Opublikowano: 18.XII.1965 50416 KI. 57c, 5 MKP«03£ UKD '/# Wspóltwórcy wynalazku: inz. Roland Dziubinski, inz. Sylwester Skla¬ danek Wlasciciel patentu: Warszawskie Zaklady Fotochemiczne „Foton", War¬ szawa (Polska) Urzadzenie do regulacji grubosci nanoszonej na podloze warstwy emulsji swiatloczulej i Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do re¬ gulacji grubosci warstwy swiatloczulej emulsji fo¬ tograficznej nanoszonej na folie podlozowa, w pro¬ cesie produkcji materialów swiatloczulych.Ogólnie wiadomo, ze grubosc warstwy emulsji 5 fotograficznej oraz równomiernosc grubosci tej warstwy zasadniczo i decydujaco rzutuje na jakosc materialów fotograficznych. Wiadomo równiez, ze grubosc nanoszonej na ruchome podloze warstwy emulsji fotograficznej zalezy od szybkosci ruchu 10 podloza, lepkosci nanoszonej emulsji, napiecia po¬ wierzchniowego emulsji oraz od promienia krzy¬ wizny menisku, który tworzy emulsja z podlozem przesuwajacym sie w wanience oblewniczej.Wszystkie znane urzadzenia sluzace do regulacji 15 grubosci nanoszonej na podloze warstwy emulsji swiatloczulej, których dzialanie polega na regulacji krzywizny menisku skladaja sie ze sztywnego ele¬ mentu metalowego umocowanego w wanience oblewniczej lub stanowiacego jej czesc, wzglednie 20 bedacego czescia konstrukcji maszyny oblewniczej.Z uwagi na wymagana duza równomiernosc gru¬ bosci nakladanej na podloze warstwy swiatloczulej, szczelina jaka tworzy regulujacy grubosc tej war¬ stwy element metalowy z wirujacym walkiem ob- 25 lewniczym, winna posiadac na calej swej dlugosci, wynoszacej ponad 1200 mm jednakowa szerokosc.Dopuszczalne tolerancje w tym wymiarze nie mo¬ ga byc wieksze niz 2—3% szerokosci szczeliny. Naj¬ czesciej stosuje sie szerokosc szczeliny 1—2 mm za- 30 tern tolerancja wielkosci tej szczeliny nie moze byc wieksza niz ±0,02—0,06 mm. Uwzgledniajac wa¬ runki dynamiczne to znaczy ruch obrotowy walka oblewniczego, odchylenie od dopuszczalnych wy¬ miarów bedzie wypadkowa dokladnosci wykonania wspólpracujacej z walkiem krawedzi elementu re¬ gulujacego oraz centrycznosci ruchu walka oblew¬ niczego.W zwiazku z powyzszym tolerancja wykonaw¬ stwa elementu regulujacego grubosc nanoszonej warstwy swiatloczulej musi byc pomniejszona o dopuszczalne bicie walka oblewniczego.Z tych powodów wykonanie tego elementu, któ¬ ry jest pretem metalowym o przekroju czworobo¬ ku wewnatrz pustym dla umozliwienia przeplywu wody utrzymujacej wymagana stala temperature preta, z wymagana dokladnoscia jest bardzo trudne na drodze wiórowej obróbki mechanicznej.Istnieje tez duze niebezpieczenstwo odksztalcen czy deformacji precyzyjnie wykonanej krawedzi elementu regulujacego, szczególnie w warunkach eksploatacji w ciemni. Jakakolwiek renowacja jest praktycznie niemozliwa. Dodatkowa trudnosc stwarza dosc duza pojemnosc cieplna zanurzonych w cieklej emulsji opisanych elementów reguluja¬ cych, co stwarza koniecznosc zastosowania specjal¬ nego ogrzewawczego obiegu wodnego, utrzymuja¬ cego stala temperature elementu. Komplikuje to jeszcze bardziej zarówno wykonanie jak i eksplo¬ atacje. 