PL40511B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 16 grudnia 1957 r. 2oa «t a % tSIBulOTEKA Urzedu Patentowego P»lsticii!;js;j|i3S8clitt(LHwi| POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 40511 Stanislaw Hempel Oswiecim, Polska KI. 12 c, 2 £oAd 9jol Sposób wytracania osadów drobnoziarnistych, o silnie rozwinietej powierzchni Patent trwa od dnia 20 sierpnia 1956 r.Wytracanie osadów powstajacych na drodze reakcji chemicznej miedzy dwoma cieczami, przeprowadza sie najczesciej przez wlewanie jednej cieczy do drugiej przy ich równoczesnym mieszaniu. Im wieksza szybkosc mieszania, tym drobniejsze uziarnienie posiada wytracony osad i tym wieksza jest jego powierzchnia. Szybkie wytracanie osadów wieloskladnikowych prowa¬ dzi do otrzymania krysztalów mieszanych.Krysztaly mieszane o wysoce rozwinietej po¬ wierzchni nadaja sie szczególnie jako kataliza¬ tory.Stwierdzono, ze drobnoziarniste mieszane kry¬ sztaly o silnie rozwinietej powierzchni mozna otrzymac przez rozpylenie jednej cieczy i wpro¬ wadzenie jej w formie drobnych kropelek na powierzchnie cieczy drugiej, poddawanej równo¬ czesnie mieszaniu.Rozpylanie cieczy moze nastepowac w urza¬ dzeniu mechanicznym lub tez za pomoca stru¬ mienia gazu pod cisnieniem, który równoczesnie moze odgrywac role czynnika reagujacego. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytracania osadów drobnoziarnistych o silnie rozwinietej powierzchni przez zmie¬ szanie dwóch reagujacych ze soba cieczy, znamienny tym, ze jedna ciecz rozpyla sie i wprowadza w formie drobnych kropelek na powierzchnie drugiej cieczy, poddawanej równoczesnie mieszaniu.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze rozpylanie cieczy przeprowadza sie w urza¬ dzeniu mechanicznym, lub za pomoca stru¬ mienia gazu pod cisnieniem, który moze od¬ grywac role czynnika reagujacego. Stanislaw Hempel PL