PL39662B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 20 faff 1957 r.POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 39662 KI. 57 d, 1/01 Lódzkie Zaklady Graficzne*) Przedsiebiorstwo Panstwowe Lódz, Polska Sposób wytwarzania diapozytywu o kpn turze rozwianym do reprodukcji offsetowej, rotograwiurowej lub chemigraficznej Patent trwa od dnia 26 pazdziernika 1955 r.Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania dia¬ pozytywu o konturze rozwianym do reproduk¬ cji offsetowej, rotograwiurowej lub chemigra¬ ficznej z negatywu fotograficznego.Wytwarzanie diapozytywu o konturze roz¬ wianym wymaga bardzo dlugotrwalej pracy do wykonywania retuszu na negatywie fotogra¬ ficznym, wskutek czego retusz ten jest rzecza bardzo kosztowna.Stwierdzono, ze otrzymuje sie w sposób szyb- "ki i tani diapozytyw o konturze rozwianym, zasadniczo o dowolnym stopniu rozwiania, je¬ zeli zamiast retuszu zastosuje sie gruba szybe szklana przy robieniu diapozytywu.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze jia szybce kopioramy umieszcza sie maske z czarnego papieru. Maska ta posiada wyciety otwór o pozadanym konturze. Na maske nakla- *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wy¬ nalazku jest Tadeusz* Zynda. da sie szybe szklana. Ód grubosci tej szyby szklanej zalezny jest stopien rozwiania kon¬ turu. Im grubszej uzywa sie szyby, tym stopien rozwiania konturu jest wiekszy. Na szybe szklana naklada sie nastepnie negatyw, a na niego klisze fotograficzna, z której po na¬ swietlaniu, wywolaniu i utrwaleniu, otrzymuje sie w znany sposób diapozytyw.Podczas kopiowania z negatywu promienie swietlne, padajace na szybke kopioramki, po przejsciu szybki tej padaja na gruba szybe szklana, a nastepnie przechodza przez negatyw i padaja na klisze fotograficzna. Na brzegach otworu, wykonanego w masce z papieru czar¬ nego, czesc promieni swietlnych zostaje przy przejsciu przez gruba szybe szklana pochlonie¬ ta, wskutek czego brzegi konturu w negatywie sa coraz slabiej naswietlane w kierunku od¬ srodkowym, dzieki czemu na diapozytywie wy¬ twarza sie kontur rozwiany. PL

Claims (1)

Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania diapozytywu o konturze rozwianym do reprodukcji offsetowej, rotogra¬ wiurowej lub chemigraficznej, znamienny tym, ze na szybke kopioramy naklada sie maske, posiadajaca otwór o pozadanym konturze, na maske naklada sie gruba szybe szklana, naste¬ pnie negatyw i wreszcie klisze fotograficzna, po czym klisze naswietla, wywoluje i utrwala znanymi metodami. Lódzkie Zaklady Graficzne Przedsiebiorstwo Panstwowe Zastepca: Kolegium Rzeczników Patentowych Bltk 80 2.

1.57 100 B-5 ki. 7 gv 60 T-7-1541 PL