504163 50416 4 Urzadzenie wedlug wynalazku nie ma opisa¬ nych niedogodnosci. Przedmiot wynalazku jest przedstawiony przykladowo na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok ogólny zespolu oblewnicze¬ go, fig. 2 przedstawia zespól oblewniczy w widoku z boku, w kierunku K, fig. 3 przedstawia przekrój wzdluz linii A—A, zaznaczonej na fig. lj^przekrój wzdluz linii B—B, uwidoczniajacy zamocowanie struny.Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie ze stru¬ ny 1 o srednicy okolo 1 mm, zamocowanej po obu stronach wanienki oblewniczej 11, uzbrojonej z obydwu konców w stozkowe zaczepy 12, sluzace do zamocowania jej w gniazdach sruby naprezaja¬ cej 4; segmentu 5 ustalajacego odleglosc struny 1 od walka oblewniczego 3, oraz z gniazda 6 segmentu 5 ustalajacego polozenie struny 1, które umozliwia zmiane polozenia tego segmentu wzgledem walka oblewniczego 3.Struna 1 wykonana jest z drutu nierdzewnego lub z tworzyw sztucznych, natomiast pozostale czesci urzadzenia sa wykonane ze stali kwasoodpornej lub tworzyw sztucznych. Sruba 4 sluzaca do zamo¬ cowania struny 1 oraz segment 5 ustalajacy odleg¬ losc struny 1 od walka 3, rozciete sa wzdluz psi w celu umozliwienia zakladania i zdejmowania uzbrojonej struny. Segment 5 ustalajacy polozenie struny ma mozliwosc wykonywania niewielkiego ruchu obrotowego pozwalajacego na zblizenie lub oddalanie struny od walka oblewniczego 3 w okre¬ slonych granicach, które stanowi róznica srednic otworów pod sruby dociskowe i srub 7.Gniazdo 6 segmentu ustalajacego polozenie stru¬ ny ogranicza ruch segmentu jedynie do obrotowego w nieznacznych granicach, po zluzowaniu srub do¬ ciskowych 7. Calosc przymocowana jest do bocz¬ nych scianek 9 wanienki oblewniczej.W czasie pracy urzadzenia folia podlozowa 2 odtacza sie po walku oblewniczym "3, stykajac sie czescia obwodu z ciekla emulsja swiatloczula 8 znajdujaca sie w wanience oblewniczej 11. Staly poziom emulsji w wanience utrzymywany jest za pomoca ograniczników 10, które umozliwiaja je- Dokcnano joc!nsj poprawkf dnoczesnie oblew folii bez naniesienia emulsji na brzegach folii.Przy wyjsciu podloza 2 z wanienki 11 emulsja 8 tworzy menisk opierajacy sie jedna krawedzia 5 o folie podlozowa, 2, druga zas o powierzchnie stru¬ ny 1 naprezonej wzdluz walka oblewniczego 3.Wielkosc promienia krzywizny menisku majaca bezposredni wplyw na grubosc nakladanej na po¬ wierzchnie podloza warstwy emulsji, zalezy od od- 10 leglosci struny 1 od walka oblewniczego 3. Odleglosc ta moze byc regulowana przez zmiane polozenia segmentu ustalajacego 5.Urzadzenie wedlug wynalazku pozwala na zna¬ czne zmniejszenie promienia krzywizny menisku 15 emulsji, co umozliwia nalozenie cienszej warstwy emulsji, bez zmiany innych parametrów procesu, jak lepkosc emulsji, szybkosc ruchu podloza.Jednoczesnie struna pozwala na scisle utrzymanie wymaganych wymiarów szczeliny pomiedzy stru- 20 na a walkiem oblewniczym oraz uttiózrliwia latwa wymiane struny nawet w ciemni. Dodatkowa zaleta jest eliminacja obiegu wody dla termostatowania elementu regulujacego. 25 PL