PL441208A1 - Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej - Google Patents

Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej

Info

Publication number
PL441208A1
PL441208A1 PL441208A PL44120822A PL441208A1 PL 441208 A1 PL441208 A1 PL 441208A1 PL 441208 A PL441208 A PL 441208A PL 44120822 A PL44120822 A PL 44120822A PL 441208 A1 PL441208 A1 PL 441208A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
silicon substrate
heating
molecular beam
beam epitaxy
diode laser
Prior art date
Application number
PL441208A
Other languages
English (en)
Inventor
Marcin Władarz
Original Assignee
Prevac Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Prevac Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością filed Critical Prevac Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority to PL441208A priority Critical patent/PL441208A1/pl
Publication of PL441208A1 publication Critical patent/PL441208A1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • H10P95/90Thermal treatments, e.g. annealing or sintering

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Układ do ogrzewania podłoża krzemowego (1) w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej zawiera laser diodowy (2), którego wiązka laserowa (3) ogrzewa podłoże krzemowe (1). Układ zawiera ponadto pirometr (6) do pomiaru temperatury podłoża krzemowego (1), który to pirometr (6) jest podłączony do układu sterowania (4) lasera diodowego (2), przy czym układ sterowania (4) lasera diodowego (2) jest skonfigurowany do regulacji mocy wiązki (3) lasera diodowego (2) na podstawie odczytu temperatury z pirometru (6) w celu zapewnienia stabilnego, stałego poziomu temperatury podłoża krzemowego (1).
PL441208A 2022-05-17 2022-05-17 Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej PL441208A1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL441208A PL441208A1 (pl) 2022-05-17 2022-05-17 Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL441208A PL441208A1 (pl) 2022-05-17 2022-05-17 Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL441208A1 true PL441208A1 (pl) 2023-11-20

Family

ID=88838728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL441208A PL441208A1 (pl) 2022-05-17 2022-05-17 Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL441208A1 (pl)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07201735A (ja) * 1993-11-01 1995-08-04 Hitachi Ltd 化合物半導体の結晶成長方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07201735A (ja) * 1993-11-01 1995-08-04 Hitachi Ltd 化合物半導体の結晶成長方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6151446A (en) Apparatus and method for thermally processing substrates including a processor using multiple detection signals
CN110447151B (zh) 光发送机
JP2002520858A (ja) 外部空洞型レーザー
SE424022B (sv) Fiberoptiskt metdon for spektralanalys
PL441208A1 (pl) Układ do ogrzewania podłoża krzemowego w komorze do epitaksji z wiązki molekularnej
CN102692282A (zh) 温度测量装置和温度测量方法
US8500326B2 (en) Probe for temperature measurement, temperature measuring system and temperature measuring method using the same
CN102474357A (zh) 光收发器和光纤陀螺仪
KR19990072839A (ko) 레이저출력측정장치
US20110158269A1 (en) Laser module, control method of the same, control data of the same, and control data generation method
CN104298277A (zh) 半导体激光器自动温度控制系统
US10425216B2 (en) Optoelectronic circuit and a method for the transmission of an optical clock signal
CN101615758A (zh) 基于腔长热调节的双纵模激光器复合稳频方法与装置
US8976824B2 (en) Heat-swap device and method
TWI646314B (zh) 光學式溫度感測器及光學式溫度感測器之控制方法
JP3731518B2 (ja) 変調器および光送信器
Yang et al. Thermal stabilization of a microring resonator using bandgap temperature sensor
CN219266785U (zh) 一种基于pid调节升降压的tec控温电路
US20030231694A1 (en) Temperature-measuring device
JP2001244545A (ja) 半導体レーザモジュール
CN115454168B (zh) 一种激光器温度控制系统的软启动方法
Ming et al. High-Precision Dual-Channel TEC Temperature Controller for LiDAR Doppler Vibrometry System
JP3200161B2 (ja) 光発振周波数安定化方法及びその装置
CN222546891U (zh) 一种光纤光栅带温控功能的外腔激光器
Aleksandrov et al. Optical-fiber-tip temperature control system for fiber-coupled laser modules in medical equipment