PL55270B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL55270B1
PL55270B1 PL106215A PL10621564A PL55270B1 PL 55270 B1 PL55270 B1 PL 55270B1 PL 106215 A PL106215 A PL 106215A PL 10621564 A PL10621564 A PL 10621564A PL 55270 B1 PL55270 B1 PL 55270B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
heater
semiconductor material
conductive
ambient temperature
mkp
Prior art date
Application number
PL106215A
Other languages
English (en)
Inventor
Schroder Winfried
Original Assignee
Veb Halbleiterwerk Frankfurt/Oder
Filing date
Publication date
Application filed by Veb Halbleiterwerk Frankfurt/Oder filed Critical Veb Halbleiterwerk Frankfurt/Oder
Publication of PL55270B1 publication Critical patent/PL55270B1/pl

Links

Description

12.XI.1963 Niemiecka Republika Demokratyczna Opublikowano: 28.VI.1968 55270 KI. 12 g, 17/10 MKP BOlj UKD Aljf Twórca wynalazku: Winfried Schroder Wlasciciel patentu: VEB Halbleiterwerk Frankfurt/Oder, Frankfurt n.Odra (Niemiecka Republika Demokratyczna) Sposób zapoczatkowywania beztyglowego procesu topienia strefowego materialu pólprzewodnikowego Przedmiotem wynalazku jest sposób zapoczat¬ kowywania procesu topienia za pomoca indukcyj¬ nego podgrzewania materialu o niedostatecznej przewodnosci elektrycznej, na przyklad krzemu, który w strefowym procesie* topienia jest podda¬ ny beztyglowo dzialaniu indukcyjnego zródla cie¬ pla w pojemniku metalowym. W procesie tyim wprowadza sie material dopiero pc osiagnieciu przez niego wystarczajacej przewodnosci elektrycz¬ nej uzyskanej dzieki ogrzaniu.W znanych sposobach podgrzewania takich ma¬ terialów az do osiagniecia wystarczajacej prze¬ wodnosci stosuj-e sie elektrycznie przewodzace pod¬ grzewacze metalowe, na przyklad z wolframu, molibdenu, tantalu, które moga byc wykonane w postaci pierscieni tak jak to na przyklad podano w opisie patentowym szwajcarskim Nr 331351.Podgrzewacze sa równiez wykonywane z mate¬ rialów niemetalowych, na przyklad z wegla spek¬ tralnego lub najczystszego grafitu, w postaci opraw zaciskowych pretów podporowych lub elementów stykowych. Nastepnie przy wytwarzaniu kryszta¬ lów sposobem topienia strefowego material roz¬ tapiany posiadajacy okreslona przewodnosc umieszcza sie przed krysztalem zarodkowym przez przytopienie.Indukcyjnie ogrzewany element grzejny ogrze¬ wa cieplem przewodzenia lub promieniowania ma¬ terial roztapiany az do uzyskania wymaganej prze¬ wodnosci. Sposoby te maja te wade, ze do masy 15 20 25 roztapianej przechodza znaczne ilosci zanieczysz¬ czen z grzejnika lub ze strefy podgrzewania wstep¬ nego, przez co cel topienia strefowego, polegaja¬ cy na uzyskaniu bardzo czystego materialu lub materialu o scisle okreslonej zawartosci domie¬ szek przy dostatecznie, duzej trwalosci nosnika ladunków mniejszosciowych, nie byl osiagany. Po¬ nadto umieszczenie grzejnika sprawia duzo klo¬ potu, przez co rozpoczecie procesu topienia wy¬ maga dluzszego czasu, co w konsekwencji pro¬ wadzi do zmniejszenia wydajnosci.Celem wynalazku jest umozliwienie przeprowa¬ dzenia sposobu wytwarzania materialów o duzej czystosci lub materialów c scisle okreslonej za¬ wartosci domieszek (co jest szczególnie wazne przy wytwarzaniu sprawnych elementów pólprzewodni¬ kowych), a to przez usuniecie przyczyn powodu¬ jacych niepozadane domieszki w materiale o wy¬ sokiej czystosci. Za pomoca wynalazku mczna równiez uzyskiwac scisle okreslone zawartosci do¬ mieszek powstale wskutek przechodzenia czaste¬ czek z materialu podgrzewacza do materialu roz¬ tapianego. Podgrzewacz jest zakladany w prosty sposób i w swym obszarze dzialania zapewnia do¬ bre przechodzenie ciepla.Sposób zapoczatkowywania procesu topienia stre¬ fowego materialu pólprzewodnikowego nie prze¬ wodzacego pradu elektrycznego w temperaturze otoczenia w którym pret materialu pólprzewodni¬ kowego ogrzewa sie indukcyjnie i otoczony jest 5527055270 elektrycznie przewodzacym podgrzewaczem z ma¬ terialu o wysokiej czystosci zgodnie z wynalaz¬ kiem wyróznia sie tym, ze jako podgrzewacz sto¬ suje sie material pólprzewodnikowy o niewielkim cisnieniu parowania, który przewodzi prad elek¬ tryczny w temperaturze otoczenia, przez cc wy¬ klucza sie zanieczyszczenia podczas procesu roz¬ grzewania to. jest do chwili uzyskania tempera¬ tury, w której pojawiaja sie wlasnosci przewodze¬ nia w materiale topionym.Dla uzyskania dobrych wyników przy obróbce, na przyklad krzemu stosuje sie wedlug wynalaz¬ ku podgrzewacz z krzemu maloporowego. Ko¬ rzystnie jest gdy podgrzewacz jest wykonany jako element zaciskowy lub nasadkowy, a najlepiej jako pierscien, przez co osiaga sie szybkie zakla¬ danie zawsze tego samego podgrzewacza.Za pomoca sposobu bedacego przedmiotem wy¬ nalazku przy malym nakladzie srodków (zmniej¬ szonych ciagach stref) otrzymuje sie material wyj¬ sciowy zwlaszcza do wyrobu pólprzewodników, który posiada zasadniczo wieksza opornosc o bar¬ dziej jednorodnym przebiegu w ciele stalym craz wieksza trwalosc nosników ladunków mniejszo¬ sciowych. W ten sposób przy zwiekszonej wydaj¬ nosci osiaga sie warunki do wytwarzania bardziej sprawnych wyrobów w nastepnych fazach pro¬ dukcyjnych.Na rysunku przedstawiono przyklad zastosowa¬ nia sposobu wedlug wynalazku, przy czym fig. 1 przedstawia przyklad umieszczania podgrzewacza na krysztale zarodkowym, a fig. 2 ¦*— przyklad umieszczania podgrzewacza na materiale rozta¬ pianym.W strefowym procesie topienia podgrzewacz 1 umieszcza sie na krysztale zarodkowym albo na materiale roztapianym. Cewke indukcyjna 4 umieszcza sie w obszarze podgrzewacza 1, dopro- 5 wadza sie podgrzewacz do temperatury, w której krysztal zarodkowy lub material roztapiany 3 przyjmuja stan przewodzenia. Podgrzewacz 1 ogrzewa krysztal zarodkowy lub material rozta¬ piany 3 az: do wystapienia elektrycznej przewod- 10 nosci. Cewke indukcyjna 4 usuwa sie wówczas z obszaru podgrzewacza 1 i rozpoczyna sie pro¬ ces roztapiania strefowego.Jest rzecza oczywista, ze sposób* wedlug wyna¬ lazku nie ogranicza sie tylko do procesów oczysz- 15 czarnia, lecz moze znalezc równiez zastcfcowanie do innych podobnych procesów, jak na grzyklajd do beztyglowego wytwarzania monokrysztalów. 20 PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób zapoczatkowywania beztyglowego pro¬ cesu topienia strefowego materialu pólprzewod¬ nikowego nie przewodzacego pradu elektrycz¬ nego w temperaturze otoczenia, w którym pret 25 materialu pólprzewodnikowego ogrzewa sie in¬ dukcyjnie i otoczony jest elektrycznie przewo¬ dzacym* podgrzewaczem z materialu c wysokiej czystosci, znamienny tym, ze jako podgrzewacz stosuje sie material pólprzewodnikowy o nie- 30 wielkim cisnieniu parowania, który przewodzi prad elektryczny w temperaturze otoczenia.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przy obróbce krzemu stosuje sie podgrzewacz wykonany z krzemu malooperowego.KI. 12 g, 17/10 55270 MKP B 01 j ono /~~[ %. /KI. 12 g, 17/10 55270 MKP B 01 i ooo <~1—[Jon [ F,9.L v^ WDA-1. Zam. 306. Nakl. 340 egz. PL
PL106215A 1964-11-10 PL55270B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL55270B1 true PL55270B1 (pl) 1968-04-25

