PL64575B1 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 10.111.1972 64575 KI, 8 », 25/01 MKP B 05 c, 1/00 aiBLiOTSKA] lUKD 5 h!*'^ Wspóltwórcy wynalazku: Jerzy Morawski, Czeslaw Rogowski, Wieslaw Czaja, Tomasz Janusz, Jerzy Zawadzki Wlasciciel patentu; Biuro Projektów Przemyslu Gumowego, Warszawa (Polska) Urzadzenie do nanoszenia klejonki na nitki osnowy Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do na¬ noszenia bezwodnej klejonki wykonanej z miesza¬ niny sztucznego wosku, tlenku etylenu, alkoholu laurylowego i gliceryny na nitki osnowy, zwlaszcza osnowy wykonanej z przedzy z wlókien ciaglych.Znane urzadzenia do nanoszenia klejonki na osnowe mialy nanoszace walki o nie kontrolowa¬ nym sposobie nanoszenia oraz dodatkowe walki powodujace wyciskanie z osnowy nadmiaru kle¬ jonki.Walki nanoszace klejonke byly pokryte miekkim materialem, zazwyczaj filcem, nasyconym klejonka przez zanurzanie ich w wannie. Do nanoszenia kle¬ jonki byly równiez uzywane urzadzenia wyposa¬ zone w tasmy filcowe. Inne urzadzenia byly wy¬ posazone w dysze, które w sposób bezposredni na¬ nosily klejonke na osnowe. Rozwiazania te oparte na wspólbieznych walkach lub filcowych transpor- \ terach, na skutek braku regulacji wzajemnie zróz- \ nicowanej predkosci poszczególnych walków, nie 'i stwarzaly mozliwosci prawidlowego, równomierne¬ go i technologicznie optymalnego naniesienia kle¬ jonki na osnowe w granicach od 4 do 8% wagowo w stosunku do osnowy.Stosowanie natomiast natryskowych dysz nie dawalo równomiernosci naniesienia klejonki na poszczególne nitki osnowy, a zatkanie dysz wyma¬ galo zatrzymania urzadzenia i demontazu dysz.Celem wynalazku jest opracowanie urzadzenia, które zapewni równomierne nanoszenie klejonki na 10 15 20 25 30 osnowe. Cel ten osiagnieto przez zastosowanie walu nanoszacego klejonke, wspólpracujacego % walem podajacym, ulozyskowanym przesuwnie w kierunku poziomym i usytuowanym nad klejarska wanna, oraz przez skosne ustawienie zespolu dwóch par dociskowych walków o regulowanym docisku i regulowanym kacie ukosu.Waly podajacy i nanoszacy oraz dwa zestawy walków maja indywidualnie regulowane obroty, co zapewnia plynnosc nanoszenia ilosci klejonki na osnowe. Wynika to z regulowanej róznicy pred¬ kosci osnowy w stosunku do predkosci obwodowej nanoszacego walu oraz róznic predkosci obwodo¬ wych miedzy walem nanoszacym a podajacym. Po¬ nadto ilosc nanoszenia klejonki jest uzalezniona od precyzyjnie regulowanej szczeliny miedzy walem nanoszacym a podajacym przez poziomy przesuw walu podajacego, co powoduje powleczenie nano¬ szacego walu odpowiednio cienka i równomiernie rozlozona warstwa wosku, przejmowanego nastep¬ nie przez osnowe.[Regulowany docisk miedzy dwoma parami wal¬ ków jak tez regulowany skos ich ustawienia powo¬ duja równomierne rozlozenie warstwy klejonki na calej dlugosci nitek osnowy z jednoczesnym wpra- sowaniem czesci wosku do wnetrza nitki osnowy.Przedmiot wynalazku pokazano w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przed¬ stawia schemat urzadzenia do nanoszenia klejonki na nitki osnowy w widoku z boku, fig. 2 — sche- 64 57564 575 mat urzadzenia w widoku z góry, na którym linia przerywana zaznaczono zestaw walków w pozycji skosnej.Na wsporczej konstrukcji 1 jest zamocowany od- wijak 2 za którym znajduje sie powszechnie znane 5 zasilajace urzadzenie 3 polaczone z glównym zród¬ lem napedu. Za zasilajacym urzadzeniem 3 w kor¬ pusach 4 sa ulozyskowane: podajacy wal 5 majacy mozliwosc poziomego przesuwu i polaczony z in¬ dywidualnymi zródlem napedu o ciaglej regulacji 10 obrotów, oraz nanoszacy wal 6 .polaczony z indy¬ widualnym zródlem napedu o ciaglej regulacji ob¬ rotów.Pod podajacym walem 5 jest klejarska wanna 7.Przed nanoszacym walem 6 jest w korpusach 4 15 wychydnie zamocowana rolka 8. Waly 5 16 oraz wanna 7 sa podgrzewane z mozliwoscia indywir dualnej regulacji zakresu temperatury. W korpu¬ sach 9 sa tocznie ulozyskowane dwa -dolne stalowe, podgrzewane walki 10 i 11, polaczone z glównym 20 zródlem napedu. Nad walkami 10 i 11 sa w kor¬ pusach 9 ulozyskowane dwa górne ogumowane wal¬ ki 12 i 13 o regulowanym docisku.Zestaw walków 10, 11, 12 i 13 ma nastawny kat obrotu w stosunku do podluznej osi urzadzenia. Za 25 zestawem walków 10, 11, 12 i 13 jest ustawione powszechnie znane rozdzielcze pole 14 oraz nawi- jak 15 polaczony z glównym zródlem napedu. Pod rozdzielczym polem 14 jest zabudowane nawiewne urzadzenie 16 chlodzace. 