PL416263A1 - Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza - Google Patents

Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza

Info

Publication number
PL416263A1
PL416263A1 PL416263A PL41626316A PL416263A1 PL 416263 A1 PL416263 A1 PL 416263A1 PL 416263 A PL416263 A PL 416263A PL 41626316 A PL41626316 A PL 41626316A PL 416263 A1 PL416263 A1 PL 416263A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
connector
zinc oxide
conductivity
zno
Prior art date
Application number
PL416263A
Other languages
English (en)
Other versions
PL234163B1 (pl
Inventor
Elżbieta Guziewicz
Mieczysław Pietrzyk
Ewa Przeździecka
Dymitr Snigurenko
Original Assignee
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk filed Critical Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority to PL416263A priority Critical patent/PL234163B1/pl
Publication of PL416263A1 publication Critical patent/PL416263A1/pl
Publication of PL234163B1 publication Critical patent/PL234163B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest złącze na bazie czystego tlenku cynku (ZnO) lub tlenku cynku domieszkowanego magnezem (ZnMgO) czy kadmem (ZnCdO) oraz sposób wykonania takiego złącza z wykorzystaniem technologii epitaksji z wiązek molekularnych (MBE) oraz technologii osadzania warstw atomowych (ang. Atomie Layer Deposition, ALD). Złącze to przeznaczone jest do zastosowania w optoelektronice w charakterze diody świecącej albo w sensoryce, zwłaszcza jako czujnik nadfioletu. Jedną część złącza o typie przewodnictwa n lub p stanowią znajdujące się na zorientowanym krystalograficznie podłożu, korzystnie krzemowym lub szafirowym nanokolumny z niedomieszkowanego lub domieszkowanego ZnO. Natomiast drugą część złącza, o przeciwnym typie przewodnictwa, stanowi znajdująca się na nanokolumnach warstwa tlenku cynku i pokrywająca całkowicie te nanokolumny. Sposób polega na tym, że najpierw w procesie MBE osadza się na podłożu półprzewodnikowym lub izolującym, w temperaturze od 400 do 600°C warstwę ZnO o n lub p typie przewodnictwa, przy czym wzrost warstwy prowadzi się w warunkach bogatych w tlen. Następnie otrzymaną strukturę w postaci warstwy i nanokolumn pokrywa się w procesie ALD warstwą o przeciwnym typie przewodnictwa i o grubości od 50 do 500 nm.
PL416263A 2016-02-25 2016-02-25 Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza PL234163B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL416263A PL234163B1 (pl) 2016-02-25 2016-02-25 Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL416263A PL234163B1 (pl) 2016-02-25 2016-02-25 Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL416263A1 true PL416263A1 (pl) 2017-08-28
PL234163B1 PL234163B1 (pl) 2020-01-31

Family

ID=59684532

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL416263A PL234163B1 (pl) 2016-02-25 2016-02-25 Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL234163B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL234163B1 (pl) 2020-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Qian et al. Ultrahigh-responsivity, rapid-recovery, solar-blind photodetector based on highly nonstoichiometric amorphous gallium oxide
Look Progress in ZnO materials and devices
JP6027970B2 (ja) 半導体ドナーから分離された層を使用するオプトエレクトロニクスデバイスの製造方法、およびそれによって製造されたデバイス
GB2525332A (en) Epitaxial film growth on patterned substrate
IL196477A0 (en) Method of fabricating semiconductor devices on a group iv substrate with controlled interface properties and diffusion tails
US8884268B2 (en) Diffusion barrier layer for group III nitride on silicon substrate
BR112015024056A2 (pt) estrutura fotovoltaica e processo para fabricar um dispositivo fotovoltaico
Saron et al. Interface properties determined the performance of thermally grown GaN/Si heterojunction solar cells
TW200633277A (en) Method for producing a nanostructured pn junction light-emitting diode and diode obtained by such a method
KR101467237B1 (ko) 반도성 박막과 절연성 박막으로 적층형성된 초격자구조 박막이 구비된 반도체소자
TW200746454A (en) Semiconductor light-emitting device and fabricating method of the same
Wang et al. The function of a 60-nm-thick AlN buffer layer in n-ZnO/AlN/p-Si (111)
PL412250A1 (pl) Struktura ogniwa fotowoltaicznego oraz sposób wykonania struktury ogniwa fotowoltaicznego
JP2020053523A5 (pl)
Mahmood et al. Enhancement of thermoelectric properties of MBE grown un-doped ZnO by thermal annealing
PL416263A1 (pl) Złącze elektryczne na bazie tlenku cynku oraz sposób wykonania tego złącza
Nguyen et al. Epitaxial growth of nonpolar ZnO and n-ZnO/i-ZnO/p-GaN heterostructure on Si (001) for ultraviolet light emitting diodes
GB2580827A (en) Heterojunction Diode having a narrow bandgap semiconductor
CN107068812B (zh) 基于c面SiC衬底的c面Ⅲ族氮化物的发光二极管
JP2010245444A5 (pl)
KR20160031751A (ko) 반도체 소자
CN107331663B (zh) 一种iii族氮化物和硅异质集成衬底及其制作方法
Chen et al. Broadband Photo/Gas Dual Sensors Enabled by ZnO Nanorod/Graphene Hybrid Structures
Kwietniewski et al. Electrical characterization of ZnO/4H‐SiC n–p heterojunction diode
Pattanasattayavong Solution-processable hole-transporting inorganic semiconductors for electronic applications