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3157541A (en) Precipitating highly pure compact silicon carbide upon carriers
US2930098A (en) Production of sintered bodies from powdered crystalline materials
US3147085A (en) Apparatus for growing whiskers
US1079621A (en) Thermo-electric couple.
EP0454151A1 (en) Manufacturing method of silicon single-crystal
US2711379A (en) Method of controlling the concentration of impurities in semi-conducting materials
US2855335A (en) Method of purifying semiconductor material
US3278274A (en) Method of pulling monocrystalline silicon carbide
PL55270B1 (pl)
US3113841A (en) Floating zone melting method for semiconductor rods
US6063697A (en) Crushing of silicon on ultrapure ice
US2885364A (en) Method of treating semiconducting materials for electrical devices
US1019392A (en) Electric furnace method and apparatus.
GB1269540A (en) Method and apparatus for forming silicon carbide filaments
US3373240A (en) Method of operating an electric arc furnace
US6251182B1 (en) Susceptor for float-zone apparatus
US3232716A (en) Device for pulling monocrystalline semiconductor rods
RU2051193C1 (ru) Способ отгонки рения и осмия в газовую фазу из свинцовистых ренийсодержащих пылей и сернокислотных шламов медного производства
US3335697A (en) Apparatus for vapor deposition of silicon
US3053918A (en) Apparatus for crucible-free zone melting of semiconductor rods
JPH08337493A (ja) 単結晶引上げ用高純度黒鉛部材およびその製造方法
US2148358A (en) Process for the production of magnesium
US3203814A (en) Method for increasing the thermal endurance of silicon carbide
US695939A (en) Method of making oxids of tin and lead.
CN223274241U (zh) 一种四通道石墨焦耳加热装置