PL50573B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL50573B1
PL50573B1 PL105807A PL10580764A PL50573B1 PL 50573 B1 PL50573 B1 PL 50573B1 PL 105807 A PL105807 A PL 105807A PL 10580764 A PL10580764 A PL 10580764A PL 50573 B1 PL50573 B1 PL 50573B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chamber
developing
humidity
relative humidity
powder
Prior art date
Application number
PL105807A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL50573B1 publication Critical patent/PL50573B1/pl

Links

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób wywolywania obrazu elektrostatycznego, polega¬ jacy na obnizeniu wilgotnosci wzglednej powietrza w komorze wywolywania oraz urzadzenie do sto¬ sowania tego sposobu.Badania procesów, wystepujacych przy odwzo¬ rowywaniu obrazu sposobem elektrograficznym lub elektrofotograficznym wykazaly, ze przebieg tych procesów jest w duzej mierze zalezny od wilgot¬ nosci otoczenia, higroskopijnosci warstw fotopól- przewodzacych, papierów, nosników i proszków wywolujacych. Zbadano na przylklad, ze wzrost wilgotnosci warstwy fotopólprzewodzacej powo¬ duje zmiane oporu powierzchniowego plyty i ciem¬ nicowego spadku potencjalu plyty, pokrytej la¬ dunkiem elektrycznym. Zjawisko to powoduje nie¬ stabilnosc wartosci potencjalu powierzchniowego plyty.Szczególnie istotny jest wplyw wilgotnosci po¬ wietrza i materialów w procesie wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego. Okazalo sie bowiem, ze wzrost wilgotnosci na naladowanej po¬ wierzchni warstwy elektrofotograficznej powoduje zwiekszenie sil adhezji czastek proszku wywolu¬ jacego do powierzchni plyty i wplywa na zadymie¬ nie podloza reprodukcji. Zwiekszona wilgotnosc mieszaniny wywolujacej ma wplyw na ilosc i znak ladunków elektrostatycznych, które pojawiaja sie wskutek zetknecia czastek nosnika i proszku wy¬ wolujacego, jak równiez powoduje aglomeracje te- 10 15 25 30 go proszku, czego wynikiem jest obnizenie rozdziel¬ czosci obrazu i zmniejszenie ostrosci jego linii.Badania wykazaly równiez, ze wzrost wilgotnos¬ ci obrazu pylowego powoduje zwiekszenie prze¬ wodnosci warstwy proszku i zmniejszenie efektyw¬ nosci przenoszenia proszku na podloze. Ustalono przy tym, ze omówiony wyzej wplyw zmiany wil¬ gotnosci powietrza i materialów a zwlaszcza jej wzrostu na proces wywolywania obrazu elektro¬ statycznego mozna w znacznym stopniu zmniejszyc przez utrzymanie w komorze wywolujacej wilgot¬ nosci wzglednej o okolo. 10% do 45% nizszej w sto¬ sunku do wartosci wilgotnosci wzglednej otoczenia.W tym przypadku bowiem uzyskuje sie warunki, w których proszek wywolujacy wprowadzony do komory oddaje czesc zawartej w nim wody, przy czym zmniejszenie wilgotnosci proszku wplywa do¬ datnio na polepszenie jakosci otrzymywanego obrazu.Sposób wywolywania obrazu elektrostatycznego wedlug wynalazku ma na celu utrzymanie wilgot¬ nosci wzglednej w komorze wywolujacej o 10 do 45% nizszej od wilgotnosci otoczenia, co uzyskuje sie za pomoca ogrzewania komory wywolujacej, powodujac przyrost temperatury 10°C do 40°C w stosunku do temperatury otoczenia, wzglednie przez absorbcje wilgotnosci w komorze za pomoca substancji higroskopijnych. Przedmiot wynalazku oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu sa przykladowo wyjasnione na rysunkach, na których 505733 50573 4 fig. 1 przedstawia urzadzenie do wywolywania ob¬ razów elektrostatycznych w postaci bujaka, za¬ opatrzonego w komore grzejna, fig. 2 — podobne urzadzenie, zaopatrzone w absorbery, a fig. 3 — urzadzenie do wywolywania sposobem „chmury pylowej", zaopatrzone w komory grzejne i absor¬ bery.Sposób wywolywania utajonego obrazu elektro¬ statycznego wedlug wynalazku polega na utrzyma¬ niu w komorze wywolujacej wilgotnosci wzglednej o wartosci 10 do 45% nizszej od wartosci wilgot¬ nosci otoczenia, co uzyskuje sie za pomoca ogrze¬ wania komory lub absorbcji pary wodnej za po¬ moca substancji higroskopijnych.Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug wy¬ nalazku, przedstawione na fig. 1, sklada sie z meta¬ lowego naczynia 3 osadzonego za pomoca czopów 8 w lozyskach 9 i tworzacego rodzaj wahadlowo lub obrotowo osadzonego bujaka, z zewnetrznej obu¬ dowy izolacyjnej 7 tworzacej miedzy ta obudowa a sciankami naczynia 3 komore grzejna 6 oraz z plyty elektrofotograficznej 2 pokrytej warstwa swiatloczula 1 i nasadzana na otwór naczynia 3.Wewnatrz naczynia 3 utworzona jest komora wy¬ wolujaca 4, do której wprowadza sie proszek wy¬ wolujacy wraz z nosndkiem 5. Odmiana urzadzenia przedstawiona na fig. 2 jest. zaopatrzona w umiesz¬ czone wewnatrz komory wywolujacej 4 naczynia 10 z substancja higroskopijna, tworzace absorbery wilgoci.Dzialanie opisanych wyzej urzadzen jest naste¬ pujace. Do wnetrza komory wywolujacej 4 wpro¬ wadza sie proszek wywolujacy wraz z nosnikiem 5, a nastepnie na górny