PL425014A1 - Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem - Google Patents

Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem

Info

Publication number
PL425014A1
PL425014A1 PL425014A PL42501418A PL425014A1 PL 425014 A1 PL425014 A1 PL 425014A1 PL 425014 A PL425014 A PL 425014A PL 42501418 A PL42501418 A PL 42501418A PL 425014 A1 PL425014 A1 PL 425014A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
titanium
oxygen
precursor
coating
reactor
Prior art date
Application number
PL425014A
Other languages
English (en)
Other versions
PL239495B1 (pl
Inventor
Damian Batory
Anna Jędrzejczak
Mariusz Dudek
Piotr Niedzielski
Michał Cichomski
Ireneusz Piwoński
Aneta Kisielewska
Original Assignee
Politechnika Łódzka
Uniwersytet Łódzki
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Łódzka, Uniwersytet Łódzki filed Critical Politechnika Łódzka
Priority to PL425014A priority Critical patent/PL239495B1/pl
Publication of PL425014A1 publication Critical patent/PL425014A1/pl
Publication of PL239495B1 publication Critical patent/PL239495B1/pl

Links

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób wytwarzania warstwy węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem na powierzchniach metalicznych, zwłaszcza na powierzchni implantów medycznych oraz weterynaryjnych, z wykorzystaniem nanoszenia powłoki w procesie RF PACVD polegający na umieszczeniu pokrywanego elementu na spolaryzowanej ujemnie elektrodzie roboczej reaktora plazmo-chemicznego i w pierwszej kolejności trawieniu powierzchni argonem, w obecności niskociśnieniowej plazmy wyładowania o częstotliwości radiowej, a następnie, po odcięciu dopływu argonu, wprowadzeniu do komory reaktora gazu węglonośnego oraz par prekursora charakteryzujący się tym, że stosuje się prekursor tlenu i tytanu, przy czym nanoszenie powłoki węglowej zawierającej tlen i tytan w procesie RF PACVD prowadzi się przy ujemnym potencjale elektrody roboczej równym 200 – 1200 V, zaś gaz węglonośny oraz prekursor tlenu i tytanu wprowadza się jednocześnie w takiej ilości aby ciśnienie w reaktorze było równe 6 - 60 Pa, w czasie uzależnionym od wymaganej grubości powłoki.
PL425014A 2018-03-26 2018-03-26 Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem PL239495B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL425014A PL239495B1 (pl) 2018-03-26 2018-03-26 Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL425014A PL239495B1 (pl) 2018-03-26 2018-03-26 Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL425014A1 true PL425014A1 (pl) 2019-10-07
PL239495B1 PL239495B1 (pl) 2021-12-06

Family

ID=68099318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL425014A PL239495B1 (pl) 2018-03-26 2018-03-26 Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL239495B1 (pl)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6447295B1 (en) * 1999-04-15 2002-09-10 Nobel Biocare Ab Diamond-like carbon coated dental retaining screws
EP2196557A1 (en) * 2008-12-10 2010-06-16 Air Products And Chemicals, Inc. Precursors for depositing group 4 metal-containing films
EP2330109A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-08 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid precursor for depositing group 4 metal containing films
US20150240944A1 (en) * 2012-08-10 2015-08-27 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Sliding element, in particular piston ring, having resistant coating
CN106282935A (zh) * 2015-05-15 2017-01-04 新科实业有限公司 具有类金刚石涂层的材料及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6447295B1 (en) * 1999-04-15 2002-09-10 Nobel Biocare Ab Diamond-like carbon coated dental retaining screws
EP2196557A1 (en) * 2008-12-10 2010-06-16 Air Products And Chemicals, Inc. Precursors for depositing group 4 metal-containing films
EP2330109A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-08 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid precursor for depositing group 4 metal containing films
US20150240944A1 (en) * 2012-08-10 2015-08-27 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Sliding element, in particular piston ring, having resistant coating
CN106282935A (zh) * 2015-05-15 2017-01-04 新科实业有限公司 具有类金刚石涂层的材料及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
T. M. MANHABOSCO I. L. MULLER, TRIBOCORROSION OF DIAMOND-LIKE 1 CARBON DEPOSITED ON TI6A14V -TRIBOLOGY LETTERS, March 2009 (2009-03-01) *

Also Published As

Publication number Publication date
PL239495B1 (pl) 2021-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200708209A (en) Plasma processing apparatus and plasma processing method
US10378095B2 (en) TiB2 layers and manufacture thereof
TWI346145B (en) Voltage non-uniformity compensation method for high frequency plasma reactor for the treatment of rectangular large area substrates
TW200704818A (en) Process for forming zinc oxide film
US20110274852A1 (en) Method for producing diamond-like carbon film
JP2014136836A (ja) 硬質膜が被覆されたステンレス製品及びその製造方法
WO2021044140A3 (en) Chemical vapor deposition process for producing diamond
PL425014A1 (pl) Sposób wytwarzania powłoki węglowej domieszkowanej tytanem i tlenem
US8721845B2 (en) Coated article and method for making same
JP2016032028A5 (pl)
JP6872453B2 (ja) 窒化バナジウム膜、窒化バナジウム膜の被覆部材およびその製造方法
KR101324763B1 (ko) 반도체 제조장비용 부품의 코팅장치 및 그 코팅방법
Kutsay et al. Surface properties of amorphous carbon films
JP2014105350A (ja) プラズマcvd装置及び膜の製造方法
TWI554633B (zh) 類鑽碳膜及其製作方法
KR20160009504A (ko) 압출금형의 표면처리방법, 압출금형 및 압출공정시스템
RU2611003C1 (ru) Способ ионного азотирования титановых сплавов
RU2596554C1 (ru) Способ вакуумно-плазменного азотирования изделий из нержавеющей стали в дуговом несамостоятельном разряде низкого давления
KR101412070B1 (ko) 스크라이버 고정핀에 다이아몬드 라이크 카본 박막을 증착하기 위한 방법 및 장치와 이를 이용한 스크라이버 고정핀
JPS60125366A (ja) 部材の表面処理方法
RU2656191C1 (ru) Устройство для обработки изделия из стали в плазме тлеющего разряда
ATE533872T1 (de) Verfahren und vorrichtung zum aufbringen eines überzugs auf ein substrat
WO2015119199A1 (ja) 管状体内にプラズマを発生させる発生装置
RU2009130532A (ru) Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме
Krysina et al. Generation of a low-temperature plasma of arc discharge and its use for modifying the surfaces of materials