PL55270B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL55270B1 PL55270B1 PL106215A PL10621564A PL55270B1 PL 55270 B1 PL55270 B1 PL 55270B1 PL 106215 A PL106215 A PL 106215A PL 10621564 A PL10621564 A PL 10621564A PL 55270 B1 PL55270 B1 PL 55270B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- heater
- semiconductor material
- conductive
- ambient temperature
- mkp
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 235000001674 Agaricus brunnescens Nutrition 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Description
12.XI.1963 Niemiecka Republika Demokratyczna Opublikowano: 28.VI.1968 55270 KI. 12 g, 17/10 MKP BOlj UKD Aljf Twórca wynalazku: Winfried Schroder Wlasciciel patentu: VEB Halbleiterwerk Frankfurt/Oder, Frankfurt n.Odra (Niemiecka Republika Demokratyczna) Sposób zapoczatkowywania beztyglowego procesu topienia strefowego materialu pólprzewodnikowego Przedmiotem wynalazku jest sposób zapoczat¬ kowywania procesu topienia za pomoca indukcyj¬ nego podgrzewania materialu o niedostatecznej przewodnosci elektrycznej, na przyklad krzemu, który w strefowym procesie* topienia jest podda¬ ny beztyglowo dzialaniu indukcyjnego zródla cie¬ pla w pojemniku metalowym. W procesie tyim wprowadza sie material dopiero pc osiagnieciu przez niego wystarczajacej przewodnosci elektrycz¬ nej uzyskanej dzieki ogrzaniu.W znanych sposobach podgrzewania takich ma¬ terialów az do osiagniecia wystarczajacej prze¬ wodnosci stosuj-e sie elektrycznie przewodzace pod¬ grzewacze metalowe, na przyklad z wolframu, molibdenu, tantalu, które moga byc wykonane w postaci pierscieni tak jak to na przyklad podano w opisie patentowym szwajcarskim Nr 331351.Podgrzewacze sa równiez wykonywane z mate¬ rialów niemetalowych, na przyklad z wegla spek¬ tralnego lub najczystszego grafitu, w postaci opraw zaciskowych pretów podporowych lub elementów stykowych. Nastepnie przy wytwarzaniu kryszta¬ lów sposobem topienia strefowego material roz¬ tapiany posiadajacy okreslona przewodnosc umieszcza sie przed krysztalem zarodkowym przez przytopienie.Indukcyjnie ogrzewany element grzejny ogrze¬ wa cieplem przewodzenia lub promieniowania ma¬ terial roztapiany az do uzyskania wymaganej prze¬ wodnosci. Sposoby te maja te wade, ze do masy 15 20 25 roztapianej przechodza znaczne ilosci zanieczysz¬ czen z grzejnika lub ze strefy podgrzewania wstep¬ nego, przez co cel topienia strefowego, polegaja¬ cy na uzyskaniu bardzo czystego materialu lub materialu o scisle okreslonej zawartosci domie¬ szek przy dostatecznie, duzej trwalosci nosnika ladunków mniejszosciowych, nie byl osiagany. Po¬ nadto umieszczenie grzejnika sprawia duzo klo¬ potu, przez co rozpoczecie procesu topienia wy¬ maga dluzszego czasu, co w konsekwencji pro¬ wadzi do zmniejszenia wydajnosci.Celem wynalazku jest umozliwienie przeprowa¬ dzenia sposobu wytwarzania materialów o duzej czystosci lub materialów c scisle okreslonej za¬ wartosci domieszek (co jest szczególnie wazne przy wytwarzaniu sprawnych elementów pólprzewodni¬ kowych), a to przez usuniecie przyczyn powodu¬ jacych niepozadane domieszki w materiale o wy¬ sokiej czystosci. Za pomoca wynalazku mczna równiez uzyskiwac scisle okreslone zawartosci do¬ mieszek powstale wskutek przechodzenia czaste¬ czek z materialu podgrzewacza do materialu roz¬ tapianego. Podgrzewacz jest zakladany w prosty sposób i w swym obszarze dzialania zapewnia do¬ bre przechodzenie ciepla.Sposób zapoczatkowywania procesu topienia stre¬ fowego materialu pólprzewodnikowego nie prze¬ wodzacego pradu elektrycznego w temperaturze otoczenia w którym pret materialu pólprzewodni¬ kowego ogrzewa sie indukcyjnie i otoczony jest 5527055270 elektrycznie przewodzacym podgrzewaczem z ma¬ terialu o wysokiej czystosci zgodnie z wynalaz¬ kiem wyróznia sie tym, ze jako podgrzewacz sto¬ suje sie material pólprzewodnikowy o niewielkim cisnieniu parowania, który przewodzi prad elek¬ tryczny w temperaturze otoczenia, przez cc wy¬ klucza sie zanieczyszczenia podczas procesu roz¬ grzewania to. jest do chwili uzyskania tempera¬ tury, w której pojawiaja sie wlasnosci przewodze¬ nia w materiale topionym.Dla uzyskania dobrych wyników przy obróbce, na przyklad krzemu stosuje sie wedlug wynalaz¬ ku podgrzewacz z krzemu maloporowego. Ko¬ rzystnie jest gdy podgrzewacz jest wykonany jako element zaciskowy lub nasadkowy, a najlepiej jako