PL46849B1 - - Google Patents

Description

Omiblikowano dnia 8 maja 1963 r. inublUtowano dnia 8 maja Vm*,A\ta BIBLIOTEKA Urzedu Pa:entow*fJ Polskiej Rzeciy?osjH)[He| LwInnH POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITE) LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 46849 KI. 15 1, 3 KI. internat. B 41 n Warszawska Fabryka Tiuorzyiu Sztucznych*) Warszawa, Polska Sposób wytwarzania klisz i stempli drukarskich Patent trwa od dnia 16 kwietnia 1962 r.Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwa¬ rzania klisz i stempli drukarskich nadajacych sie do drukowania i stemplowania wszystkimi znanymi rodzajami farb, atramentów, lakierów i innych na papierach, metalach, tworzywach sztucznych i tkaninach.Stosowane dotychczas do celów drukarskich klisze i stemple wykonane z gumy lub igelitu wykazuja szereg wad, powodujacych skrócenie czasu eksploatacji i utrudniajacych proces dru¬ kowania. Podstawowa wada tych klisz i stem¬ pli z gumy lub igelitu jest mala ich odpornosc na dzialanie rozpuszczalników wchodzacych w sklad farb drukarskich. Rozpuszczalniki niepo- larne powoduja rozpulchnienie gumy, a tym samym zniszczenie klisz lub stempli; rozpusz¬ czalniki polarne dzialaja niszczaco na klisze i stemple z igelitu .Równoczesnie klisze i stemple z gumy lub *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wynalazku jest Kazimierz Parasiewicz. igelitu wykazuja mala odpornosc na scieranie a przez to pogarsza sie jakosc druku i poza tym skraca czas uzytkowania klisz i stempli.Celem wynalazku sa klisze i stemple nie wy¬ kazujace powyzszych wad i umozliwiajace druk wszystkimi rodzajami farb, atramentów, lakie¬ rów i innych* na róznego rodzaju powierzch¬ niach np. na papierze, tkaninach, tworzywach sztucznych, metalach itp. Jednoczesnie chodzi o uzyskanie klisz i stempli o duzej odpornosci na scieranie, dajacych dobra ostrosc drukowa¬ nych wzorów. Cel ten zostal osiagniety przez zastosowanie polietwiu lub mieszanki polie¬ tylenu z kauczukiem jako materialu do wyrobu klisz i stempli.Klisze i stemple wytworzone z polietylenu lub z mieszanki polietylenu z kauczukiem spel¬ niaja wszystkie wymienione wyzej warunki i nadaja sie do drukowania na maszynach dru¬ karskich i stemplowania róznego rodzaju ma* terialów.Istota wynalazku jest sposób wytwarzaniaklisz i stempli z polietylenu lub z mieszanki polietylenu z kauczukiem, najlepiej kauczukiem butylowym, przez prasowanie ogrzanego do temperatury 110—190°C tworzywa z matryca negatywowa i ochlodzenie po wyprasowaniu do temperatury pokojowej pod cisnieniem, dla zapo¬ biezenia odksztalceniom.Do wytworzenia klisz i stempli sposobem wedlug wynalazku plytke polietylenu lub mie¬ szanki polietylenu z kauczukiem ogrzewa sie do temperatury 110—190°C, najlepiej wraz z matryca negatywowa i nastepnie prasuje przy uzyciu dowolnego typu prasy. Wielkosc cisnie¬ nia jest uzalezniona od powierzchni kliszy lub stempla i temperatury do kórej ogrzano two¬ rzywo. Po zakonczeniu prasowania chlodzi sie klisze lub stempel do temperatury pokójowei przy zachowaniu, cisnienia.Klisze i stemple otrzymane sposobem wedlug wynalazku mozna po zuzyciu przerobic na no* we klisze lub stemple o równie dobrej jakosci. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania klisz i stempli drukarz skich, do drukowania i stemplowania wszystki¬ mi znanymi farbami, atramentami, lakierami i innymi na papierach, tworzywach sztucznych^ metalach i tkaninach, znamienny tym, ze poli¬ etylen lub mieszanke polietylenu z kauczukiem, najlepiej butylowym, po ogrzaniu do tempera¬ tury 110—190°C prasuje sie pod cisnieniem z matryca a nastepnie chlodzi do temperatury pokojowej przy zachowaniu cisnienia. Warszawska Fabryka Tworzyw Sztucznych P.W.H. wzór jednorat. zam. PL/Ke, Czst. zam. 544 18.11.63 100 egz. pism. ki. 111 PL