PL42571B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL42571B1 PL42571B1 PL42571A PL4257159A PL42571B1 PL 42571 B1 PL42571 B1 PL 42571B1 PL 42571 A PL42571 A PL 42571A PL 4257159 A PL4257159 A PL 4257159A PL 42571 B1 PL42571 B1 PL 42571B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- ring
- parallel
- plane
- plate
- microphone
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 210000001061 forehead Anatomy 0.000 claims 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Description
Opublikowano dnia 28 grudnia 1959 r.POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr42571 KI. 21 a2, 3 Marek Kmiek Poznan, Polska Tadeusz Sobkoiuiak Poznan, Polska Henryk Pupka Poznan, Polska Sposób uzyskania dokladnie równoleglych okladek w mikrofonie kondensatorowym Patent trwa od dnia 15 stycznia 1959 r.Mikrofon kondensatorowy jest przetwórni- okladka oraz plyta A, która jest wewnetrzna kiem elektroakustycznym^ uzywanym do prze- okladka nieruchoma (fig. 1, 2). Dotychczasowe miany cisnienia akustycznego na napiecie elek- konstrukcje mikrofonów kondensatorowych nie tryczne i zasada jego dzialania jest powszech- rozwiazuja problemu równoleglosci plaszczyzn nie znana. Ze wzgledu na dobra charaktery- okladek w stopniu koniecznym dla wysokiej styke czestosci oraz male znieksztalcenia nie- klasy mikrofonu pomiarowego. Nie wystarcza liniowe ten typ mikrofonów nadaje sie szcze- jednak podac rozwiazania konstrukcyjnego, dla golnie do celów pomiarowych. którego uzyskanie równoleglosci okladek kon- Na rysunku fig. 1 przedstawia pojedyncze densatora, tj. membrany i plytki jest mozliwe, elementy mikrofonu kondensatorowego, fig. 2 — ale jest istotne podanie sposobu uzyskiwania przekrój przez mikrofon kondensatorowy, a fig. tej równoleglosci w trakcie wykonania czesci 3 — korpus mikrofonu, skladowych mikrofonu.Warunkiem uzyskania dobrej przemiany elek- Korpus mikrofonu K jest walcowata rura. troakustycznej jest dokladna równoleglosc mie- Obie podstawy tego walca C oraz Q (fig. 1), dzy okladkami kondensatora, to jest miedzy dostepne przed zlozeniem mikrofonu sa do- membrana M, która jest zewnetrzna, ruchoma kladnie i równolegle do siebie oszlifowane.Frzy skladaniu mikrofonu praednia powierz¬ chnia C oraz dokladnie oszlifowana powierzchnia pierscienia D zaciskaja brzegi membrany, na¬ tomiast tylna powierzchnia Q sluzy jako pre¬ cyzyjna powierzchnia odniesienia dla ukladu równoleglych plaszczyzn w mikrofonie.Wewnetrzny zespól czesci Wv W2, W3 mikro¬ fonu pod wzgledem geometrycznym stanowi równiez zespól plytek .plasko-równoleglych, przy czym plytki W^ oraz W2 sa plytkami z materia¬ lu izolacyjnego wysokiej jakosci (bursztynu lub polistyrenu). Plytka W3 stanowi konstrukcyjnie wewnetrzna okladke kondensatora. Jednak na¬ wet przy dokladnym oszlifowaniu tych plytek jako plasko-równoleglych, drobne odstepstwa plytki Wx od plaskosci, a W2 i W3 od plasko- równoleglosci sumuja sie i Joez podjecia spe¬ cjalnych kroków przy wykonczeniu mikrofonu powierzchnia C korpusu nie jest wystarczajaco dokladnie równolegla do powierzchni A plytki W3.Miedzy membrana M a powierzchnia A plytki W3 musi byc odleglosc rzedu wielkosci kilku setnych milimetra, równiez przy scislym za¬ chowaniu równoleglosci obu powierzchni. Spro¬ wadza sie to do wymagania, aby powierzchnia B pierscienia P nakreconego na plytke W2 byla równiez dokladnie równolegla do powierzchni C oraz A.Dla uzyskania równoleglosci tych trzech plaskich powierzchni w zmontowanym mikro¬ fonie, sprowadza sie je do jednej plaszczyzny L w czasie obróbki wykonczeniowej w nizej opi¬ sany sposób. Pomiedzy plytke W± (fig. 3) a po¬ wierzchnie Q korpusu wklada sie pierscien plasko-równolegly o najwyzszej dokladnosci m takiej grubosci, aby plaszczyzna A oraz plaszczyzna C znalazly* sie w jednej idealnej plaszczyznie geometrycznej. Pierscien P obraca sie o kilka stopni, nakrecajac go na gwint plytki W2, dzieki czemu jego powierzchnia B zostaje równiez przesunieta do idealnej pla¬ szczyzny geometrycznej L wspólnej dla po¬ wierzchni A oraz C. Gwint plytki Wg ma przy tym skok dostatecznie duzy, aby zapewnic za¬ dane przesuniecie .powierzchni B przez bardzo nieznaczny obrót pierscienia V, na przyklad dla przesuniec rzedu 0,01 + 0,03 mm moze to byc gwint „mikrometryczny" o skoku 1 mm.Znaczniejszy kat obrotu móglby byc przyczy¬ na pogorszenia równoleglosci, gdyby os gwintu nie byla dokladnie prostopadla do plaszczyzny L.Sprowadziwszy w ten sposób plaszczyzny A, B i C do wspólnego polozenia w przestrzeni prze¬ prowadza sie ostatnia obróbke wykonczeniowa — szlif optyczny i politure — która prowadzi sie tylko tak daleko, aby zniesc drobne od¬ stepstwa powierzchni A, B i C od stanu ideal¬ nego tworzenia jednej plaszczyzny geometrycz¬ nej. Nastepnie przeprowadza sie wykonczone plaszczyzny w swoje wlasciwe polozenia, przy czym nalezy nie tylko wyjac pierscien plasko- równolegly R z pomiedzy plytki Wx i powierz¬ chni Q korpusu oraz obrócic z powrotem pier¬ scien P, ale skladajac korpus z zespolem wewnetrznym nalezy zachowac miedzy nimi te same stosunki katowe, gdyz wiekszy obrót zespolu wewnetrznego wzgledem korpusu mógl¬ by wprowadzic pewne bledy (zreszta bardzo male), gdyby w wyniku obróbki wykonczenio¬ wej pogorszyla sie plasko-równoleglosc korpusu K lub plytki W3. Zachowanie wzglednego po¬ lozenia katowego moze ulatwic laczenie korpu¬ su z zespolem wewnetrznym za pomoca srubek. PL
Claims (4)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób uzyskania dokladnie równoleglych okladek w mikrofonie kondensatorowym, znamienny tym, ze trzy powierzchnie podsta¬ wy (C) korpusu (K), czola. (B) pierscienia (P) oraz powierzchnie (A) zespolu wewnetrzne¬ go (Wv W2, W8) przesuwa sie równolegle do wspólnej plaszczyzny (L) i nastepnie tym trzem powierzchniom wspólnie nadaje sie szlif i politure optyczna oraz tym, ze po¬ wierzchnie (A) zespolu wewnetrznego przesu¬ wa sie równolegle przez wprowadzenie na czas obróbki plasko-równoleglego pierscienia (R) miedzy plytke (W±) zespolu wewnetrzne¬ go a powierzchnie podstawy (Q) korpusu (K), natomiast przesuniecie plaszczyzny (B) czola pierscienia (P), napinajacego membrane wzgledem powierzchni (A), bedacej' okladka nieruchoma kondensatora, wykonuje sie przez bardzo nieznaczny obrót pierscienia (P) na • nagwintowanej pobocznicy plytki (W2) zespo¬ lu wewnetrznego.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze na czas obróbki wykonczeniowej przesu¬ wa sie powierzchnie (A) wewnetrznej nie¬ ruchomej okladki kondensatora, czola (B) pierscienia napinajacego membrane oraz czo¬ la (C) korpusu mikrofonu, które po obróbce maja byc dokladnie równolegle, do jednej ' plaszczyzny (L), i to plaszczyzne (A) przez wlozenie plasko-równoleglego pierscienia dy¬ stansujacego miedzy powierzchnie (Q) podsta¬ wy korpusu a tylna plytke (W^) zespolu wewnetrznego, a plaszczyzne (B) pierscienia (P) przez obrócenie go o nieznaczny kat na - ?gwincie (G) srodkowej plytki (W2) zespolu wewnetrznego (W1, W2, W3).