30 Przed uruchomieniem urzadzenia, na odwijak 2 zaklada sie snowarski wal 17 z nawinieta osnowa 18, która przeciaga sie przez zasilajace urzadzenie 3, pod podniesiona rolke 8 i nad nanoszacym wa¬ lem 6. Nastepnie, w zaleznosci od wymogów tech¬ nologicznych, osnowe 18 przeprowadza sie miedzy walkami 12 i 10 oraz 13 i 11, wzglednie przy unie¬ sionych walkach 12 i 13 pod walkiem 10 i nad wal¬ kiem 11. W tym wypadku zestaw walków 10, 11, 12 i 13 skreca sie o kat wymagany potrzebami tech- nologicznemi. Dalej osnowe 18 przeprowadza sie przez rozdzielcze pole 14 i mocuje sie jej poczatek do nawijaka 15. Po napelnieniu wanny 7 klejonka 19, podgrzewa sie wanne 7, waly 5 i 6 walki 10 i 11. Po osiagnieciu wymaganej temperatury, opusz- 45 cza sie rolke 8, uruchamia sie glówne zródlo na¬ pedu i zródla napedu walów 5 i 6 oraz uruchamia sie chlodzace urzadzenie 16.Od tej chwili osnowa 18 jest odwijana ze snowar- skiego walu 17 za pomoca urzadzenia 3 a ciagnio- 50 na przez nawijak 15 przechodzi pod rolka 8, która powoduje przesuwanie sie osnowy 18 po czejsci ob¬ wodu walu 6. Wal 5 pobiera z wanny 7 na swa powierzchnie rozgrzana plynna klejonke 19. Z jego powierzchni klejonka 19 jest pobierana przez po- 55 35 40 wierzchnie walu 6, skad zostaje przeniesiona na osnowe 18. W zaleznosci od dokonanego pomiaru stopnia naniesienia klejonki 19 na osnowe 18, do¬ konuje sie regulacji predkosci obwodowej walu 6 w stosunku do predkosci przesuwu osnowy 18 i szybkosci obwodowej walu 5 w stosunku do pred¬ kosci obwodowej walu 6 oraz wielkosci szczeliny miedzy walcami 5 i 6 poprzez poziomy przesuw walu 5. W wypaiJku przechodzenia osnowy 18 mie¬ dzy walkami 12 i 10 oraz 13 i 11, reguluje sie sto¬ pien docisku walków 12 i 13 do walków 10 i 11.W wyniku tego naniesiona na osnowe 18 klejonka 19 jest rozgniatana miedzy walkami IG i 12 oraz, 11 i13. \ W wypadku przebiegu osnowy 18 pod walkiem i 10 i nad walkiem 11, doregulowuje sie uprzed¬ nio nastawiony skret zestawu walków 10, 11, 12 i 13. Kazda pojedyncza nitka osnowy 18 dostajac sie na skoszony walek 10 jest lekko rozkrecana przez jej odtoczenie. Powoduje to roztarcie i wprowadze¬ nie klejonki 19 miedzy poszczególne wlókna nitek.Na walku 11 nitka poprzez odlaczanie zostaje skre¬ cona do pierwotnego stanu, a klejonka 19 zostaje dodatkowo roztarta na powierzchni skreconej nitki.Wybór wariantu przeprowadzenia osnowy 18 mie¬ dzy walkami 10 i 12 oraz 11 i 13 wzglednie pod walkiem 10 i nad walkiem 11, zalezy od rodzaju nitek i wymogów technologicznych gotowej osno¬ wy 18.Po wyregulowaniu stopnia nanoszenia klejonki 19 i jej rozcierania na nitkach osnowy 18, urza¬ dzenie jest przygotowane do ciaglej pracy. Na¬ wiewne urzadzenie 16 chlodzace przyspiesza krzep¬ niecie klejonki 19 na nitkach osnowy 18.Urzadzenie wedlug wynalazku w wysokim stop¬ niu podnosi jakosc osnowy a tym samym i jakosc wytwarzanych nastepnie tkanin, zmniejsza zryw- nosc nitek osnowy w czasie tkania, zapewniajac tym samym wymagana wydajndsc tkania, podno¬ szac wskaznik tkalnosoi osnów, jak tez wybitnie obnizajac koszty procesu klejenia. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do nanoszenia klejonki na nitki osno¬ wy, którego zasilajace urzadzenie jest polaczone z glównym zródlem napedu, a pod rozdzielczym po¬ lem jest zabudowane nawiewne urzadzenie chlo¬ dzace, znamienne tym, ze podajacy wal (5) jest ulozyskowany przesuwnie w kierunku poziomym równolegle do nitek osnowy, zas zespól dwóch par dociskowych walków (10), (11), (12) i (13) jest usy¬ tuowany skosnie w stosunku do osi urzadzenia.KI. 8 a, 25/01 64 575 MKP B 05 c, 1/00 PL PL