otwór naczynia 3 naklada sie plyte elektrofotograficzna 2 wraz z warstwa swia¬ tloczula 1, na której wytworzony jest utajony ob¬ raz elektrostatyczny. Nastepnie obracajac naczy¬ nie 3 w lozyskach 9 powoduje sie przez przesypy¬ wanie mieszaniny wywolujacej 5 po powierzchni warstwy swiatloczulej 1 przyciagniecie czastek proszku wywolujacego do naladowanych punktów warstwy 1, odpowiadajacych utajonemu obrazowi elektrostatycznemu a za tym wywolywanie obrazu.W trakcie wywolywania do komory grzejnej 6 urzadzenia, przedstawionego na fig. 1 doprowadza sie ogrzany czynnik np. powietrze lub pare albo tez wlacza sie umieszczony w komorze 6 grzejnik elektryczny, powodujac przyrost temperatury wne¬ trza komory 4 o 10 do 40°C powyzej temperatury otoczenia. Wskutek tego wilgotnosc wzgledna za¬ wartego w komorze powietrza zmniejsza sie o 10 do 45% w porównaniu do wilgotnosci wzglednej otoczenia. Dzieki temu zmniejsza sie wilgotnosc za¬ wartej w komorze 4 mieszaniny wywolujacej 5, powodujac równoczesny spadek przewodnosci warstwy proszku i jego lepsze przyciaganie do na¬ ladowanych miejsc warstwy swiatloczulej 1 bez przylegania do pozostalych czesci plyty, a równo¬ czesnie eliminuje sie ujemny wplyw wilgotnosci 5 na proces przenoszenia obrazu na podloze repro¬ dukcji.W odmianie urzadzenia przedstawionej na fig. 2 zmniejszenie wilgotnosci wzglednej w komorze wy¬ wolywania 4 uzyskuje sie przez absorbowanie wil¬ goci za pomoca substancji higroskopijnej zawartej w naczyniach absorbcyjnych 10. Urzadzenie przed¬ stawione na fig. 3 tym rózni sie od wyzej opisa¬ nego, ze do wnetrza komory wywolujacej 4 utwo¬ rzonej w naczyniu 3 sa wprowadzone krócce 11, którymi doprowadzane jest ogrzane powietrze, po¬ wodujace powstanie wewnatrz komory 4 chmury pylowej. W tym celu urzadzenie jest zaopatrzone w dmuchawe 12 oraz przewód powietrzny 13 ogrze¬ wany elementem grzejnym 14 i wprowadzony do wnetrza komory grzejnej 4.Proszek wywolujacy 5 moze byc przy tym rów¬ niez doprowadzany do wnetrza komory 4 lacznie ze strumieniem ogrzanego powietrza.Urzadzenie to zaopatrzone w komore grzejna 6 oraz równoczesnie w naczynia absorbcyjne 10, slu¬ zace do zmniejszania wilgotnosci wzglednej po¬ wietrza wewnatrz komory 4 w stosunku do wil¬ gotnosci wzglednej otoczenia.Sposób wywolywania utajonego obrazu elektro¬ statycznego oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu moze znalezc zastosowanie zwlaszcza w procesach elektrofotograficznych i elektrograficz- nych. PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wywolywania utajonego obrazu elektro¬ statycznego, wytworzonego na warstwie swiatlo¬ czulej przez pokrywanie go proszkiem wywolu¬ jacym, znamienny tym, ze obniza sie wilgotnosc wzgledna w komorze wywolujacej (4) o 10 do 45% w stosunku do wilgotnosci wzglednej oto¬ czenia za pomoca podgrzewania komory (4) przez przyrost temperatury o 10 do 40°C lub/ oraz absorbowanie wilgoci za pomoca substancji higroskopijnych. 2. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w komore grzejna (6) lub grzejnik otaczajacy ko¬ more wywolujaca (4). 3. Odmiana urzadzenia wedlug zastrz. 2, znamien¬ na tym, ze jest zaopatrzona w naczynia absorb¬ cyjne (10), umieszczone wewnatrz komory wy¬ wolujacej (4). 15 20 25 30 35 40 45 5050573 FioA- Rq-
  2. 2.50573 Fig. 3 ZG „Ruch" W-wa, zam. 1524-65 naklad 240 egz. PL
PL105807A 1964-09-23 PL50573B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL50573B1 true PL50573B1 (pl) 1965-12-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3276896A (en) Electrostatic printing
US3914460A (en) Development utilizing electric fields
JPS58187963A (ja) 電子写真複写法
US3132047A (en) Xerographic fixing apparatus
US2550738A (en) Apparatus for applying powder to electrophotographic plates
US3472657A (en) Xerographic development method and apparatus
US3772010A (en) Electrophotographic apparatus and method for imagewise charge generation and transfer
US3077386A (en) Process for treating selenium
PL50573B1 (pl)
US3900590A (en) Xerographic fusing apparatus
US3540885A (en) Reduction of fog formation in an electrophotographic light sensitive sheet
JPS5529834A (en) Electrophotographic developing apparatus
PL79941B1 (pl)
US3347691A (en) Xerographic development
US3874892A (en) Electrostatographic fusing process employing replaceable liner
CA1149152A (en) Development system
US2889234A (en) Xerographic development process
US3567484A (en) Process for fusing xerographic images
US3783818A (en) Electrophotographic developing process
US3623710A (en) Fixing arrangement
GB1378798A (en) Methods of and apparatus for electrophotography
US3833364A (en) Method of developing electrostatic image charge
US3537848A (en) Process of treating a xerographic glass binder plate and product
US3661118A (en) Electrostatic development
JPS5756857A (en) Electroholography recording device