloza przez nadmuch powietrza o niskiej wilgotnosci wzglednej, nie przekraczaja¬ cej 20%, korzystnie — w granitach 8—14% i w temperaturze 15°—25°C, skierowanego wspólpra- dowo do kierunku ruchu podloza. W tych warun¬ kach preznosc pary wodnej nad powierzchnia ciek¬ lej emulsji jest znazcnie wyzsza niz w tempera¬ turze 0°—4°C, a niska wilgotnosc wzgledna po¬ wietrza powoduje szybkie odparowanie wody z emulsji. W trakcie odparowania zostaje pochloniete 5 cieplo parowania wody, wskutek czego tempera¬ tura warstwy obniza sie i osiaga poziom zzelo¬ wania. W tym procesie dominuja przemiany adia¬ batyczne — zmiana ciepla temperaturowego ukladu w cieplo parowania wody, natomiast konwekcja 10 odgrywa znikoma role.Zastosowanie procesu wedlug wynalazku, dzieki wykorzystaniu szybciej od konwekcji przebiegaja¬ cego procesu adiabatycznego, umozliwia skrócenie czasu, potrzebnego dla zzelowania cieklych warstw 15 fotograficznych do 0,4—'0,6 min. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe 20 Sposób suszenia emulsji fotograficznej naniesio¬ nej na. podloze warstwa o grubosci nie wiekszej niz 0,2 mm, poprzez wstepne zzelowanie i nastepne dosuszanie w suszarniach w szczególnosci typu fe¬ st on owego, znamienny tym, ze zelowanie emulsji 25 prowadzi sie poprzez wspólpradowy do chlodzone¬ go materialu nadmuch powietrza o wilgotnosci wzglednej nie wiekszej niz 20%, korzystnie — w granicach 8—14%, i w temperaturze 15°—25°C, a zwlaszcza 20°C. WDA-l. Zam. 3512, naklad 195 egz. Cena zl 10,— PL PL