pierscien, przez co osiaga sie szybkie zakla¬ danie zawsze tego samego podgrzewacza.Za pomoca sposobu bedacego przedmiotem wy¬ nalazku przy malym nakladzie srodków (zmniej¬ szonych ciagach stref) otrzymuje sie material wyj¬ sciowy zwlaszcza do wyrobu pólprzewodników, który posiada zasadniczo wieksza opornosc o bar¬ dziej jednorodnym przebiegu w ciele stalym craz wieksza trwalosc nosników ladunków mniejszo¬ sciowych. W ten sposób przy zwiekszonej wydaj¬ nosci osiaga sie warunki do wytwarzania bardziej sprawnych wyrobów w nastepnych fazach pro¬ dukcyjnych.Na rysunku przedstawiono przyklad zastosowa¬ nia sposobu wedlug wynalazku, przy czym fig. 1 przedstawia przyklad umieszczania podgrzewacza na krysztale zarodkowym, a fig. 2 ¦*— przyklad umieszczania podgrzewacza na materiale rozta¬ pianym.W strefowym procesie topienia podgrzewacz 1 umieszcza sie na krysztale zarodkowym albo na materiale roztapianym. Cewke indukcyjna 4 umieszcza sie w obszarze podgrzewacza 1, dopro- 5 wadza sie podgrzewacz do temperatury, w której krysztal zarodkowy lub material roztapiany 3 przyjmuja stan przewodzenia. Podgrzewacz 1 ogrzewa krysztal zarodkowy lub material rozta¬ piany 3 az: do wystapienia elektrycznej przewod- 10 nosci. Cewke indukcyjna 4 usuwa sie wówczas z obszaru podgrzewacza 1 i rozpoczyna sie pro¬ ces roztapiania strefowego.Jest rzecza oczywista, ze sposób* wedlug wyna¬ lazku nie ogranicza sie tylko do procesów oczysz- 15 czarnia, lecz moze znalezc równiez zastcfcowanie do innych podobnych procesów, jak na grzyklajd do beztyglowego wytwarzania monokrysztalów. 20 PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób zapoczatkowywania beztyglowego pro¬ cesu topienia strefowego materialu pólprzewod¬ nikowego nie przewodzacego pradu elektrycz¬ nego w temperaturze otoczenia, w którym pret 25 materialu pólprzewodnikowego ogrzewa sie in¬ dukcyjnie i otoczony jest elektrycznie przewo¬ dzacym* podgrzewaczem z materialu c wysokiej czystosci, znamienny tym, ze jako podgrzewacz stosuje sie material pólprzewodnikowy o nie- 30 wielkim cisnieniu parowania, który przewodzi prad elektryczny w temperaturze otoczenia.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przy obróbce krzemu stosuje sie podgrzewacz wykonany z krzemu malooperowego.KI. 12 g, 17/10 55270 MKP B 01 j ono /~~[ %. /KI. 12 g, 17/10 55270 MKP B 01 i ooo <~1—[Jon [ F,9.L v^ WDA-1. Zam. 306. Nakl. 340 egz. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL55270B1 true PL55270B1 (pl) | 1968-04-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3157541A (en) | Precipitating highly pure compact silicon carbide upon carriers | |
| US2930098A (en) | Production of sintered bodies from powdered crystalline materials | |
| US3147085A (en) | Apparatus for growing whiskers | |
| US1079621A (en) | Thermo-electric couple. | |
| EP0454151A1 (en) | Manufacturing method of silicon single-crystal | |
| US2711379A (en) | Method of controlling the concentration of impurities in semi-conducting materials | |
| US2855335A (en) | Method of purifying semiconductor material | |
| US3278274A (en) | Method of pulling monocrystalline silicon carbide | |
| PL55270B1 (pl) | ||
| US3113841A (en) | Floating zone melting method for semiconductor rods | |
| US6063697A (en) | Crushing of silicon on ultrapure ice | |
| US2885364A (en) | Method of treating semiconducting materials for electrical devices | |
| US1019392A (en) | Electric furnace method and apparatus. | |
| GB1269540A (en) | Method and apparatus for forming silicon carbide filaments | |
| US3373240A (en) | Method of operating an electric arc furnace | |
| US6251182B1 (en) | Susceptor for float-zone apparatus | |
| US3232716A (en) | Device for pulling monocrystalline semiconductor rods | |
| RU2051193C1 (ru) | Способ отгонки рения и осмия в газовую фазу из свинцовистых ренийсодержащих пылей и сернокислотных шламов медного производства | |
| US3335697A (en) | Apparatus for vapor deposition of silicon | |
| US3053918A (en) | Apparatus for crucible-free zone melting of semiconductor rods | |
| JPH08337493A (ja) | 単結晶引上げ用高純度黒鉛部材およびその製造方法 | |
| US2148358A (en) | Process for the production of magnesium | |
| US3203814A (en) | Method for increasing the thermal endurance of silicon carbide | |
| US695939A (en) | Method of making oxids of tin and lead. | |
| CN223274241U (zh) | 一种四通道石墨焦耳加热装置 |