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze korpus (K) mikrofonu oraz plytki sklado¬ we (W1, W2, W:i) zespolu wewnetrznego wy¬ konuje sie jako walcowate plytki plasko- równolegle, przy czym nagwintowana pobocz- nica plytki srodkowej (W2) zespolu wewnetrz¬ nego jest szczególnie dokladnie prostopadla do jej podstaw.
- 4. Sposób wedlug zastrz. 1—3, znamienny tym, ze katowe polozenie zespolu wewnetrznego (W1, W2, W3) wzgledem korpusu (K) przy obróbce wykonczeniowej powierzchni (A, B i C), sprowadzonych do jednej plaszczyzny. (L) jest takie same, jak przy ostatecznym montazu mikrofonu. Sposób wedlug zastrz. 1—4, znamienny tym, ze przesuniecie równolegle czola (B) pierscie¬ nia (P) odbywa sie przez przekrecenie go na gwincie (G) plytki (W2) zespolu wewnetrzne¬ go (W1, W2, W3) o bardzo nieznaczny kat przy odpowiednio duzym skoku tego gwintu. Marek K w i e k Tadeusz Sobkowiak Henryk Pupka w« wv w3 * < CMD K T M W,"R K mm WZTA PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL42571B1 true PL42571B1 (pl) | 1959-10-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2258593A (en) | Method of calibrating roentgenographic machines | |
| TWI739732B (zh) | 基板固持器、藉由基板固持器保持基板之方法、及鍍覆裝置 | |
| US10362407B2 (en) | Condenser microphone unit and condenser microphone | |
| GB874509A (en) | Improvements in or relating to radio horns | |
| US20240347334A1 (en) | Electrostatic ion trap | |
| US2574707A (en) | Magnetic head and mount therefor | |
| KR0179663B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
| PL42571B1 (pl) | ||
| TW201202001A (en) | Metal mold positioning and fixing device | |
| US3859956A (en) | Multiworkpiece condensation coating apparatus | |
| US1809197A (en) | Method of production of generator armatures | |
| US2897288A (en) | Device for adjusting the air-gap position of magnetic heads | |
| CN108089116B (zh) | 一种可旋转的探针卡 | |
| US2412438A (en) | Piezo-crystal holder | |
| CN217190378U (zh) | 壳体喷涂电镀治具以及壳体喷涂电镀组件 | |
| TWI711712B (zh) | 鍍膜設備 | |
| CN112786306A (zh) | 一种夹持装置 | |
| CN212083784U (zh) | 一种光学镜头组装结构 | |
| JPS58204464A (ja) | 四重極質量分析装置 | |
| US2757299A (en) | Alignment adjustment devices for drag cup motors | |
| SU413494A1 (pl) | ||
| GB779462A (en) | Improvements in or relating to electron lenses | |
| TW517305B (en) | Lower electrode of plasma etcher | |
| JPH04184257A (ja) | 磁気回転センサ | |
| Leifer et al. | Investigation of Spectral Sensitization V. A Study of the Visible and Infrared Spectra of Some Very Pure 2-bis-Benzoxazolyl, 2-bis-Indolinyl, and 2-bis-Quinolyl Cyanine Iodides |